• Title/Summary/Keyword: 산소 유량비

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Structural, Morphological, and Optical Properties of AlN Thin Films Subjected to Oxygen Flow Ratio (산소 유량비 변화에 따른 AlN 박막의 구조, 표면 및 광학적 특성)

  • Cho, Shin-Ho;Kim, Moon-Hwan
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.19 no.4
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    • pp.287-292
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    • 2010
  • We have investigated the effects of oxygen flow ratios on the structural, morphological, and optical properties of AlN thin films grown by using radio-frequency reactive magnetron sputtering. The AlN thin films were deposited at $300^{\circ}C$ of substrate temperature, and the reactive gas were supplied with both nitrogen and oxygen. The oxygen flow ratio was varied by controlling the amount of oxygen with respect to the total mixed gases, 0%, 10%, 15%, 20%, 25%, and 30%. The structural, morphological, and optical properties of the deposited AlN thin films were examined by using X-ray diffractometer, scanning electron microscopy, and ultraviolet-visible spectrophotometer. The AlN thin film grown at 10% of oxygen flow ratio indicated an average transmittance of 91.3% in the wavelength range of 350~1,100 nm and an optical band gap of 4.30 eV. The experimental results suggest that AlN thin films can be deposited optionally by varying the oxygen flow ratio.

Effects of Oxygen Flow Ratio on the Structural and Optical Properties of Al-doped ZnO Thin Films (산소 유량비 변화에 따른 Al 도핑된 ZnO 박막의 구조 및 광학적 특성)

  • Son, Young-Gook;Hwang, Dong-Hyun;Cho, Shin-Ho
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.16 no.4
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    • pp.267-272
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    • 2007
  • Al-doped ZnO (AZO) thin films were grown on glass substrates by radio-frequency magnetron sputtering. The effects of oxygen flow ratio, which was used for a sputtering gas, on the AZO thin films were investigated by using the X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and Hall effects measurement. The AZO thin film, deposited with oxygen flow ratio of 0% at the growth temperature of $400^{\circ}C$, showed a strongly c-axis preferred orientation and the lowest resistivity of $6.9{\times}10^{-4}{\Omega}cm$. The ZnO (002) diffraction peak indicated a tendency to decrease substantially with increasing the oxygen flow ratio. Furthermore, as the oxygen flow ratio was decreased, the carrier concentration and the hall mobility were increased, but the electrical resistivity was decreased.

Electrical properties of IZO thin films using magnetron sputtering method at low temperature (저온 마그네트론 스퍼터링에 의해 합성된 IZO 박막의 전기적 특성)

  • Park, Mi-Rang;Kim, Do-Geun;Lee, Seong-Hun;Lee, Geon-Hwan;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.04a
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    • pp.89-90
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    • 2007
  • 마그네트론 스퍼터링 공정을 이용하여 $100^{\circ}C$미만의 저온에서 산소유량을 변화시켜 Indium Zinc Oxide(IZO) 박막을 증착하였다. 기판온도의 영향과 산소유량의 변화에 따른 IZO 박막의 전기적 특성 변화를 조사하였다. 그 결과 가열하지 않고 증착한 경우 산소유량비의 증가와 함께 IZO 박막의 비저항이 증가되었고, $80^{\circ}C$로 증착온도를 가열한 경우 산소유량비 조절조건에 따라 최소 비저항이 얻어졌다. IZO 박막의 최저 비저항은 증착온도 $80^{\circ}C$, 산소유량비 1%조건에서 $2{\times}10^{-4}$ ${\Omega}$ cm로 나타났다.

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Mixed Flow and Oxygen Transfer Characteristics of Vertical Orifice Ejector (수직 오리피스 이젝터의 혼합유동 및 산소전달 특성)

  • Kim, Dong Jun;Park, Sang Kyoo;Yang, Hei Cheon
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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    • v.39 no.1
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    • pp.61-69
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    • 2015
  • The objective of this study is to experimentally investigate the mixed flow behaviors and oxygen transfer characteristics of a vertical orifice ejector. The experimental apparatus consisted of an electric motor-pump, an orifice ejector, a circulation water tank, an air compressor, a high speed camera unit and control or measurement accessories. The mass ratio was calculated using the measured primary flow rate and suction air flow rate with experimental parameters. The visualization images of vertically injected mixed jet issuing from the orifice ejector were qualitatively analyzed. The volumetric oxygen transfer coefficient was calculated using the measured dissolved oxygen concentration. At a constant primary flow rate, the mass ratio and oxygen transfer coefficient increase with the air pressure of compressor. At a constant air pressure of the compressor, the mass ratio decreases and the oxygen transfer coefficient increases as the primary flow rate increases. The residence time and dispersion of fine air bubbles and the penetration of mixed flow were found to be important parameters for the oxygen transfer rate owing to the contact area and time of two phases.

