• Title/Summary/Keyword: 성장온도

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Influence of relative distance between heater and quartz crucible on temperature profile of hot-zone in Czochralski silicon crystal growth (쵸크랄스키법 실리콘 성장로에서 핫존 온도분포 경향에 대한 히터와 석영도가니의 상대적 위치의 영향)

  • Kim, Kwanghun;Kwon, Sejin;Kim, Ilhwan;Park, Junseong;Shim, Taehun;Park, Jeagun
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.28 no.5
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    • pp.179-184
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    • 2018
  • To lessen oxygen concentrations in a wafer through modifying the length of graphite heaters, we investigated the influence of relative distance from heater to quartz crucible on temperature profile of hot-zone in Czochralski silicon-crystal growth by simulation. In particular, ATC temperature and power profiles as a function of different ingot body positions were investigated for five different heater designs; (a) typical side heater (SH), (b) short side heater-up (SSH-up), (c) short side heater-low (SSH-low), (d) bottom heater without side heater (Only-BH), and (e) side heater with bottom heater (SH + BH). It was confirmed that lower short side heater exhibited the highest ATC temperature, which was attributed to the longest distance from triple point to heater center. In addition, for the viewpoint of energy efficiency, it was observed that the typical side heater showed the lowest power because it heated more area of quartz crucible than that of others. This result provides the possibility to predict the feed-forward delta temperature profile as a function of various heater designs.

Depletion of Nitrite by Lactic Acid Bacteria Isolated from Kimchi(II) (김치에서 분리한 유산균에 의한 아질산염 소모(II))

  • 오창경;오명철;현재석;최우정;이신호;김수현
    • Journal of the Korean Society of Food Science and Nutrition
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    • v.26 no.4
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    • pp.556-562
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    • 1997
  • Depletion of nitrite by lactic acid bacteria isolated from Kimchi and the effects of pH and temperature on depletion of nitrite in Lactobacillus MRS broth were investigated. Depletion of nitrite by Lactobacillus plantarum and Lactobacillus sake was low in initial stage of growth but increased during growth at 15 and 2$0^{\circ}C$. L. plantarum and L. sake depleted than 90 and 75% of nitrite(250$\mu\textrm{g}$/$m\ell$) in 1 day of growth at 25 and 3$0^{\circ}C$, respectively, but depleted almost all of nitrite in 2 days. While the effect of Leuconostoc mesenteroides (150$\mu\textrm{g}$/$m\ell$) was lower compared to Lactobacillus(250$\mu\textrm{g}$/$m\ell$). In addition, even high concentrations(600 and 900 $\mu\textrm{g}$/$m\ell$) of nitrite was depleted at 2 days of growth by L. plantarum. pH of growing broth decreased as the increase of growth time and temperature, and depletion of nitrite in- creased as the decrease of pH of growing culture. However, pH of broth related with the decrease of depletion of nitrite at 25 and 3$0^{\circ}C$, but not at 15 and 2$0^{\circ}C$. Therefore, depletion of nitrite was greatly affected by growth temperature rather than by pH.

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Growth and Properties of GaN on(001) Si Substrate with an AIN Buffer Layers (AIN 완충층이 형성된 (001) Si 기판위에 GaN의 성장과 특성)

  • Lee, Yeong-Ju;Kim, Seon-Tae;Jeong, Seong-Hun;Mun, Dong-Chan
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.8 no.1
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    • pp.38-44
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    • 1998
  • RF 스퍼터링법으로 (001)Si 기판위에 AIN완충층을 성장하고, 그 위에 HVPE법으로 GaN를 성장하였다. GaN의 성장률은 103$0^{\circ}C$의 온도에서 AIN완충충의 두께가 각각 500$\AA$과 2000$\AA$ 일때 65$\mu\textrm{m}$/hr와 84$\mu\textrm{m}$/hr로서 AIN완충층의 두께가 증가함에 따라 증가하였다. AIN완충층위에서 GaN의 성장초기에는 수 $\mu\textrm{m}$크기의 결정들이 임의의 방향으로 성장된 후 성장시간이 경과함에 따라 수평방향으로의 성장에 의하여 합쳐지게 되며, c-축 방향으로 배향된 평탄한 표면을 갖는 다결정체가 성장되었다. 20K의 온도에서 측정된 광루미네센스(PL)스펙트럼에서는 3.482eV에서 자유여지자에 의한 발광과 3.7472eV에서 반치폭이 9.6meV인 도너 구속여기자 발광 및 3.27eV 부근에서의 도너-억셉터 쌍 사이의 재결합과 LO포는 복제에 의한 발광이 나타났다. 그러나 2.2eV부근에서의 황색발광은 관찰되지 않았다.

