• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2012.05b
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• pp.690-692
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• 2012

전도도가 우수한 알루미늄 및 알루미나 소재를 사용하여 LED 패키지를 제작하였다. 선택적 양극산화 공정을 적용하여 알루미늄 기판 상에 알루미나를 형성하고 이를 유전체로 사용하였다. 패키지 기판에 따른 열저항 및 광량 분석을 위해 알루미늄 기판과 알루미나 기판을 제작하여 성능 비교분석을 진행하였다. 알루미늄 기판이 알루미나 기판보다 우수한 열저항 및 발광효율 특성을 보여주었으며, 이러한 결과는 선택적 양극산화 공정을 사용한 알루미늄 기판이 고출력 LED 패키지용 기판으로 활용할 수 있음을 보여준다.

• Applied Chemistry for Engineering
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• v.17 no.2
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• pp.194-200
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• 2006

Titanium oxide films were deposited by the nozzle type HCP RT-MOCVD for the application of metal-oxide films. In the case of TTNB, after depositing films, films must be annealed at a proper temperature, but in the case of titanium ethoxide, titanium oxide films could be directly deposited by titanium ethoxide without general annealing. We could confirm that ratio of O to Ti in the films was about 2 : 1 at RF-power of 240 watt, distance between cathode and substrate of 3 cm, deposition time of 20 min, and ratio of Ar to $O_2$ of 1 : 1. Therefore, we could obtain the titanium oxide film deposited by the nozzle type HCP RT-MOCVD without an annealing process and could apply in the metal-oxide deposition process at a low temperature.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2017.05a
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• pp.114.1-114.1
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• 2017

불용성 전극이 고속 전기도금 공정에 사용되기 위해서는 전기화학 반응이 우수하고, 높은 내구성을 가져야 한다. 불용성 전극의 내구성은 기지층 표면전처리, 금속산화물 조성, 코팅층 두께, 소결 온도 등 다양한 전극제조 공정인자들에 의해 영향을 받는다. 본 연구에서는 불용성 전극의 내구성을 향상시키기 위해 전극 전처리 및 백금족 산화물 조성비의 공정변수로 전극을 제조하였고, 가속수명평가법을 사용하여 전극의 내구성을 평가하였다. 고속 전기도금 공정환경에서는 이리듐(Ir)계 및 탄탈륨(Ta)계 산화물 조성을 가지는 불용성전극의 내구수명이 우수한 경향을 나타내었으며, 귀금속 산화물 코팅층 두께가 얇을수록 불용성전극의 내구수명은 크게 저하되었다. 또한, Ir-Ta 조성 불용성전극의 경우 내구성 향상 기지체 표면전처리를 통해 전극의 내구수명이 10배 이상 향상되었음을 확인하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2015.11a
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• pp.320-320
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• 2015

표면개질이란 재료 본연의 특성만으로 원하는 성능과 기능을 발휘할 수 없을 때 기재 표면에 열에너지, 응력 등을 부가하여 새로운 표면층을 형성하는 방법이다. 특히 양극산화 기술을 이용해 형성된 피막은 경도 및 내마모성 등 기계적 성질이 우수하고, 공정조건 등을 변화시켜 피막 두께와 형상 조절이 용이하여 센서, 필터, 광학용 박막 그리고 전해콘덴서 등에도 주로 사용되고 있다. 본 연구에서는 5083 알루미늄 합금을 이용해 해양환경에서 우수한 내구성을 보유할 수 있는 최적의 양극산화 공정시간을 선정하고자 캐비테이션 실험을 실시하였다. 실험 결과, 공정시간 40분에서 안정적인 산화피막 생성과 함께 탁월한 내캐비테이션 특성을 나타냈다.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.61 no.4
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• pp.143-150
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• 2017