Influence of Oxygen Flow Ratio on the Properties of In2O3 Thin Films Grown by RF Reactive Magnetron Sputtering (라디오파 반응성 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 In2O3 박막의 특성에 산소 유량비의 변화가 미치는 효과)

  • Kwak, Jun-Ho;Cho, Shin-Ho
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.19 no.3
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    • pp.224-229
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    • 2010
  • Indium oxide $(In_2O_3)$ thin films have been prepared on glass substrate by using radio-frequency reactive magnetron sputtering with changing the oxygen flow ratio. The substrate temperature was kept at a fixed value of $400^{\circ}C$, and the sputtering gas and reactive gas were supplied with argon and oxygen, respectively. The oxygen partial flow ratio was varied by controlling the amount of oxygen with respect to the total mixed gases, 10%, 20%, 30%, 40%, and 50%. The optical, electrical, and structural properties of the deposited thin films were investigated by using ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer, Hall measurement, and X-ray diffractometer and scanning electron microscopy. The $In_2O_3$ thin film deposited at 20% of oxygen flow ratio showed an average transmittance of 86% in the wavelength range of 430~1,100 nm, an electrical resistivity of $1.1{\times}10^{-1}{\Omega}cm$. The results show that the transparent conducting films with optimum conditions can be achieved by controlling the oxygen flow ratio.

Preparation of ITO thin film with oxygen gas flow (산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막의 제작)

  • Geum, Min-Jong;Jeon, A-Ram;Choe, Dong-Hun;Lee, Gyo-Ung;Han, Jeon-Geon
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.107-108
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    • 2007
  • 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막을 실온 제작하였다. 그 결과 산소 가스 유량의 증가에 따라 박막의 비저항이 감소하였으며 적정 유량 이상에서는 비저항이 증가하였다. 또한 산소 가스 유량을 3 sccm으로 고정한 후 ITO 박막의 두께를 변화시킨 경우 막 두께 40nm 이상에서 부터는 $0.6{\sim}0.8$ $m{\Omega}-cm$의 비저항과 가시광 영역에서 80% 이상의 광투과율 특성을 나타내었다.

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Mixed Flow Characteristics of Aeration Process for Recirculation Aquaculture System Using Ejector (이젝터를 이용한 순환양식 시스템 폭기공정의 혼합유동 특성)

  • Park, Sang Kyoo;Yang, Hei Cheon
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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    • v.37 no.9
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    • pp.847-854
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    • 2013
  • The objective of this study is to experimentally investigate the mixed flow and oxygen transfer characteristics of a horizontally injected aeration process using an annular nozzle ejector. The flow rate ratio, pressure ratio and ejector efficiency are calculated using the measured flow rate and pressure with the experimental parameters of the ejector pitch and primary flow rate. The visualization images of mixed flow issuing from the ejector are analyzed qualitatively, and the volumetric oxygen transfer coefficients are calculated using the measured dissolved oxygen concentration. The mixed flow behaves like a buoyancy jet or horizontal jet owing to the momentum of primary flow and air bubble size. The buoyancy force of the air bubble and the penetration of mixed flow are found to be important parameters for the oxygen transfer rate owing to the contact area and time of two phases.

Effects of the Oxygen Flow and Annealing on the Characteristics of $WO_3$ Film ($WO_3$막의 특성에 미치는 산소가스 유량 및 열처리 효과)

  • Rhie, Dong-Hee;Choi, Bok-Gil;Choi, W.S.;Moon, B.M.;Sung, Youg-Kwon
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 1999.07d
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    • pp.1508-1510
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    • 1999
  • 스퍼터 퇴적 $WO_3$ 박막에 대해 열처리에 따른 전기적특성 및 구조적특성을 각각 4탐침법 및 AFM 관측에 의해 조사해 보고, 또한 스퍼터링시의 산소가스 유량비에 따른 $WO_3$ 박막의 막질을 ESCA에 의해 평가하였다 실험 결과 열처리에 의해 $WO_3$ 박막 표면의 평균거칠기가 $2.45\AA$에서 $152\AA$으로 크게 증가함을 알 수 있었다 또한 스퍼터시 산소유량비에 따른 효과를 ESCA로 관측한 결과, 열처리전에는 주피크가 34eV에서 나타남에 비해 열처리 후에는 36eV전후에서 나타났다.

