• Title/Summary/Keyword: 습식공정

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Development of Filter Sorting Process for Cigarette Butt Recycling and Extraction of Cellulose Acetate (담배꽁초 재활용을 위한 필터 선별공정 개발 및 셀룰로오스 아세테이트의 추출)

  • Minseon Park;Minjung Jung;Noh-sup Lee;Soochul Rhee;Namhoon Lee
    • Journal of the Korea Organic Resources Recycling Association
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    • v.32 no.2
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    • pp.5-14
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    • 2024
  • A study approached the development of a process for efficiently recycling discarded cigarette butts, reported as a major source of microplastic pollution in aquatic environments. Cigarette butts were sorted to extract filters, and cellulose acetate, the raw material of the filters, was extracted to a high degree of purity. The sorting of filters from cigarette butts was conducted through both wet and dry processes, each with optimized sorting conditions. Wet stirring sorting considered factors such as solid-liquid ratio, stirring speed, and stirring temperature. The highest efficiency of wet stirring sorting, at 46.21%, was observed with a solid-liquid ratio of 1:45, stirring speed of 200 rpm, and stirring temperature of 50℃. Dry wind power sorting took into account moisture content and residence time. The filter sorting efficiency reached its peak at 57.10% with a moisture content of 20% and a residence time of 5 minutes. There was no significant difference in the recovery rate of cellulose acetate between the two sorting processes. Dry wind power sorting was deemed a more advantageous process in terms of energy and environmental considerations within the scope of this study.

Integrated Wet Oxidation and Aerobic Biological Treatment of the Wastewater Containing High Concentration of Phenol (고농도 페놀 폐수의 습식산화와 호기성 생물학적 통합처리)

  • Choi, Ho-Jun;Lee, Seung-Ho;Yu, Yong-Ho;Yoon, Wang-Lai;Suh, II-Soon
    • KSBB Journal
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    • v.22 no.4
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    • pp.244-248
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    • 2007
  • The treatment of a model wastewater containing high concentration, 10 $g/{\ell}$, of phenol in an integrated wet oxidation-aerobic biological treatment was investigated. Partial wet oxidation under mild operating conditions was capable of converting the original phenol to biodegradable organic acids such as maleic acid, formic acid and acetic acid, the solution of which was subjected to the subsequent aerobic biological treatment. The wet oxidation was carried out at 150$^{\circ}C$ and 200$^{\circ}C$ and the initial pH of 1 to 12. The high temperature of 200$^{\circ}C$ and the acidic initial condition in the wet oxidation led to effluents of which biodegradability was higher in the subsequent biological oxidation process, as assessed by chemical oxygen demand (COD) removal. Homogeneous catalyst of $CuSO_4$ was also used for increasing the oxidation rate in the wet oxidation at 150$^{\circ}C$ and initial pH of 3.0. However, the pretreatment with the catalytic wet oxidation resulted in effluents which were less biodegradable in the aerobic biological process compared to those out of the non-catalytic wet oxidation at the same operating conditions.

Development of watermark free drying process on hydrophobic wafer surface for single wafer process tool

  • Im, Jeong-Su;Choe, Seung-Ju;Seong, Bo-Ram-Chan;Gu, Gyo-Uk;Jo, Jung-Geun
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.19-22
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    • 2007
  • 반도체 산업은 회로의 고밀도화, 고집적화에 따라 웨이퍼 표면의 입자, 금속, 금속 이온, 유기물 등 오염물의 크기가 미세해 지고 세정에 대한 요구 조건이 더욱 엄격해지고 있다. 현재 세정 공정은 반도체 제조공정 전체에서 약 30%를 차지하고 있으며, 습식 세정 방식이 주로 사용되고 있다.[1] 습식 세정방식은 탈이온수로 린스하고 건조하는 공정이 필연적으로 따르며, 기판 표면에 건조과정에서 물반점이 남는 문제가 가장 큰 이슈로 남아 있다. 본 연구는 웨이퍼의 습식 세정 공정에 사용되는 DHF Final Clean Process후 IPA Vapor를 이용한 건조 방법을 기술 하였다. Single wafer spin process를 이용하였으며, 웨이퍼 Process 공간을 밀폐 후 N2가스를 충진하여 대기중의 산소 오염원 유입을 차단하고 수세 및 건조 가스를 이용하여 건조시킴으로써 SiFx의 SiOx로의 치환을 방지 하여 건조 효율 향상을 목적으로 한다. Bare 웨이퍼에서 65nm 이상 오염 발생 증가량을 측정 하였으며, 공정 후 웨이퍼 오염 발생량을 35개 이하로 확보 하였다.

