• 제목/요약/키워드: 세정수

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소출력 무선설비 관리제도 개선 방향

  • 여경진;윤세정;염호선;류충상
    • 한국전자파학회지:전자파기술
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    • 제12권4호
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    • pp.13-23
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    • 2001
  • 최근, 디지털 통신 기술의 발전과 더불어 소출력 무선설비의 신뢰성이 향상되고, 이동성을 기반으로 한 무선 정보통신 수요가 급증함에 따라 소출력 무선설비의 수요가 폭발적으로 증가하고 있다. 본 연구에서는 국내 소출력무선설비 관리제도를 조명해 보고, 새로운 통신서비스와 기술을 수용하는데 필요한 제도개선 방안을 제시하였다. 주파수 자원 연구, 전파 환경 연구 등 일부 연구가 수반되어야 하는 부분도 있지만, 본 연구에서 논의한 소출력 무선설비 관리제도상의 개선방향이 전파관리 측면에서나 전파 이용기술 개발 및 근거리 전파통신 활성화 측면에서 그 기대를 만족시킬 수 있으리라 기대된다.

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사회교육으로서의 소비자교육프로그램 개발 II: 프로그램내용 및 운용방법에 대한 요구도 분석 (Development of Consumer Education Program As Social Education Program II: Needs Analysis on Program Contents and Program Management)

  • 김태은;한지수;양세정
    • 가족자원경영과 정책
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    • 제10권4호
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    • pp.1-26
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    • 2006
  • The study was the second part of the research on development of consumer education program as social education program. The purpose of this study was to analyze needs fur program contents. Program contents had two parts: educational program contents and program managements. The data used contained 617 married women living in Seoul, Korea. Using SAS-PC program, Chi-square and Anova Analyses were executed. The results showed that married women had higher educational needs on housing purchase, tax avoidance, cancellation of contracts after purchase, consumer redress, etc. The differences in age, education, householder's occupation, and household income level resulted in the differences in educational needs for some specific educational items. They were likely to be educated at the highly accessible place such as women's center, community center, University extension service center, and consumer organization, etc. Also they preferred to be educated once a week fur a short time period like one to three months, and to have the lectures with discussion in the class. Some implications were mentioned for developing consumer education program as social education.

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반도체 세정용 Spot Spray Type 메가소닉의 음압특성에 관한 연구 (A Study on Acoustic Pressure Characteristics of Spot Spray Type Megasonic for Semiconductor Cleaning)

  • 이양래;김현세;임의수;우정주;김창대
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제13권1호
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    • pp.1-6
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    • 2014
  • In this study, to analyze characteristics of acoustic pressure for spot spray type megasonic, FEM analysis was performed for variable parameters based on the structure of commercial one. and 2 models of transmitter were designed and fabricated, and then acoustic pressure distribution(APD) of the transmitter was measured and compared to the commercial. The results of this experiment show that maximum acoustic pressure of model 1 was higher to 1.6 times compared to the commercial, and model 2 was higher to 1.23 times. Through the course of this study, design technology of transmitter has been developed by means of FEM analysis and experiment for characteristics of acoustic pressure. Also, it is expected to be useful in the development of high power spray type megasonic that is necessary with advance in semiconductor technology.

HL7 프로토콜을 이용한 생체정보 웹 뷰어 시스템 개발 (The Development of Vital Sign Web Viewer Systems using HL7 Protocol)

  • 임세정;강기웅;서종주;김광준
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제2권2호
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    • pp.123-128
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    • 2007
  • HL7은 병원정보 시스템에서 사용되는 정보와 관련된 표준화된 프로토콜이다. 생체 정보 웹 뷰어 시스템 또한 의료 영상 및 전송에 대해 표준화된 프로토콜이다. 원격 진료의 새로운 기술을 받아들이기 위해 병원에서 서로 다른 시스템들 사이의 표준화 프로토콜을 사용하는 것이 매우 중요하며, 또한 외부 병원과의 연동을 위한 통신방식도 중요하다. 본 논문에서 우리는 병원정보 시스템과 생체 정보 웹 뷰어 시스템사이의 통합 방법을 제안한다. 적절한 생체정보 데이터의 교환과 정보 관리의 수정을 통해 병원정보 시스템은 모든 병원 관계자의 보다나은 업무처리를 향상시킬 수 있다.

