$BCl_3$ /Ar 플라즈마에 따른 $TiO_2$ 박막의 식각 특성
(Etching Characteristics of $TiO_2$ Thin Film in $BCl_3$ /Ar Plasma)
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- 한국표면공학회:학술대회논문집
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- 한국표면공학회 2009년도 추계학술대회 초록집
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- pp.221-222
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- 2009