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Developing Low Cost, High Throughput Si Through Via Etching for LED Substrate (LED용 Si 기판의 저비용, 고생산성 실리콘 관통 비아 식각 공정)

  • Koo, Youngmo;Kim, GuSung;Kim, Sarah Eunkyung
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.19 no.4
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    • pp.19-23
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    • 2012
  • Silicon substrate for light emitting diodes (LEDs) has been the tendency of LED packaging for improving power consumption and light output. In this study, a low cost and high throughput Si through via fabrication has been demonstrated using a wet etching process. Both a wet etching only process and a combination of wet etching and dry etching process were evaluated. The silicon substrate with Si through via fabricated by KOH wet etching showed a good electrical resistance (${\sim}5.5{\Omega}$) of Cu interconnection and a suitable thermal resistance (4 K/W) compared to AlN ceramic substrate.

A study on the hot gas cleanup of waste-derived fuel gas (폐기물 합성가스의 활용을 위한 고온 정제 공정 적용 연구)

  • Kim, Narang;Yoo, Youngdon;Jung, Kijin;Kim, Jeongheon;Kim, Byunghwan
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2011.11a
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    • pp.172.2-172.2
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    • 2011
  • 다양한 저급연료나 폐기물로부터 가스엔진이나 연료전지의 연료로 사용하기위한 연료가스를 얻기 위한 방법으로 가스화 기술을 적용할 수 있다. 폐기물의 가스화를 통해 발생된 합성가스에는 CO, $H_2$, $CO_2$와 같은 주요성분 이외에 황화합물($H_2S$, COS), 염소화합물(HCl), 고형 물질(분진)등의 오염물질이 포함되어 있으므로, 이용목적에 따라 적절한 정제 기술이 필요하게 된다. 현재 가장 널리 알려진 저온 습식 정제공정은 장치운전이 쉽고 오염물질 제거효율이 높은 장점이 있으나, 합성가스 온도를 상온까지 낮추기 때문에 현열 손실이 발생하는 단점을 가지고 있다. 고온 건식 정제공정에 의해 $300^{\circ}C$ 이상의 고온에서 오염물질의 제거가 가능하다면 에너지 이용효율을 높일 수 있고, 습식공정에 의해 발생되는 폐수처리에 따른 비용 절감효과도 얻을 수 있다. 폐기물 합성가스를 최종 적용처에 이용하기위한 고온 정제 공정의 적용을 위해 흡착제를 이용하여 탈황, 탈염 실험을 실시하였고, 실험결과로부터 장치 설계의 기초인자를 도출하였다.

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Entrained-Flow Coal Water Slurry Gasification (분류층 습식 석탄가스화 기술)

  • Ra, HoWon;Lee, SeeHoon;Yoon, SangJun;Choi, YoungChan;Kim, JaeHo;Lee, JaeGoo
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.48 no.2
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    • pp.129-139
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    • 2010
  • Coal gasification process, which had developed originally to convert coal from hydrogen and carbon monoxide, has used and developed in many countries because of environmental advantages such as carbon dioxide storage, decrease of pollutants and so on. Generally entrained-flow gasification process using pulverized coal under $75{\mu}m$ is used in Integrated Gas Combined Cycle(IGCC) because of easy scale up and high efficiency of energy conversion. Especially entrained-flow gasifers with coal water slurry have been used in many applications due to its fully developed technologies. In this paper, several technologies for coal-water slurry gasification that involves slurry preparation, burner, gasifier, slag melting and numerical simulation for plant design and operation were investigated. Entrained-flow gasification with coal water slurry can be used for synfuel production, SNG, chemicals as well as IGCC. To develop hybrid gasification process and use different types of coal, it is necessary to develop new technologies that will increase efficiency of the process.

