정상 한국인 청년 100명의 안구돌출계를 측정하였다. Hertel 안구돌출계를 사용하여 측정한 검사대상 전체의 평균 안구돌출계는 검사자 A, B 각각의 측정결과에서 우안에서는 $14.8{\pm}0.51mm$와 $13.7{\pm}0.42mm$였고, 좌안에서는 $14.2{\pm}0.46mm$와 $13.6{\pm}0.42mm$로 나타났으며 우안의 안구돌출계치가 좌안보다 약간 더 높았다. 청년 남 여에서 양안의 차이 및 시력의 차이에 따른 안구돌출계치는 유의성 있는 차이가 없었다. A, B 두 검사자가 전체 대상자 100명에 대해 실시한 측정에서 각 대상자에 대한 측정값의 변위계수들의 전체 평균은 각각 우안에서는 3.53%와 3.10%였고, 좌안에서는 3.32%와 3.11%였다. 외안와연간 평균거리는 A, B 각각의 측정결과에서 남성에서는 $106.7{\pm}1.13mm$와 $108.4{\pm}1.08mm$였고, 여성에서는 $103.4{\pm}1.23mm$와 $104.8{\pm}1.02mm$였다.
목적 : 최근 NF-${\kappa}B$와 STAT3의 활성억제와 관련된 항암제 연구가 주목받고 있으며, 본 연구는 사독(蛇毒)이 세포자멸사 관련 단백질의 발현 조절을 통하여 세포자멸사를 유도하고, NF-${\kappa}B$와 STAT3의 활성억제를 유도하여 난소암 PA-1 세포의 성장을 억제하는지를 확인하고, 해당 기전을 살펴보고자 하였다. 방법 : 사독을 처리한 후 난소암 PA-1 세포의 세포자멸사의 관찰에는 DAPI, TUNEL staining assay를 시행하였고, 세포자멸사 조절단백질 및 NF-${\kappa}B$, STAT3의 활성 변동 관찰에는 western blot analysis를 시행하였다. 결과 : 1. 사독을 처리한 후 난소암 PA-1 세포에서 세포자멸사가 유도되어 암세포성장이 억제되었다. 2. 사독을 처리한 후 세포자멸사 관련 단백질 중 세포자멸사 촉진 단백질인 cleaved caspase-3, Bax의 발현은 증가되었고, 세포자멸사 억제 단백질인 Bcl-2의 발현은 감소되었다. 3. 사독을 처리한 후 난소암 PA-1 세포의 NF-${\kappa}B$와 STAT3 발현은 감소되었고, 각각의 길항제인 salicylic acid와 stattic 처리 후 NF-${\kappa}B$와 STAT3 발현은 더욱 감소되었다. 결론 : 사독은 난소암 세포의 세포자멸사 유발과, NF-${\kappa}B$와 STAT3의 활성억제를 통해 치료 효율이 높고, 내성이 적은 난소암 치료제의 개발에 도움이 될 것으로 기대된다.
수도(水稻)와 너도방동사니간의 Bensulfuron 선택성(選擇性) 기작(機作)을 밝히고자 $^{14}C$-bensulfuron을 공시(供試)하여 식물체(植物體)간 Bensulfuron의 흡수(吸收), 移行(이행) 및 대사(代謝)를 연구(硏究)하였다. 1. Bensulfuron 흡수량(吸收量)은 줄기보다 뿌리에서 월등히 많았으며 너도방동사니보다 수도(水稻)에서 현저하게 높았다. 2. 뿌리로 부터 줄기로의 Bensulfuron 이행속도(移行速度)는 수도(水稻)보다 너도방동사니에서 빨랐으며 이행량(移行量)도 많았다. 3. Bensulfuron의 대사속도(代謝速度)는 수도(水稻)에서는 현저하게 빨랐으나 너도방동사니에서는 매우 느린 경향이었다. 4. 따라서 수도(水稻)의 내성(耐性)은 빠른 대사속도(代謝速度)에 주로 기인(基因)하며 부분적으로 느린 이행속도(移行速度)와도 관련이 있으며 너도방동사니의 감수성(感受性)은 느린 대사속도(代謝速度)와 빠른 이행속도(移行速度)와 관련이 있을 것으로 사료(思料)되었다.
Meso-(mesityl)dipyrromethane(MS-DPM)과 4-nitrobenaldehyde로부터 5,15-bis(mesityl)-10,20-bis(4-amino)porphyrin[mesityl-$TPP(NH_2)$]을 합성하였다. Mesityl-$TPP(NH_2)$는 UV spectrophotometer[Soret-band(438 nm), Q-band(526, 572, 611 nm)]와 $^1H$-NMR spectroscopy에 의해 그 구조를 확인하였다. 3,3',4,4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride(BTDA)와 2,2-bis(4-(4-aminophenoxy)-phenyl)hexafluoropropane(BAPHF)를 mesityl-$TPP(NH_2)$와 축합시켜 porphyrin 구조를 포함하는 copolyimide를 합성하였다. 제조된 copolyimide 역시 UV spectrophotometer [Soret-band (428 nm), Q-band (558 nm, 599 nm)]와 FT-IR spectrophotometer를 이용하여 그 구조를 확인하였고, 열분석 결과 $T_g$와 $T_m$은 각각 220.7와 $369.2^{\circ}C$였다.
