화학기상증착법에 의한$TiO_2$ 박막의 구조 및 전기적 특성에 관한 연구
(Characterization of Structure and Electrical Properties of $TiO_2$ Thin Films Deposited by MOCVD)
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- 한국재료학회지
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- 제5권1호
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- pp.3-11
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- 1995