산화물 target의 RF마그네트론 스파터링에 의한 비손상 SnO$_{2}$ 박막의 제조
(Preparation of damage-less SnO$_{2}$ thin films by RF magnetron sputtering with oxide target)
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- E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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- 제9권5호
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- pp.490-497
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- 1996