• Title/Summary/Keyword: 어닐링온도

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Effect of Annealing Temperature on the Durability of PEMFC Polymer Membrane (PEMFC 고분자막의 어닐링 온도가 내구성에 미치는 영향)

  • Lee, Mihwa;Oh, Sohyeong;Park, Yujun;Yoo, Donggeun;Park, Kwonpil
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.60 no.1
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    • pp.7-11
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    • 2022
  • In the membrane forming process of a proton exchange membrane fuel cell (PEMFC), drying and annealing heat treatment processes are required for performance and durability. In this study, the optimal annealing temperature for improving the durability of the polymer membrane was studied. It was annealed in the temperature range of 125~175 ℃, and thermal stability and hydrogen permeability were measured as basic data of durability at each annealing temperature. The electrochemical durability was analyzed by Fenton reaction and open circuit voltage (OCV) holding. The annealing temperature of 165 ℃ was the optimal temperature in terms of thermal stability and hydrogen permeability. In the Fenton reaction, the fluorine emission rate of the membrane annealed at 165 ℃ was the lowest, and the lifespan of the membrane annealed at 165 ℃ was the longest in the OCV holding experiment, confirming that 165 ℃ was the optimal temperature for the durability of the polymer membrane.

Effects of Annealing Heat Treatment Conditions on Phase Transformation of Nitinol Shape Memory Alloy (어닐링 열처리 조건에 따른 NITINOL형상기억합금의 상변환 특성 연구)

  • Yoon Sung Ho;Yeo Dong Jin
    • Composites Research
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    • v.18 no.2
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    • pp.38-45
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    • 2005
  • Phase transformation behaviors and crystal structures of Nitinol shape memory alloy $(54.5Ni-45.5Tiwt\%)$ are investigated by varying annealing heat treatment conditions through DSC (Differential Scanning Calorimetry) and XRD (X-Ray Diffraction). Annealing heat treatment conditions were considered as heat treated times of 5min, 15min. 30m1n, and 45min, as well as heat treated temperatures of $400^{\circ}C,\;500^{\circ}C,\;525^{\circ}C,\;550^{\circ}C,\;575^{\circ}C,\;600^{\circ}C,\;700^{\circ}C,\;800^{\circ}C,\;and\;900^{\circ}C$ According to the results, annealing heat treatment conditions such as heat treated times and heat treated temperatures were found to affect significantly on phase transformation behaviors and crystal structures of Nitinol shape memory alloy.

Radiation Hardness Characteristics of Fiber Bragg Gratings on the High Temperature Annealing Condition (고온 어닐링 조건에 따른 FBG 센서의 내방사선 특성)

  • Kim, Jong-Yeol;Lee, Nam-Ho;Jung, Hyun-Kyu
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.20 no.10
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    • pp.1980-1986
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    • 2016
  • In this study, we studied the gamma-radiation effect of fiber Bragg gratings (FBGs) on the high temperature annealing condition after grating inscription using a KrF UV laser (248 nm). The FBGs were fabricated in a different annealing temperature using the same commercial Ge-doped silica core fiber (SMF-28e) and exposed to gamma-radiation up to a dose of 31 kGy at the dose rate of 115 Gy/min. The high temperature annealing procedure for grating stabilization was applied to change the radiation sensitivity of the FBGs. According to the experimental data and analysis results, the gratings that were stabilized at different temperatures at 100, 150 and $200^{\circ}C$ have clearly shown that exposure to higher temperatures increases their radiation sensitivity. The radiation-induced Bragg wavelength shift (BWS) was shown a difference of up to about a factor of two depending on the annealing temperature conditions of the gratings.

Effect of annealing temperature of solid electrolyte layer on the electrical characteristics of polymer memristor (고체 전해질 층의 어닐링 온도가 고분자 멤리스터의 전기적 특성에 미치는 영향)

  • Woo-Seok, Kim;Eun-Kyung, Noh;Jin-Hyuk, Kwon;Min-Hoi, Kim
    • Journal of IKEEE
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    • v.26 no.4
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    • pp.705-709
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    • 2022
  • The effect of the annealing temperature of the poly(vinylidene fluoride-trifluoroethylene)(P(VDF-TrFE)) solid electrolyte layer on the electrical properties of the P(VDF-TrFE)-based memristor was analyzed. In morphological analyses, the P(VDF-TrFE) thin film with 200℃ annealing temperature (200P(VDF-TrFE)) was shown to have surface roughness ≈5 times larger and thickness ≈20% smaller than that with 100℃ annealing temperature (100P(VDF-TrFE)). Compared to the 100P(VDF-TrFE) memristor (M100), the set voltage of the 200P(VDF-TrFE) memristor (M200) decreased by ≈50% and the magnitude of its reset voltage increased by ≈30%. Moreover, M200 was found to have better memory retention characteristics than M100. These differences were attributed to relatively strong local electric fields inside M200 compared to M100. This study suggests the importance of the annealing temperature in polymer memristors.