거품을 이용한 면적물의 날염

  • 임수지;이재달;홍영기;송경헌;배기서
    • Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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    • 1998.10a
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    • pp.154-157
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    • 1998
  • 섬유공업에서 거품의 이용은 1960년대 부직포의 제조에 처음 시도되었으며, 기술개발 및 연구는 1980년대에 이르러서야 이루어지기 시작하였다. 거품을 이용한 염색가공 공정은 low wet pick-up을 하므로 건조하는 동안 약제의 이동이 적어 보다 개선된 염색가공 효과를 얻을 수 있고, 종래의 습식공정과 비교할 때 처리액의 가열 및 건조에 소비되는 에너지를 절약할 수 있다. (중략)

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Application of Super Sonic Wave Technic to Textile Industry (섬유산업에 초음파 응용기술)

  • Seo, Mal Yong;Lee, Suk Young
    • Textile Coloration and Finishing
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    • v.8 no.4
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    • pp.59-68
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    • 1996
  • 섬유산업에 초음파의 이용은 극히 새로운 것이 아니며, 초음파를 이용하여 시간단축과 공정개선 등에 관한 많은 문헌들도 있다. 게다가 세정과 기계분야, 안정된 분산용액의 제조에 두드러지게 활용되고 있는 기술이며, 다른 새로운 분야로도 연구확대되고 있다. 주로 세정조에 구성되어 있는 초음파발생자치는 세정효율을 높이기 때문에 응용확대가 기대된다. 특별한 장치가 필요없기 때문에 음화학반응에서 관심이 모아지고 있다. 초음파는 이제 광범위한 습식공정에 영향을 미치는 기술로 이해되고 있다. 이 자료는 이미 연구된 결과를 재조명하고 초음파를 이용하므로서 얻을 수 있는 이점에 대해서 어떤 것이 있는지에 대해 살펴보고자 한다.

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다양한 색상 구현을 위한 물리적 박막 증착 공정에 관한 연구

  • Kim, Byeong-Cheol;Kim, Wang-Ryeol;Kim, Hyeon-Seung;O, Cheol-Uk;Song, Seon-Gu;Guk, Hyeong-Won;Gwon, Min-Cheol
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.244.2-244.2
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    • 2014
  • 금속, 플라스틱, 유리 등의 재료 표면에 다양한 색상을 표현하기 위해 일반적으로 습식 도금을 많이 적용하고 있다. 하지만 습식 도금은 공정 수가 많을 뿐만 아니라 위험물질 및 오염물질을 많이 사용하기 때문에 산업사고, 환경오염 등을 야기 시킨다. 따라서 본 연구에서는 친환경적 방법인 물리적기상증착(PVD ; Physical Vapor Deposition) 방식의 한 종류인 스퍼터링(Sputtering)으로 색상을 구현하였다. PVD 방식의 증착은 습식 도금 방식에 비해 친환경적이며, 전처리에서 후처리까지 한 공정으로 가능하다는 점이다. 스퍼터링은 PVD의 다른 방식인 E-beam 방식에 비해 대량생산을 할 수 있다는 장점이 있다. 양산형 스퍼터링 장비(${\Phi}1200mm{\times}H1400mm$)로 실험을 진행하였으며, 증착 물질은 Ti, Al, Cr 을 사용하였고, 반응성 가스(Reactive Gas) 로는 N2, C2H2 가스를 사용하였다. 전처리는 LIS (Linear Ion Source)로 식각(Etching) 하였고, 펄스직류전원공급장치(Pulsed DC Power Supply)를 사용하여 증착 하였으며, 증착시 기판에 bias (-100 V)를 인가 하였다. 그 결과 회색계열, 갈색계열 등 여러가지 색을 구현할 수 있었으며, 증착된 박막의 특성을 알아보기 위하여 색차계, 내마모 시험기, 연필경도 시험기를 사용하였다. 향후 후처리 공정으로 내지문(AF ; anti fingerprint coating) 박막 등과 같은 실용적인 박막을 증착할 계획이다.

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