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Ar 및 $O_2$ 유량에 따라 스퍼터된 GZO 박막의 특성변화

  • Kim, Jong-Uk;Kim, Deok-Gyu;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.230-230
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    • 2011
  • RF magnetron sputtering을 이용하여 Ar 및 $O_2$유량에 따라 GZO 박막을 유리기판 위에 제작하고 구조적, 광학적, 전기적 특성을 조사하였다. 박막 증착 조건의 초기 압력은 $1.0{\times}10^{-6}$ Torr, RF 파워는 25W, 증착온도는 상온으로 고정하였으며 기판은 Corning 1737 유리 기판을 사용하였다. 공정 변수로 Ar 유량을 40 sccm, 60 sccm, 80 sccm, 100 sccm으로 변화시켰으며, $O_2$ 가스비율을 5~20%으로 변화를 주어 실험을 진행하였다. GZO 타겟은 ZnO,Ga 분말을 각각 97:3 wt.%로 소결된 타겟을 사용하였다. 유리기판 위에 증착된 모든 GZO 박막에서 (002) 면의 우선 배향성이 관찰되었고 평균 85% 이상의 투과율을 나타내었다. 산소유량이 포함되지 않고 Ar 유량이 적은 GZO 박막의 결정성은 향상되었고, 광학적 밴드갭은 증가하였다. Hall 측정 결과 산소의 유량이 포함되어 있는 박막에서는 모두 완전한 산화물에 가까운 화학양론적 조성으로 면저항이 $10^6{\Omega}/{\Box}$ 이상인 부도체 특성을 보였으며, 산소가 포함되지 않은 샘플에서는 투명전도막 특성이 확인되었다. 산소가 포함되지 않은 Ar 유량이 60 sccm일 때 전기비저항 $3.25{\times}10^{-3}{\Omega}cm$, 전하의 농도 $9.41{\times}10^{20}\;cm^{-3}$, 이동도 2.04 $cm^2V^{-1}s^{-1}$로 투명전도막으로 적합한 전기적 특성을 얻었다. GZO 박막의 경우 산소가 포함될 경우 결정성이 저하되고, 절연특성을 갖는 것을 확인할 수 있었다.

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산소 유량에 따라 스퍼터된 ZnO 박막의 구조적, 광학적, 전기적 특성

  • Kim, Jong-Uk;Hwang, Chang-Su;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.84-84
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    • 2011
  • RF magnetron sputtering을 이용하여 산소 유량에 따라 ZnO 박막을 유리기판 위에 제작하고 구조적, 광학적, 전기적 특성을 조사하였다. 박막 증착 조건의 초기 압력은 $1.0{\times}10^{-6}Torr$, RF 파워는 100W, 증착온도는 상온으로 고정하였으며 기판은 Corning 1737 유리 기판을 사용하였다. 공정 변수로 Ar:$O_2$가스 비율을 50:50 sccm, 75:25 sccm, 100:0 sccm으로 변화시켰다. 유리기판 위에 증착된 모든 ZnO 박막에서 (002) 면의 우선배향성이 관찰되었고 85% 이상의 투과율을 나타내었다. 산소유량이 적을수록 ZnO 박막의 결정성은 향상되었고, 광학적 밴드갭은 증가하였다. Hall 측정 결과 산소의 유량이 포함되어 있는 박막에서는 모두 완전한 산화물에 가까운 화학양론적 조성으로 면 저항이 $10^6{\Omega}/{\square}$ 이상인 부도체 특성을 보였으며, 산소가 포함되지 않은 샘플에서는 n타입의 반도체 특성이 확인되었다. 산소가 포함되지 않은 Ar 유량이 100sccm일 때 전기비저항 $3.56{\times}10^{+1}1{\Omega}cm$, 전하의 농도 $2.04{\times}10^{18}cm^{-3}$, 이동도 $8.59cm^2V^{-1}s^{-1}$로 반도체 활성층으로 적합한 전기적 특성을 얻었다. ZnO 박막의 경우 산소가 포함될 경우 결정성이 저하되고, 절연특성을 갖는 것을 확인할 수 있었다.

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