Investigation on the Residual Stress Relaxation according to Annealing Condition for Transparent Injection Molded Part (투명한 사출성형품에서 어닐링 조건에 따른 잔류응력 이완에 관한 연구)

  • Cho, Jeong-Hyun;Park, Seo-Ri;Kim, Hyeok;Lyu, Min-Young
    • Polymer(Korea)
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    • v.36 no.2
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    • pp.131-136
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    • 2012
  • Residual stress is developed in the injection molded articles during the molding process due to temperature variation and shear stress. The residual stress causes the deformation and warpage in the injection molded parts shortly within several days or after several years. Therefore, the injection molding conditions should be optimized to reduce the residual stress. And residual stress in the part should be also relaxed after molding process to maintain its shape. According to the annealing conditions, such as relative humidity, temperature and time, this study investigates the relaxation of residual stress generated in the transparent injection molded specimens. Through the experimental results, it was realized that the residual stress was relaxed at a relative humidity higher than 50%. Utilizing photoelasticity equipment, it was found that the residual stress was rapidly relaxed near glass transition temperature. Additionally, we recognized that the specimen shrunk along the flow direction but expanded to the perpendicular direction of the flow during the annealing processes, which resulted in the warpage of the specimen.

Reconfiguration of Distribution System Using Simulated Annealing (시뮬레이티드 어닐링을 이용한 배전 계통 재구성)

  • 전영재;김재철
    • Proceedings of the Korea Database Society Conference
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    • 1999.06a
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    • pp.195-202
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    • 1999
  • 본 논문은 배전 계통에서 부하 제약조건과 운전 제약조건을 고려한 손실 감소와 부하 평형에 대해 시뮬레이티드 어닐링 알고리즘을 적용한 재구성 방법을 서술하였다. 네트워크 재구성은 수많은 연계 개폐기와 구분 개폐기의 조합에 의해 이루어지기 때문에 조합적인 최적화 문제이다. 이러한 문제는 수많은 조합에 제약조건까지 있어 해를 구하기가 쉽지 않을 뿐 아니라 국소 해에 빠질 가능성이 많다. 따라서 신경망 중에서 제약조건에 따라 신경망 구조에 영향을 미치지 않으면서 전역 최소해에 수렴하는 특성을 가진 시뮬레이티드 어닐링 기법을 이용하여 배전 계통의 선로를 재구성하였다. 시뮬레이티드 어닐링은 이론적으로 최적해가 보장되지만 무한대의 시간이 걸리기 때문에 현실적으로 적용할 때 해 공간을 탐색하는 규칙과 온도를 적절히 내리는 냉각 스케줄(cooling schedule)이 중요하다. 본 논문에서는 알고리즘 상에서 제약조건 위반 여부를 점검할 수 있는 제약조건과 페널티 상수(penalty factor)를 통해 목적함수에 반영하는 제약조건으로 나누어 모든 후보해를 가능해가 되게 하였고 기존에 사용되던 Kirkpatrick의 냉각 스케줄 대신에 후보해의 통계적 처리에 의해 온도를 내리는 다항-시간 냉각 스케줄(polynomial-time cooling schedule)을 사용하여 수행시간을 단축하고 수렴성을 높였다. 제안한 알고리즘의 효용성을 입증하기 위해 32, 69모선 예제 계통으로 테스트하였다.

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Reconfiguration of Distribution System Using Simulated Annealing (시뮬레이티드 어닐링을 이용한 배전 계통 재구성)