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전리수를 이용한 Si 웨이퍼 세정의 IR 특성연구 (A Study on IR Characterization of Electrolyzed Water for Si Wafer Cleaning)

  • Byeongdoo Kang;Kunkul Ryoo
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2001년도 춘계학술대회 발표논문집
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    • pp.124-128
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    • 2001
  • A present semiconductor cleaning technology is based upon RCA cleaning technology which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water(UPW) and is the high temperature Process. Therefore, this technology gives rise to the many environmental issues, and some alternatives such as functional water cleaning are being studied. The electrolyzed water was generated by an electrolysis system which consists of anode, cathode, and middle chambers. Oxidative water and reductive water were obtained in anode and cathode chambers, respectively. In case of NH$_4$Cl electrolyte, the oxidation-reduction potential and pH for anode water(AW) and cathode water(CW) were measured to be +1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. AW and CW were deteriorated after electrolyzed, but maintained their characteristics for more than 40 minutes sufficiently enough for cleaning. Their deterioration was correlated with CO$_2$ concentration changes dissolved from air. It was known that AW was effective for Cu removal, while CW was more effective for Fe removal. The particle distributions after various particle removal processes maintained the same pattern. In this work, RCA consumed about 9$\ell$chemicals, while EW did only 400$m\ell$ HCI electrolyte or 600$m\ell$ NH$_4$Cl electrolyte. It was hence concluded that EW cleaning technology would be very effective for eliminating environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.

Optimization and Application of Si-DLC Coating with Low Friction and High Hardness Property by Using PECVD Method

  • 여기호;문종철;신의철;이현석;최순옥;유재무
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.169.2-169.2
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    • 2013
  • 본 연구에서는 gas를 이용한 PECVD 공법중 이온화 에너지가 높고 대면적 코팅이 용이한 Hybrid 코팅 장비에서 Linear Ion-Gun 이용하여 탄화수소 계열의 gas인 $C_2H_2$ 와 Si을 함유한 TMS (tetramethylsilane, $Si(CH_3)_4)$ gas를 이용하여 저마찰, 고경도 특성을 갖는 Si-DLC 코팅에 대한 연구를 수행하였다. Si-DLC 코팅에 앞서 전처리 공정으로 Linear Ion-Gun에 Ar gas를 주입하고 고전압의 DC 전원을 인가하여 제품 표면의 건식세정 및 표면 활성화를 진행 후, $C_2H_2$ 와 TMS gas를 Linear Ion-Gun에 주입하여 Si-DLC 코팅 공정을 진행하였다. Si-DLC 코팅시 $C_2H_2$ gas 주입량을 고정하고 TMS 가스 유량을 5~20sccm으로 조절하여 Si 함유량에 따른 Si-DLC 코팅막의 특성을 분석하였다. 이렇게 코팅된 Si-DLC의 박막 특성 분석으로 마찰계수 측정을 위해 ball-on-disk 타입의 tribometer를 사용하였으며, 박막 경도 측정은 Nano-indenter를 이용하여 분석을 진행하였다. 그 결과 Si을 포함하지 않는 DLC의 경우 마찰계수가 ~0.2를 가지는 반면, Si-DLC의 경우 Si 함유량이 약 1.5at%일 때, 마찰계수 ~0.04 저마찰의 우수한 특성을 지니며, 박막의 경도는 22[Gpa]로 고경도의 Si-DLC 코팅을 확인할 수 있었다.

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의료용 산소발생기 제작을 위한 PSA 공정의 개발 (Development of PSA Process for Medical Oxygen Generator)

  • 최재욱;나병기
    • 청정기술
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    • 제15권2호
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    • pp.75-80
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    • 2009
  • 공기 중에서 산소를 분리하기 위하여 2탑 PSA 공정을 이용한 4단계 기본공정 공급기체의 유량과 세정기체의 유량이 생성물의 순도와 유량에 미치는 영향을 살펴보았다. 4단계 기본 공정에 생성물가압 단계를 도입하면 생성물의 순도와 유량을 증가시키고, 압력균등화단계를 도입한 경우에는 생성물의 유량이 크게 증가한다는 사실을 확인할 수 있었다. 현재 상용화되어 있는 의료용 산소 발생기 사양인 5 ${\ell}/min$ 유량에서 순도 90%의 산소를 얻기 위해 시제품을 제작하여 산소의 순도 및 유량에 관한 실험을 수행하였다.