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Abnormal grain growth of ZnO ceramics (ZnO 세라믹스 거대입성장)

  • Kim, Young Jung
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.29 no.6
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    • pp.251-256
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    • 2019
  • In the process of ZnO ceramic sintering at a temperature of 1385℃, higher than the normal sintering temperature, some grains were growth up to mm scale. When sintered at 1400℃ for 8 hours, the size of the grains that are not involved in the abnormal growth is as large as 30~40 ㎛, but the size of the abnormal grown grain reaches 1,000 ㎛, which is more than 10,000 times bigger in volume than the normal one within 8 hr growth. As a cause of rapid and abnormal grain growth, primary particle size distribution, compaction density variation within sample and doping of impurities could be considered. The primary particle size distribution could be considered main reason for abnormal grain growth but no solid evidence was obtained. Through the observation of the microstructure, it is presumed that the giant grains grow absorbing the neighbor grains through a grain rotation process.

Crystal Structure and Optical Absorption of ZnO Thin Films Grown by Electrodeposition (전착법에 의한 ZnO 박막의 결정구조 및 광흡수 특성)

  • Choi, C.T.;Seo, J.N.
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.9 no.6
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    • pp.455-460
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    • 2000
  • Zinc oxide(ZnO) thin films were cathodically deposited on ITO glass from an aqueous zinc nitrate electrolyte. Three main fabrication parameters were taken into account : deposition potential, solution concentration and growth temperature. Different layers of ZnO thin films grown by varying the three parameters were studied by X-ray diffraction, scanning electron microscope and optical absorption spectroscopy. The prepared ZnO thin films were shown as a hexagonal wurtzite structure on the X-ray diffraction patterns and the good quality of ZnO thin films were obtained by potentiostatic cathodic deposition at -0.7V vs. Ag/AgCl reference electrode onto ITO glass from aqueous 0.1 mol/liter zinc nitrate electrolyte at $60^{\circ}C$.

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열처리 효과가 ZnO 박막의 특성 변화에 미치는 영향 연구

  • Lee, Cho-Eun;Sim, Eun-Hui;Go, Ji-Hyeon;Jeong, Ui-Wan;Lee, Jin-Yong;Lee, Yeong-Min;Kim, Deuk-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.79-79
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    • 2011
  • 사파이어 기판에 성장된 ZnO 박막을 급속 열처리 하여 열처리 효과가 박막의 특성에 미치는 영향을 분석하였다. ZnO 박막은 RF 마그네트론 스퍼터 증착법으로 $500^{\circ}C$에서 성장하였고, 성장 된 시료를 산소 분위기에서 $600^{\circ}C{\sim}900^{\circ}C$로 온도 변화를 주어 3분 동안 열처리를 하였다. Hall 효과 분석에 의한 ZnO 박막의 전자 이동도 특성은 열처리 온도가 증가함에 따라 점차 증가하는 경향을 나타내어, $900^{\circ}C$ 열처리의 경우 23 $cm^2$/Vs의 가장 높은 값을 보였다. 한편 X-ray 회절 분광법에 의한 ZnO 박막의 (002) peak를 분석한 결과 열처리 온도가 증가함에 따라 peak의 세기는 증가하고 그 반치폭이 점차 감소함으로써 시료의 결정학적 특성이 향상됨을 확인 할 수 있었다. 이와 같이 열처리 온도에 따라 전기적 결정학적 특성이 향상되는 이유는 ZnO 박막에 존재하는 native defect들이 열적으로 passivation되고, 결정격자들의 배열이 열에너지에 의해 안정화 되면서 나타나는 현상으로 풀이 된다. 이와 함께 본 연구에서는 ZnO 박막의 열처리 온도 변화에 따른 광학적 특성 변화에 대해서도 보고할 예정이다.

