• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.287-287
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• 2011

동시 계수 도플러 넓어짐 양전자 소멸 분광법으로 n, p형 Cz-Si의 시료에 양성자를 0, 4 MeV 에너지와 조사량의 변화에 의한 결함을 측정하였으며, 고체 구조 특성에 대하여 조사하였다. 양전자와 전자의 쌍소멸로 발생하는 511 keV 감마선 스펙트럼의 수리적 해석 방법인 S-변수와 W-변수를 사용하여, 구조 변화를 측정하였다. 양성자 조사에너지의 세기에 따라 결함이 증가하였으며, 양성자의 조사량의 변화에 대하여는 큰 변화가 없었다.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2009.11a
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• pp.45.1-45.1
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• 2009

본 연구에서는 BaSrFBr:Eu 형광물질의 결함 농도 분석을 시도하였다. 또한 동시 계수 방법과 Fast -Slow - Coincidence 시스템으로 구성한 양전자 수명 측정법을 통하여 에너지의 변화에 따른 양성자 조사에 의한 시료 결함에 따른 동시 계수 도플러법과 양전자 수명의 변화를 측정 하였으며, SRIM 시뮬레이션을 통한 에너지에 따른 양성자 투과 깊이의 변화를 연구하였다.

• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers
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• v.16 no.9
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• pp.1796-1804
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• 1992

Profiles of soot volume fraction, average diameter and particle number density have been measured using a light scattering and extinction technique in a coannular propane diffusion flame at atmosperic pressure. Temperature profiles were also obtained using a thermocouple technique. Measurements show that soot is first observed to form low in the flame in an annular region inside the main reaction zone. At higher locations this annular region widen until entire flame is observed to contain particles. Soot volume fraction and particle diameter profiles peak some 1mm on the fuel side of peak temperature and increase with height to oxidation region. Number density of the flame core drop steeply from formation region to growth region and relatively invariant to some height and decay out at flame tip.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2006.05a
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• pp.25.1-25.1
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• 2006

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.18 no.6
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• pp.447-452
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• 2009

Enhance signal-to-noise ratio, Coincidence Doppler Broadening positron method has been applied to study of characteristics of BaSrFBr:Eu film sample. In this investigation the numerical analysis of the Doppler spectra was employed to the determination of the shape parameter, S, defined as the ratio between the amount of counts in a central portion of the spectrum and the total counts of whole spectrum. The films were exposed by 0, 3, 5, and 7.5 MeV proton beams ranging from 0 to $10^{13}$ ptls. The S-parameter values were increased as increasing the exposed time and the energies, that indicated the defects generate more.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.336-336
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• 2012

수명 측정법과 동시 계수 도플러 넓어짐 양전자 소멸 분광법으로 p형과 n형 실리콘 시료에 0, 3.98 MeV 에너지를 가진 $0.0{\sim}20.0{\times}10^{13}$ protons/$cm^2$ 양성자 빔 조사에 의한 결함을 측정하여 실리콘 결함 특성에 대하여 조사하였다. 양전자와 전자의 쌍소멸로 발생하는 감마선 스펙트럼의 전자 밀도 에너지를 수리적 해석 방법인 S-변수와 열린 부피 결함에 대한 측정법으로서 양전자 수명 ${\tau}1$과 ${\tau}2$, 이에 따른 밀도 I1과 I2를 사용하여, 시료의 구조 변화를 측정하였다. 본 연구에서 측정된 S-변수와 양전자 수명은 시료에 조사된 양성자의 빔 에너지에 따라 변화하기보다 양성자 조사량의 변화에 따라 결함이 증가하였으며, 양전자 수명 측정과 같은 경향을 보여준다. SRIM의 결과로써, 양성자 조사 에너지에 따른 Bragg 피크 때문에 양성자는 시료의 특정 깊이에 주로 결함을 형성하여 시료 전체에는 결함으로 잘 나타나지 않기 때문이다. 빔의 조사량에 따른 결함의 영향이 더 큰 것으로 나타났다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.20 no.5
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• pp.367-373
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• 2011

It is described that the proton beam induces micro defects and electronic deep levels in Cz single crystal silicon. Enhance signal-to-noise ratio, Coincidence Doppler Broadening Positron Annihilation Spectroscopy has been applied to study of characteristics of p type and n type silicon samples. In this investigation the numerical analysis of the Doppler spectra was employed to the determination of the shape parameter, S, defined as the ratio between the amount of counts in a central portion of the spectrum and the total counts of whole spectrum. The samples were exposed by 4.0 MeV proton beams ranging from 0 to ${\sim}10^{14}$ ptls. The S-parameter values were increased as increasing the irradiated proton beam, that indicated the defects generate more.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.11 no.6
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• pp.405-410
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• 2000

We propose a novel design concept to improve extinction ratio by minimizing $Cv_e-Cv_o$ . Improvements of loss and fabrication error limit are also obtained by this hybrid design of the lateral shift and curved waveguide to control transfer coefficients, $Cv_e and Cv_o$ . The concept of lateral shift merges two transfer coefficients, and additional curved waveguide controls mode profile asymmetrically to help this minimizing effect of $Cv_e-Cv_o$ with no serious decrease in transfer efficiency. For a given InP based waveguide structure, the mode propagation analysis with an effective index approximation provided a calculational improvement of extinction ratio to -39 dB and fabrication error limit to $57.19\mu\textrm{m}$, with a structure design of $300\mu\textrm{m}$ waveguide curvature and $0.1\mu\textrm{m}$lateral shift. shift.

• Water for future
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• v.51 no.7
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• pp.72-77
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• 2018

• ETRI Journal
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• v.10 no.4
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• pp.140-145
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• 1988

엘립소메츠리를 이용하여 $B^+$ 및 $As^+$ 이온이 주입된 실리콘층의 굴절률과 소멸계수를 도우즈 및 열처리 조건의 함수로 조사하였다. $B^+$ 이온주입된 실리콘의 경우 n은 $10^13$ 도우즈 이상에서 증가하고, k는 도우즈 증가에 따라 단조 증가를 나타내었다. RTA 열처리가 furnace 열처리 보다 결정성 회복이 우수하였으며, 등온 열처리 시 약 30분이상에서 거의 완전하게 재결정됨을 볼 수 있었다. $As^+$ 이온주입의 경우 $10^15$이상에서 복소굴절률의 변화를 나타내었으며, 열처리에 대해 k가 n보다 민감하였다.