EUV 세정에서 정전기 제어를 위한 전해이온수 거동의 분자궤도 이해 (Understanding Behaviors of Electrolyzed Water in Terms of Its Molecular Orbitals for Controlling Electrostatic Phenomenon in EUV Cleaning)

  • 김형원;정윤원;최인식;최병선;김재영;유근걸
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제21권4호
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    • pp.6-13
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    • 2022
  • The electrostatic phenomenon seriously issued in extreme ultraviolet semiconductor cleaning was studied in junction with molecular dynamic aspect. It was understood that two lone pairs of electrons in water molecule were subtly different each other in molecular orbital symmetry, existed as two states of large energy difference, and became basis for water clustering through hydron bonds. It was deduced that when hydrogen bond formed by lone pair of higher energy state was broken, two types of [H2O]+ and [H2O]- ions would be instantaneously generated, or that lone pair of higher energy state experiencing reactions such as friction with Teflon surface could cause electrostatic generation. It was specifically observed that, in case of electrolyzed cathode water, negative electrostatic charges by electrons were overlapped with negative oxidation reduction potentials without mutual reaction. Therefore, it seemed that negative electrostatic development could be minimized in cathode water by mutual repulsion of electrons and [OH]- ions, which would be providing excellences on extreme ultraviolet cleaning and electrostatic control as well.

실시간 모니터링 및 생체정보 수집 환자 케어시스템 구현 (The Implementation of a Patient Data Management System with Real-time Vital Signs Monitoring)

  • 김세정;윤서빈;변정훈;오예은;유종현;전홍영;정길환;김규겸
    • 한국정보처리학회:학술대회논문집
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    • 한국정보처리학회 2020년도 춘계학술발표대회
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    • pp.314-317
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    • 2020
  • 환자의 생체신호 측정 및 관찰, 영상 위생 등을 포함하는 직접간호는 간호사들의 총 간호활동 시간 중 내과는 48%, 외과는 40% 로 간호사들의 업무 부담이 되고 있다. 또한 의료기관에서 사용되는 의료기기들은 여러 회사에서 구매하여 사용되기 때문에 각 회사마다 상이한 프로토콜을 가지고 있어 하나의 시스템으로 생체신호를 모으기가 쉽지 않다. 따라서 여러 장비에서 생체신호를 실시간으로 취득하여 통합 관리할 수 있는 시스템 개발을 통해 간호사의 직접간호 업무량을 줄여 간호사의 근무환경 개선뿐만 아니라 중증환자의 경우 환자 생체신호에 대한 실시간 원격감시가 가능하고 환자에게서 발생된 모든 생체신호가 데이터베이스 시스템으로 기록관리 됨으로 인해 환자의 생체 신호에 대한 이력 추적관리가 가능함으로써, 양질의 의료 서비스가 가능한 환자케어시스템을 개발하고자 한다.

Bare Wafer 세정용 1 MHz 급 메가소닉 개발 (Development of a 1 MHz Megasonic for a Bare Wafer Cleaning )

  • 김현세;임의수
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제22권2호
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    • pp.17-23
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    • 2023
  • In semiconductor manufacturing processes, a cleaning process is important that can remove sub-micron particles. Conventional wet cleaning methods using chemical have limits in removing nano-particles. Thus, physical forces of a mechanical vibration up to 1 MHz frequency, was tried to aid in detaching them from the substrates. In this article, we developed a 1 MHz quartz megasonic for a bare wafer cleaning using finite element analysis. At first, a 1 MHz megasonic prototype was manufactured. Using the results, a main product which can improve a particle removal performance, was analyzed and designed. The maximum impedance frequency was 992 kHz, which agreed well with the experimental value of 986 kHz (0.6% error). Acoustic pressure distributions were measured, and the result showed that maximum / average was 400.0~432.4%, and standard deviation / average was 46.4~47.3%. Finally, submicron particles were deposited and cleaned for the assessment of the system performance. As a result, the particle removal efficiency (PRE) was proved to be 92% with 11 W power. Reflecting these results, the developed product might be used in the semiconductor cleaning process.

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