• Title/Summary/Keyword: 빔 설계

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The Experiment of BIM application for Design Education - In the Elementary School Project - (교육을 위한 BIM 적용 실험 연구 - 초등학교 설계를 중심으로 -)

  • Kim, Yong-Il
    • Journal of the Korean Institute of Educational Facilities
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    • v.21 no.5
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    • pp.23-29
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    • 2014
  • It is evident that the education of architecture is being transformed under the influence of technological, environmental, social, and financial challenges. BIM application for design education is innovative responses that are expected to provide the high ground for the AEC industry. So the purpose of this paper introduces that application of BIM for design education of students is efficiency and effectiveness through an actual experiment by elementary school project. The results by actual experiment elaborate the role of BIM in architectural education and its appropriate place in the curriculum. Also they state that increasingly complex nature of professional world that is reliant on design teams, joint development efforts, and more complex design projects makes obsolete the designer who is trained as solo artist engaging in competitive and individual pursuits.

Design of Phased Array WDM Filter with Flat Passband Characteristics (평탄한 통과대역 특성을 갖는 위상배열 WDM 필터의 설계)

  • 최대필;김남훈;정영철
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.11 no.5
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    • pp.407-412
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    • 1998
  • In this paper, we design PHASAR(Phased Array) WDM(Wavelength Dvision Division Multi- and Demultiplexing) filters and evaluate their performance. The PHASAR WDM filter is designed to have flat-passband characteristics by inserting the multimode waveguides between input waveguides and a first star coupler. BPM simulation results show that the excess loss is smaller than 6.5 dB, the crosstalk is less than -22 dB and the 1 dB passband is about 50 GHz. The effect of the path difference error is also investigated.

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A design and fabrication of active phased array antenna for beam scanning using injection-locking coupled oscillators (Injection-Locking Coupled Oscillators를 이용한 빔 주사 용 능동 위상배열안테나의 설계 및 제작)

  • 이두한;김교헌;홍의석
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.22 no.8
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    • pp.1622-1631
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    • 1997
  • A 3-stages Active Microstrip Phased Array Antenn(AMPAA) is implemented using Injection-Locking Coupled Oscillators(ILCO). The AMPAA is a beam scanning active antenna with capability of electrical scanning by frequency varation of ILCO. The synchronization of resonance frequencies in array elements is occured by ILCO, and the ILCO amplifies the injection signal and functions as a phase shifter. The microstrip ptch is operated as a radiation element. The unilateral amplifier is a mutual coupling element of AMPAA, eliminates the reverse locking signal and controls the locking bandwidth of ILCO. The possibility of Monolithic Microwave Integrated Circuits(MMIC) of T/R module is proposed by simplified and integrated fabrication process of AMPAA. The 0.75.$lambda_{0}$ is fixed for a mutual coupling space to wide the scanning angle and minimize the multi-mode. The AMPAA has beam scanning angle of 31.4.deg., HPBW(Half Power Beam Widths) of 26.deg., directive gain of 13.64dB and side lobe of -16.5dB were measured, respectively.

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The Analysis of beam tile pattern properties of the base station array antenna (기지국 배열안테나의 빔틸트 패턴특성 분석)

  • Choe, Jeon-hwan;Lim, Gye-jae
    • The Journal of Korea Institute of Information, Electronics, and Communication Technology
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    • v.3 no.4
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    • pp.76-82
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    • 2010
  • For the purpose of controlling the beam tilt angle of the base station sector array antenna, phase shifter is used. Phase angles of this antenna depending on the tilt angles are designed, and the patterns on the vertical and horizontal planes are simulated and analyzed for the evaluation of base station antenna. This analysis is used in the optimal design of base station antenna because of maximum cell coverage and incremented traffic capacity, decreased interference.

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Design of Adaptive Beamforming Antenna using EDS Algorithm (EDS 알고리즘을 이용한 적응형 빔형성 안테나 설계)

  • Kim, Sung-Hun;Oh, Jung-Keun;You, Kwan-Ho
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.56-58
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    • 2004
  • In this paper, we propose an adaptive beamforming algorithm for array antenna. The proposed beamforming algorithm is based on EDS (Euclidean Direction Search) algorithm. Generally LMS algorithm has a much slower rate of convergence, but its low computational complexity and robustness make it a representative method of adaptive beamforming. Although the RLS algorithm is known for its fast convergence to the optimal Wiener solution, it still suffers from high computational complexity and poor performance. The proposed EDS algorithm has a rapid convergence better than LMS algorithm, and has a computational more simple complexity than RLS algorithm. In this paper we compared the efficiency of the EDS algorithm with a standard LMS algorithm.

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Nano-master fabrication for photonic crystal waveguides (광결정 도파로용 나노 마스터 제작)

  • 최춘기;한상필;정명영
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.12 no.4
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    • pp.288-292
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    • 2003
  • The fabrication of silicon nano-master with pillar structures using E-beam lithography and ICP etching was investigated for application of 2-dimensional polymer photonic crystal waveguides with air hole structures. Pillar structures with square, hexagon, dodecagon and circle were successfully fabricated. The diameters and structures of fabricated pillars were measured by CD-SEM and SPM-AFM. It was found that the optimal dose for complete circle pillar structures was 432 $\mu$C/$\textrm{cm}^2$.