  • 전영재;김재철
    • Proceedings of the Korea Inteligent Information System Society Conference
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    • 1999.03a
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    • pp.195-202
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    • 1999
  • 본 논문은 배전 계통에서 부하 제약조건과 운전 제약조건을 고려한 손실 감소와 부하 평형에 대해 시뮬레이티드 어닐링 알고리즘을 적용한 재구성 방법을 서술하였다. 네트워크 재구성은 수많은 연계 개폐기와 구분 계폐기의 조합에 의해 이루어지기 때문에 조합적인 최적화 문제이다. 이러한 문제는 수많은 조합에 제약조건까지 있어 해를 구하기가 쉽지 않을뿐 아니라 국소 해에 빠질 가능성이 많다. 따라서 신경망 중에서 제약조건에 따라 신경망 구조에 영향을 미치지 않으면서 전역 최소해에 수렴하는 특성을 가진 시뮬레이티드 어닐링 기법을 이용하여 배전 계통의 선로를 재구성하였다. 시뮬레이티드 어닐링은 이론적으로 최적해가 보장되지만 무한대의 시간이 걸리기 때문에 현실적으로 적용할 때 해 공간을 탐색하는 규칙과 온도를 적절히 내리는 냉각 스케줄(cooling schedule)이 중요하다. 본 논문에서는 알고리즘 상에서 제약조건 위한 여부를 점검할 수 있는 제약조건과 페널티 상수(penalty factor)를 통해 목적함수에 반영하는 제약조건으로 나누어 모든 후보해를 가능해가 되게 하였고 기존에 사용되는 Kirkpatrick의 냉각 스케줄 대신에 후보해의 통계적 처리에 의해 온도를 내리는 다항-시간 냉각 스케줄(polynomial-time schedule)을 사용하여 수행시간을 단축하고 수렴성을 높였다. 제안한 알고리즘의 효용성을 입증하기 위해 32,69모선 예제 계통으로 테스트하였다.

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Effect of the Processes of Polysilazane Solid Electrolyte Layer and Silver Active Electrode on the Electrical Characteristics of Memristor (폴리실라잔 고체 전해질 층과 은 활성 전극의 공정이 멤리스터의 전기적 특성에 미치는 영향)

  • Hui-Su Yang;Gyeong-seok Oh;Dong-Soo Kim;Jin-Hyuk Kwon;Min-Hoi Kim
    • Journal of IKEEE
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    • v.27 no.1
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    • pp.25-29
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    • 2023
  • Effect of the processes of polysilazane solid electrolyte layer and silver (Ag) active electrode on the electrical characteristics of memristor was investigated. The memristor with the solid electrolyte annealed at higher temperature exhibited the higher set voltage and better memory retention characteristics than that annealed at lower temperature. The increase in the set voltage and the improvement of the memory retention characteristic at high annealing temperature were attributed to a reduction in the void density and an increase in the void uniformity inside the solid electrolyte, respectively. In the case where the polysilazane solution's concentration is high, the memristor exhibited rapid degradation of low resistive state even annealed at high temperature. Lastly, it was shown that the memristor with the solution-processed Ag active electrode showed WORM property unlike that with the vacuum-processed Ag active electrode. The WORM property was possibly due to morphological defects present in the solution-processed Ag active electrode.

Radiation Effects of Fiber Bragg Gratings on the High Temperature Annealing Condition (광섬유 브래그 격자의 고온 어닐링 조건에 따른 방사선 영향)

  • Kim, Jong-Yeol;Lee, Nam-Ho;Jung, Hyun-Kyu;Im, Don-Sun
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2016.05a
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    • pp.785-787
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    • 2016
  • In this study, we studied the gamma-radiation effect of fiber Bragg gratings on the high temperature annealing condition. The fiber Bragg gratings were exposed to gamma-radiation up to a dose of 30.8 kGy at the dose rate of 115 Gy/min. According to the experimental data and analysis results, the gratings that were stabilized at different temperatures have clearly shown that exposure to higher temperatures increases their radiation sensitivity.

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고온변형시 Zr-2.5wt%Nb합금에서의 어닐경화와 유동연화거동

  • 최성배;권숙인;황선근;김명호;김영석;정용환
    • Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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    • 1996.05c
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    • pp.253-258
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    • 1996
  • 본 연구는 Zr-2.5wt%Nb합금의 고온변형특성중 특이한 유동응력의 변화거동인 어닐경화와 유동연화의 기구에 대해 고찰하였다. 연구결과에서 이러한 고온변형특성은 온도와 다단변형도중의 어닐링 시간에 영향을 받는 것으로 나타났으나 분위기 영향은 없는 것으로 나타났다. 즉, 변형 온도와 동일온도인 85$0^{\circ}C$에서 단시간인 5분동안 어닐링을 했을때 경화현상이 일어났다. 미세조직을 관찰한 결과 다단열간압연된 후의 미세조직과 집합조직은 다단열간압연된 미세조직과 집합조직과 직접적인 상관관계를 가진 것으로 나타났다. 어닐경화현상은 다단고온변형이 궁극적으로 변형시효와 유사한 효과 즉, 중간어닐링 동안에 Zr-2.5wt%Nb내의 불순물 원자와 열간압연시에 형성된 전위구조와의 강력한 인력형 상호작용하여 substructure가 안정화되기 때문이며 유동연화는 재결정으로 인한 유동응력의 감소인 것으로 사료된다.

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