Countercurrent oxidation process (COP) was developed and evaluated for treatment of highly concentrated PCB containing insulating oil. The PCB content in insulating oil taken from Haksanmetal company was found to be 1,512 ppm. The COP utilizes a self-sustained flame which propagates itself in a direction counter to the oxygen flow. The flame removes PCBs adsorbed in activated carbon and, at the same time, regenerates activated carbon. The flame temperature was determined from both mass loss of activated carbon and the relative ratio of CO and $CO_2$ exhausted during COP, and showed that its temperature lied in the range of $650-850^{\circ}C$. Removal efficiency of PCBs was achieved above 99.99% for 5% of insulating oil loaded activated carbon with 1 COP in weight ratio. Also, the same removal efficiency was acquired for 60% of insulating oil loaded activated carbon with three consecutive COP. In addition, specific surface area of activated carbon during COP was recovered to almost similar value of virgin activated carbon. It proved that the COP was much effective in removing high concentration of PCBs in insulating oil easily and affordably.

• KSBB Journal
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• v.22 no.4
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• pp.244-248
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• 2007

The treatment of a model wastewater containing high concentration, 10 $g/{\ell}$, of phenol in an integrated wet oxidation-aerobic biological treatment was investigated. Partial wet oxidation under mild operating conditions was capable of converting the original phenol to biodegradable organic acids such as maleic acid, formic acid and acetic acid, the solution of which was subjected to the subsequent aerobic biological treatment. The wet oxidation was carried out at 150$^{\circ}C$ and 200$^{\circ}C$ and the initial pH of 1 to 12. The high temperature of 200$^{\circ}C$ and the acidic initial condition in the wet oxidation led to effluents of which biodegradability was higher in the subsequent biological oxidation process, as assessed by chemical oxygen demand (COD) removal. Homogeneous catalyst of $CuSO_4$ was also used for increasing the oxidation rate in the wet oxidation at 150$^{\circ}C$ and initial pH of 3.0. However, the pretreatment with the catalytic wet oxidation resulted in effluents which were less biodegradable in the aerobic biological process compared to those out of the non-catalytic wet oxidation at the same operating conditions.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2011.05a
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• pp.33.2-33.2
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• 2011

CMP (Chemical-Mechanical Planarization) 공정이란 화학적 반응과 기계적 힘을 동시에 이용하여 표면을 평탄화하는 공정으로, 반도체 산업에서 회로의 고집적화와 다층구조를 형성하기 위해 CMP 공정이 도입되었으며 반도체 패턴의 미세화와 다층화에 따라 CMP 공정의 중요성은 더욱 강조되고 있다. CMP 공정은 압력, 속도 등의 공정조건과, 화학적 반응을 유도하는 슬러리, 기계적 힘을 위한 패드 등에 의해 복합적으로 영향을 받는다. CMP 공정에서, 폴리우레탄 패드는 많은 기공들을 포함한 그루브(groove)를 형성하고 있어 웨이퍼와 직접적으로 접촉을 하며 공정 중 유입된 슬러리가 효과적으로 연마를 할 수 있도록 도와주는 역할을 한다. 하지만, 공정이 진행 될수록 그루브는 손상이 되어 제 역할을 하지 못하게 된다. 패드 컨디셔닝이란 컨디셔너가 CMP 공정 중에 지속적으로 패드 표면을 연마하여 패드의 손상된 부분을 제거하고 새로운 표면을 노출시켜 패드의 상태를 일정하게 유지시키는 것을 말한다. 한편, 금속박막의 CMP 공정에 사용되는 슬러리는 금속박막과 산화반응을 하기 위하여 산화제를 포함하는데, 산화제는 금속 컨디셔너 표면을 산화시켜 부식을 야기한다. 컨디셔너의 표면부식은 반도체 수율에 직접적인 영향을 줄 수 있는 scratch 등을 발생시킬 뿐만 아니라, 컨디셔너의 수명도 저하시키게 되므로 이를 방지하기 위한 노력이 매우 중요하다. 본 연구에서는 컨디셔너 표면에 연마 잔여물 흡착을 억제하고, 슬러리와 컨디셔너 표면 간에 일어나는 표면부식을 방지하기 위하여 소수성 자기조립 단분자막(SAM: Self-assembled monolayer)을 증착하여 특성을 평가하였다. SAM은 2가지 전구체(FOTS, Dodecanethiol를 사용하여 Vapor SAM 방법으로 증착하였고, 접촉각 측정을 통하여 단분자막의 증착 여부를 평가하였다. 또한 표면부식 특성은 Potentiodynamic polarization와 Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) 등의 전기화학 분석법을 사용하여 평가되었다. SAM 표면은 정접촉각 측정기(Phoenix 300, SEO)를 사용하여 $90^{\circ}$ 이상의 소수성 접촉각으로써 증착여부를 확인하였다. 또한, 표면에너지 감소로 인하여 슬러리 내의 연마입자 및 연마잔여물 흡착이 감소하는 것을 확인 하였다. Potentiodynamic polarization과 EIS의 결과 분석으로부터 SAM이 증착된 표면의 부식전위와 부식전류밀도가 감소하며, 임피던스 값이 증가하는 것을 확인하였다. 본 연구에서는 컨디셔너 표면에 SAM을 증착 하였고, CMP 공정 중 발생하는 오염물의 흡착을 감소시킴으로써 CMP 연마 효율을 증가하는 동시에 컨디셔너 금속표면의 부식을 방지함으로써 내구성이 증가될 수 있음을 확인 하였다.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.12 no.4
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• pp.127-131
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• 2002