본 연구는 InterPARES 3와 ITrust의 배경, 주요 연구분야, 주요 연구성과를 소개하고, IP 3와 ITrust 주요 연구내용의 비교분석을 통하여 InterPARES 프로젝트의 기록관리에 대한 개념 및 변화를 이해하고자 하였다. 이를 위해 IP 3와 ITrust 연구프로젝트에 대한 내용분석을 수행하였으며 이를 통해 주요 키워드를 도출하고, 연구프로젝트 제목을 워드클라우드로 도식화하여 IP 3와 ITrust 비교에 활용하였다. IP 3와 ITrust 연구결과를 환경, 범위, 주제, 키워드, 연구목표, 기록관리 생애주기관점에서 비교분석하였다. 연구결과 InterPARES는 1) 장기보존 뿐만 아니라 생애주기 전반에 적용될 수 있는 분야로, 2) 진본성의 개념에서 신탁의 개념으로, 3) 전자기록에서 인터넷, 디지털 포렌식, 열린정부 또는 공공데이터 등을 포함하는 범위로 연구의 내용과 주제가 광범위하게 확장되고 있음을 파악하였다.
Thymosin ${\beta}4$ 는 대장암에서 암 줄기세포 마커인 CD133을 지닌 세포에서 지니지 않은 세포에 비해 강하게 발현된다고 보고되어 있다. 본 연구에서는 thymosin ${\beta}4$와 줄기세포 마커인 CD133의 상관관계를 정상 위 조직에서 관찰하였다. Thymosin ${\beta}4$와 CD133의 발현 양상은 tissue microarray 조직상에서 면역화학적 방법으로 관찰하였으며 thymosin ${\beta}4$와 CD133의 존재 위치는 면역형광 염색법 및 confocal microscope를 사용하여 조사하였다. Thymosin ${\beta}4$와 CD133은 동일한 양상으로 발현되었으며 모두 위의 선조직에서 강하게 발현되었다. 면역 형광 염색법으로 두가지 단백질을 동시에 염색한 결과 두 단백질이 동일한 위치에서 함께 존재하는 것으로 규명되었다. 이러한 결과는 thymosin ${\beta}4$와 CD133은 정상위의 선조직에서 발현되며 두 단백질의 발현 양상 및 위치가 동일하여 서로 긴밀한 상호작용을 할 가능성을 제시하고 있다.
Calcium Silicate의 생성 및 분해에 미치는 $K_2SO_4$와 $MgSO_4$의 영향을 비교 검토하였으며 Calcium Silicate의 생성을 최대로 하는 $SO_3$, MgO와 $K_2O$의 최적비를 반응표면분석기법으로 조사하였다. $K_2SO_4$의 혼합비 증감에 따라 $C_3S$의 생성촉진에 미치는 영향은 없었다. $C_3S$의 조합원료에 $CaSO_4$를 4.0wt$\%$이상 첨가시 $CaSO_4$는 $C_2S$주위에 Sulphate reaction rim을 형성함으로써 $C_2S$와 CaO의 반응을 방해해 $C_3S$의 생성을 억제하였으나 적당량의 MgO가 첨가되면 $CaSO_4$가 4.0wt$/%$이상이라도 $C_3S$의 생성은 억제되지 않았다. $C_3S$의 생성을 최대로 하기 위한 $SO_3$, MgO와 $K_2O$의 최적비를 반응표면분석기법을 이용하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. $K_2SO_4$는 $K_2O$에 비해 소결에 미치는 영향이 적으므로 크링카에 고용되고 남은 $K_2O$는 전량 $K_2SO_4$로 전환시켜야한다. 2. $SO_3$와 $K_2O$의 최적비율은 1.5이다. 3. $CaSO_4$와 MgO의 최적비율을 유지하기 위해서는 $CaSO_4$중의 wt$\%SO_3$=0.7의 수준으로 Sulphate의 함량을 조절하여야 한다. 4. $SO_3$와 결합하고 남은 $K_2O$가 0wt$\%$인 경우는 $K_2SO_4$=2.3wt$\%$, MgO=1.5wt$\%$일때 $C_3S$의 생성이 최대로 된다. 5. $SO_3$와 결합하고 남은 $K_2O$가 2.0wt$\%$인 경우는 $K_2$$SO_4$=4.5wt$\%$, MgO=3.0wt$\%$일때 $C_3S$의 생성이 최대로 된다.
TiO$_2$와 CeO$_2$박막을 Si 위에 증착한 후 MOCVD법에 의해 PbTiO$_3$박막을 증착하여 MFIS 구조를 형성하였다. 절연층의 후열처리가 절연층 및 MFIS 구조의 전기적 특성에 미치는 영향을 관찰하기 위해 산소분위기와 $600^{\circ}C$~90$0^{\circ}C$의 온도범위에서 후 열처리를 행하였고, C-V 특성 및 누설전류 특성을 분석하였다. CeO$_2$와 TiO$_2$박막의 유전상수는 증착 직후 6.9와 15였으며, 90$0^{\circ}C$ 열처리를 행한 후 약 4.9와 8.8로 감소하였다. 누설전류밀도 역시 증착 직후 각각 7$\times$$10^{-5}$ A/$ extrm{cm}^2$와 2.5$\times$$10^{-5}$ A/$\textrm{cm}^2$에서 90$0^{\circ}C$ 열처리를 거친 후에 약 4$\times$$10^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$와 4$\times$$10^{-9}$ A/$\textrm{cm}^2$로 감소하였다. Ellipsometry 시뮬레이션을 통해 계산된 계면층의 두께는 90$0^{\circ}C$에서 약 115$\AA$(CeO$_2$) 및 140$\AA$(TiO$_2$)까지 증가하였다. 계면층은 MFIS 구조에서 강유전층에 인가되는 전계를 감소시켜 항전계를 증가시켰고, charge injection을 방지하여 Al/PbTiO$_3$/CeO$_2$(90$0^{\circ}C$, $O_2$)/Si 구조의 경우 $\pm$2 V~$\pm$10 V의 측정범위에서 memory window가 계속 증가하는 것을 보여주었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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