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열처리된 ZnO 박막의 광학적 특성에 관한 연구

  • Sim, Eun-Hui;Lee, Cho-Eun;Go, Ji-Hyeon;Jeong, Ui-Wan;Lee, Jin-Yong;Lee, Yeong-Min;Kim, Deuk-Yeong;Yun, Hyeong-Do;Choe, Hyo-Seok;Kim, Mun-Deok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.99-99
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    • 2011
  • 마그네트론 스퍼터 법으로 Al2O3 기판 위에 ZnO 박막을 성장하여 열처리 온도에 따른 광학적 특성 변화를 Raman 분광법 및 photoluminescence (PL) 분광법으로 분석하였다. 박막 성장시 기판의 온도는 $500^{\circ}C$를 유지하였고, 성장된 시료에 대한 열처리는 $600^{\circ}{\sim}900^{\circ}C$의 구간에서 3분간 실행하였다. Raman 측정결과 열처리 전후 모든 시료에서 wurtzite nonpolar ZnO의 전형적인 특징인 A1-LO mode와 E2-low mode 및 E2-high mode가 관측되었다. 또한 열처리 온도 변화에 따른 Raman 피크의 이동은 보이지 않았다. 이로 미루어 본 연구에서 제작된 ZnO는 우수한 결정성을 갖고 있으며, 열처리에 의한 변형이 일어나지 않았음을 알 수 있었다. PL 측정 결과 열처리 전의 저온 발광 특성은 잘 분해되지 않는 밴드단 발광이 미약하게 나타났다. 그러나 열처리 온도가 증가함에 따라 exciton 피크가 잘 분리되면서 그 세기도 점차 증가하는 것을 알 수 있었다. Hall 측정 결과와 비교해 볼 때 열처리 온도가 증가 할수록 박막내 native defect가 열처리에 의해 감소되면서 전기적/광학적 특성이 향상되는 것으로 분석된다.

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Effect of Loading Variables and Temperature on Fatigue Crack Propagation in SA508 Cl.3 Nuclear Pressure Vessel Steel (원자로압력용기강에서 하중변수와 온도가 피로균열진전에 미치는 영향)

  • Kim, B. S.;Lee, B. H.;Kim, I. S.
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • v.27 no.6
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    • pp.825-832
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    • 1995
  • The effect of loading variables and temperature on fatigue crack growth rate in SA508 Cl.3 nuclear pressure vessel steel was investigated in air environment Crack growth rate tests on compact tension specimen of thickness 12mm were conducted by using sinusoidal waveform. The crack length was monitored by compliance method. Test conditions were at 0.1 and 0.5 of load ratio, at 1 and 10 Hz of loading frequency, and at room temperature to 40$0^{\circ}C$. At the lower temperatures, the fatigue crack propagation was not affected by the frequency and temperature, while at the higher temperatures above 12$0^{\circ}C$, fatigue crack growth rate increased with decreasing loading frequency and increasing temperature. This accelerated fatigue crack propagation was associated with the increase of oxidation rate at the ahead of crack tip. Fatigue crack growth rate increased with in-creasing the load ratio. The effect of load ratio was more significant at the lower temperature, while the dependence on load ratio decreased with increasing temperature. The sensitivity of load ratio to temperature can be explained by crack closure with the oxidation process.