We fabricated MTJ devices that have doubly oxidized tunnel barrier using plasma oxidation method to from oxidized AlO$\sub$x/ tunnel barrier. Doubly oxidation I, which sputtered 10 ${\AA}$-bottom Al layer and oxidized it with oxidation time of 10 s. Subsequent sputtering of 13 ${\AA}$-Al was performed and the metallic layer was oxidized for 50, 80 and 120 s., respectively. Doubly oxidation II, which sputtered 10 ${\AA}$-bottom Al layer and oxidized it varying oxidation time for 30∼120 s. Subsequent sputtering of 13 ${\AA}$-Al was performed and the metallic layer was oxidized for 210 sec. Double oxidation process specimen showed MR ratio of above 27％ in all experiment range. Singly oxidation process. 13 ${\AA}$-Al layer and oxidized up to 210 s, showed less MR ratio and more narrow process window than those of doubly oxidation. Cross-sectional TEM images would that doubly oxidized barrowers were thinner and denser than singly oxidized ones. XPS characterization confirmed that doubly oxidation of Fe with bottom insulating layer. As a result, doubly oxidation could have superior MR ratio in process extent during long oxidation time because of preventing oxidation of bottom magnetic layer than singly oxidation.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2014.11a
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• pp.98-99
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• 2014

질산산화법(nitric acid oxidation method)은 저온에서 안정적인 산화막을 형성하는 직접산화공정으로 azeotropic point(68 wt%)인 120도 이하의 온도에서 산화막을 형성한다. 120도에서 형성한 질산산화막은 CVD법으로 형성한 산화막 보다 낮은 누설전류밀도(leakage current density)를 나타낸다. 또한 질산의 농도가 증가함에 따라 형성한 산화막의 누설전류밀도가 감소하며, 이는 열산화법으로 형성한 산화막 보다 낮다. 질산산화의 낮은 누설전류밀도는 형성한 산화막의 높은 원자 밀도와 낮은 계면준위밀도에 의한 것으로 이 특성을 이용하여 게이트 절연막(gate insulator)과 태양전지의 passivation막으로 응용되고 있다.

• Applied Chemistry for Engineering
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• v.32 no.3
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• pp.237-242
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• 2021

Simultaneous removal technologies of multi-pollutants such as particulate matters (PMs), NOx, SOx, VOCs and ammonia have received consistent attention due to the enhancement of pollutant abatement efficiency in addition to the stringent environmental regulation and emission standard. Pretreatment of insoluble NO by an ozone oxidation can be considered to be more effective route for saving space occupation as well as operation cost in comparison with that of traditional selective catalytic reduction (SCR) process. Moreover the primary advantage of ozone oxidation process is that the simultaneous removal with acidic gas including SOx is also available. Herein, we highlight recent studies of multi-pollutant abatement via ozone oxidation process and the promising research topics for better application in industrial sectors.