KAERI ECR 이온원의 자장구조 측정

  • O, Byeong-Hun;Lee, Gwang-Won;Seo, Chang-Seok;In, Sang-Yeol;Jin, Jeong-Tae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.467-467
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    • 2010
  • 조립된 KAERI ECR(Electron Cyclotron Resonance Ion Source) 이온원의 중요한 성능을 결정하는 ECR 챔버 내의 자장구조를 3차원 가우스 메타를 이용하여 측정하였다. ECR 이온원의 자장은 축방향 (빔인출 방향) 자장 Bz와 반경방향 자장 Br (Bx, By)로 이루어지는 데, KAERI에서 개발한 ECR 이온원의 경우 Bz는 요크 구조체들을 포함한 3개의 전자석들에 의해 만들어지고, Br은 영구자석들로 구성된 헥사폴에 의해 만들어진다. 헥사폴에 의한 자장은 ECR 챔버 벽(R=34 mm)의 위치에서 최대 값을 측정하여 계산결과와 비교하였고, 챔버 내부 R=30 mm 위치에서 축방향과 반경방향의 자장구조를 측정하였다. 전자석 만에 의한 자장은 헥사폴 결합 요크와 챔버 내의 요크를 제거한 상태에서 자장을 측정하여 계산된 결과와 비교하였다. 전자석과 헥사폴에 의한 통합 자장구조는 ECR 챔버와 챔버 내의 요크 구조물을 제거한 상태로 R=30mm 위치에서 전자석의 정격전류에 의한 자장구조를 측정하였고, 최종적으로 이온원 자석구조물들을 모두 장착한 상태에서 축 중심(R=0mm)에서의 축방향 자장 값들을 측정하여 설계한 값과 비교하였다.

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Thyratron Drive 제작 및 안정도 측정결과

  • Kim, Sang-Hui;Park, Seong-Su;Park, Jong-Do;Kim, Gyeong-Ryeol
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.48-48
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    • 2010
  • 현재 포항가속기연구소의 선형가속기에서 운전되고 있는 모듈레이터는 클라이스트론의 펄스 전원을 공급하는 펄스 전원공급 장치로서 출력은 최대 400 kV, 500 A, $7.5\;{\mu}s$의 펄스를 S band 클라이스트론에 공급한다. 모듈레이터의 고전압펄스 약 40 kV을 스위칭 하기위하여 진공스위치인 싸이라트론 스위치를 사용하고 있다. 모듈레이터 시스템에서 Jitter 발생 요인을 살펴보면, 대부분 싸이라트론 스위치회로에서 발생된다. 싸이라트론이 유발시키는 Jitter는 약 10 ns 이하이므로 매우 적다고 할 수 있다. 스위치의 Jitter가 적음에도 불구하고 모듈레이터 시스템에서 Jitter가 크게 발생한다면, 싸이라트론의 음극(cathode)에서 양극(anode)으로 흐르는 전자빔을 제어하는 Control Grid(G1 & G2)의 pulse 전압의 Jitter가 크기 때문이다. 싸이라트론 Grid 2에 공급되는 pulse 전압의 Jitter를 줄이는 것은 필수적이라 하겠다. 진공스위치인 싸이라트론 Grid에 pulse 전압을 공급하는 싸이라트론 드라이버 시스템의 안정화가 중요하므로 시제품 설계시 안정성을 충분히 고려하였다. 본 발표에서는 시제품으로 제작한 Thyratron Drive System의 기능 및 측정결과에 대해서 기술하고자 한다.

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주요국의 원자력 미래기술 평가 비교

  • 정환삼;양맹호;함철훈;김현준;이동진
    • Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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    • 1997.05b
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    • pp.630-635
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    • 1997
  • 본 연구에서는 원자력 선진국들의 원자력 미래기술의 예측 사례를 조사ㆍ분석하고, 이를 우리나라의 사례와 비교하였다. 조사된 미래 원자력 기술예측 및 수준 평가는 국외의 경우 일본, 독일 그리고 프랑스의 사례가 조사되었고 국내에서는 과학기술정책관리연구소와 한국원자력연구소의 사례를 원용하였다. 이들 사례에서 공통적으로 평가하고 있는 기술의 중요성, 실현시기 그리고 제약요인을 비교하였다. 기술평가 결과에 나타난 일반적인 특징은 우선 개별기술의 중요성 평가에서는 공통적으로 방사성패기물처리, 원전내진설계 그리고 원전해체기술 등과 같이 이미 활용중인 기술로서 기존 시설의 안전성을 향상시킬 수 있는 기술의 중요성을 높이 평가하고 있다. 다음으로 실현시기 평가에서는 레이저빔 이용기술과 같이 인접과학 분야의 발전에 따른 시너지 효과가 기대되는 분야의 기술이 2010년 이전에 실현될 것으로 평가하고 있다. 마지막으로 기술개발의 저해요인의 평가는 조사사례 별로 정도의 차이는 있으나 기술적 제약요인이 가장 높고, 다음으로 경제적 제약 그리고 사회적 제약의 순으로 평가하고 있다.

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Four Spherical Mirror Stepper Optics for Deep UV Micro-Lithography (Deep UV 마이크로 리소그라피용 Stepper를 위한 4구면 반사경계)

  • 조영민;이상수;박성찬
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.2 no.4
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    • pp.186-192
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    • 1991
  • For the micro-lithography using a excimer laser beam $(\lambda\leq0.248$\mu\textrm{m})$. a mirror system consisting of four spherical surfaces with reductlon magnification 5X is designed. Initially the aplanat, flat field and the distortion free condition of the system are analytically investigated within Seidel 3rd order aberrations. And the computer-aided optimization technique has been employed for the further improved performance of the system. The final system has N.A. of 0.15 and image field diameter 3.3 mm, and has the diffraction-limited performance for KrF eximer laser beam.

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