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Growth Temperature Effects of In0.5Al0.5As Buffer Layer on the Optical Properties of In0.5Ga0.5As/In0.5Al0.5As Multiple Quantum Wells Grown on GaAs (GaAs 기판 위에 성장한 In0.5Ga0.5As/In0.5Al0.5As 다중양자우물의 광학적 특성에 대한 In0.5Al0.5As 버퍼층 성장온도의 영향)

  • Kim, Hee-Yeon;Oh, H.J.;Ahn, S.W.;Ryu, Mee-Yi;Lim, J.Y.;Shin, S.H.;Kim, S.Y.;Song, J.D.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.19 no.3
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    • pp.211-216
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    • 2010
  • The luminescence properties of $In_{0.5}Ga_{0.5}As/In_{0.5}Al_{0.5}As$ multiple quantum wells (MQWs) grown on $In_{0.5}Al_{0.5}As$ buffer layers have been studied by using photoluminescence (PL) and time-resolved PL measurements. A$1-{\mu}m$ thick $In_{0.5}Al_{0.5}As$ buffer layers were deposited on a 500 nm thick GaAs layer, followed by the deposition of the InGaAs/InAlAs MQWs. In order to investigate the effects of InAlAs buffer layer on the optical properties of the MQWs, four different temperature sequences are used for the growth of InAlAs buffer layer. The growth temperature for InAlAs buffer layer was varied from 320^{\circ}C to $580^{\circ}C$. The MQWs consist of three $In_{0.5}Ga_{0.5}$As wells with different well thicknesses (2.5 nm, 4.0 nm, and 6.0 nm thick) and 10 nm thick $In_{0.5}Al_{0.5}$As barriers. The PL spectra from the MQWs with InAlAs layer grown at lower temperature range ($320-580^{\circ}C$) showed strong peaks from 4 nm QW and 6 nm QW. However, for the MQWs with InAlAs buffer grown at higher temperature range ($320-480^{\circ}C$), the PL spectra only showed a strong peak from 6 nm QW. The strongest PL intensity was obtained from the MQWs with InAlAs layer grown at the fixed temperature of $480^{\circ}C$, while the MQWs with buffer layer grown at higher temperature from $530^{\circ}C$ to $580^{\circ}C$ showed the weakest PL intensity. From the emission wavelength dependence of PL decay times, the fast and slow decay times may be related to the recombination of carriers in the 4 nm QW and 6 nm QW, respectively. These results indicated that the growth temperatures of InAlAs layer affect the structural and optical properties of the MQWs.

Development of a land surface soil temperature prediction model considering air temperature and vegetation (기온과 식생을 고려한 지표면 토양온도 예측 모형 개발)

  • Cho, Seon-Ju;Kim, Sang-Dan
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.284-288
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    • 2012
  • 토양온도는 기후변화, 지역기상모형, 수생태 영향과 밀접한 상관성을 가지고 있으며 이에 대한 연구들이 활발하게 진행 중에 있다. 특히 기후는 토양의 분포와 성장, 그리고 소멸에 영향을 미치고, 식생은 증산과정에 의해 대기로 수분을 내보내는 과정을 통해 기후에 영향을 미치고 있다. 이 때, 지표면의 토양온도는 토양수분 및 식생의 성장에 영향을 미치게 된다. 이에 본 연구에서는 격자기반 일 지표면 토양온도 모형이 제안되며, 이를 이용하여 한반도 남동쪽에 위치한 낙동강 유역 내 안동댐 상류지역에 대한 지표면 토양온도가 모의된다. 제안된 모형의 구동을 위해 필요한 입력 자료는 일평균기온 및 관측 NDVI 자료이다. 전국 60개 지점에서 관측된 일 평균기온은 고도가 고려된 Krignig기법을 이용하여 격자별로 구축되며, NDVI 및 지표면 토양온도를 위한 위성자료는 적절한 전처리 과정을 거쳐 자료를 구축한다. 전반적으로 모의된 일 지표면 토양온도는 관측 자료를 잘 재현하고 있는 것으로 분석된다. 추가적으로 감쇠율을 적용하여 토양온도를 토양깊이에 따라 예측하는 방법이 제안되며, 토양깊이에 따라 토양온도가 감소하는 경향을 살펴볼 수 있을 것이다. 이상과 같이 본 연구에서 제안된 모형은 추후 하천수온예측 및 격자기반의 수문모형의 구성을 위한 기초자료를 제공할 것으로 기대된다. 더 나아가 본 연구는 기후-토양-식생의 관계를 바탕으로 미래기후에 대한 물 환경 영향을 평가하는데 있어서 기여할 수 있을 것으로 판단된다.

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