• 제목/요약/키워드: 박막 밀도

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고정밀저항용 크롬산화박막의 특성 (Characteristics of CrOx Thin-films for High Precision Resistors)

  • 서정환;노상수;이응안;김광호
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제18권3호
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    • pp.253-258
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    • 2005
  • This paper presents characteristics of CrOx thin-film, which were deposited on $Al_2$O$_3$ wafer by DC reactive magnetron sputtering in an argon-oxide atmosphere for high temperature applications. The present paper deals with a study of the technological characteristics of thin film resistors to provide a control in obtaining temperature coefficients of resistance of given value. The optimized condition of CrOx thin-film were thickness range of 2500 $\AA$ and annealing condition(350 $^{\circ}C$, 1 hr) in oxide partial pressure(3.5${\times}$10$^{-4}$ torr). Under optimum conditions, the CrOx thin-films is obtained a high resistivity, p=340 $\mu$Ωcm, a low temperature coefficient of resistance, TCR=-55 ppm/$^{\circ}C$. The CrOx thin films resistors which were fabricated in this paper had excellent characteristics as high precision resistors.

$C_2F_6$ 유도 결합 플라즈마를 이용한 질산화막 식각공정에 관한 연구 (A study on etching of SiON films using $C_2F_6$ inductively coupled plasma)

  • 이덕우;김병환;이병택
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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    • pp.155-158
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    • 2004
  • 질산화 (SiON) 막은 메모리와 광통신 소자 제조를 위해 활발한 응용이 기대되는 중요한 재료이다. SiON막 증착특성에 관해서는 많은 연구보고가 있었으나, 식각특성에 대해서는 그 발표가 매우 미미하다. 이에 본 연구에서는 PECVD를 이용하여 증착한 SION 박막을 Ni 마스크를 이용하여 식각하였다. 공정변수에는 소스 전력, 바이어스 전력, 압력, 그리고 $C_2F_6$ 유량 등이며, 각 변수의 실험범위는 400-1000 W, 30-90 W, 6-12 mTorr, 그리고 30-80 sccm이다. 식각률은 소스전력의 증가에 따라 233 에서 444 nm/min으로 거의 선형적으로 증가하였다. 비슷한 경향성이 바이어스 전력의 증가에 따라 관찰되었다. 이는 식각률이 플라즈마 밀도와 이온충돌 에너지에 강하게 영향을 받고 있음을 의미한다. 6-10 mTorr의 압력범위와 30-50 sccm의 $C_2F_6$ 유량범위 내에서의 식각률의 변화는 매우 미미하였다. 그러나 고압 (12 mTorr)과 고 유량 (60 sccm)에서 식각률은 크게 상승하거나 감소하였다. 전체 실험범위에서 관측된 식각률의 범위는 233-444 nm/min이었다.

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RABiTS와 PLD를 이용한 YBCO coated conductor 제조 (Manufacturing of YBCO coated conductor using RABiTS as the texture template and pulsed laser for the multi-layer oxide film deposition)

  • 박찬;고락길;신기철;송규정;정준기;;유상임;염도준
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1
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    • pp.104-106
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    • 2003
  • 다층의 산화물 박막으로 이루어진 coated conductor의 제조를 위하여 각층의 증착조건이 최적화되어야 한다. 가공/열처리를 통하여 2축배향성을 가지는 Ni 금속 기판위에 $Y_2O_3$, YSZ, $CeO_2$ 등의 산화물 완충층을 증착한 후 초전도층인 YBCO를 증착하였다. 12도와 8도의 in-plane fwhm (full width at half maximum)과 out-of-plane fwhm을 가지는 Ni 기판을 이용하여 13도와 4.5도의 in-plane 및 out-of-plane fwhm을 가지는 YBCO coated conductor를 제조하였다. 임계온도 (Tc), 임계전류 (Ic), 및 임계전류밀도 (Jc) 는 각각 84K, 3.3A, 및 $310,000\;A/cm^2$ 이었다.

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스트레인을 받고 있는 표면에서의 원자 확산계수 (Surface Diffusion Coefficients of Adatoms on Strained Overlayers)

  • 정경훈;윤종건;김호원;강세종
    • 한국진공학회지
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    • 제17권5호
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    • pp.381-386
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    • 2008
  • W(110) 표면에 성장한 Co 박막에서 원자 정역학을 주사터널링 현미경으로 연구했다. 원자섬의 개수 밀도를 측정하여 원자 확산 계수의 비를 알 수 있었다. W(110) 표면, Co가 1 원자층 성장된 표면, Co가 2 원자층 성장된 표면의 원자 확산 계수의 비는 상온에서 1:124:33000인 것으로 측정되었다. Co가 2 원자층 성장된 표면의 확산 계수가 Co 가 1 원자층 성장된 표면의 확산 계수보다 큰 것은 이종성장의 스트레인 효과로 인한 것으로 해석되었다.

Characteristics of Al Doped ZnO Thin Film by Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering

  • 양원균;주정훈
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.430-430
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    • 2012
  • Modulated pulsed power (MPP) 스퍼터링은 펄스 전압 shape, amplitude, duration의 modulation을 통해 증착율 손실을 극복하는 고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링의 한 종류이다. Micro second 범위에서 on/off 시간을 다중 세트 형태로 자유롭게 프로그램 할 수 있어서 아킹 없이 고전류 영역의 마그네트론 동작을 할 수 있으므로, 고주파 유도 결합 플라즈마원이나 마이크로웨이브 투입 등의 부가적인 플라즈마 없이도 스퍼터링 재료의 이온화 정도를 획기적으로 높일 수 있는 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 $2{\times}1{\times}0.2$의 sputtering system에서 기판 캐리어를 이용해서 $400{\times}400mm$ 기판을 $272{\times}500mm$ 크기의 AZO target (Al 2 wt%)이 설치되어 있는 moving magnet cathode (MMC)을 이용하여 MPP로 증착했다. 두 종류의 micro pulse set을 하나의 macro pulse에 사용함으로서 weakly ionized plasma와 strongly ionized plasma를 만들 수 있다. 다양한 micro pulse set을 이용하여 평균 전력 2 kW에서 peak 전력을 4 kW에서 45 kW까지 상승 시킬 수 있으며, 이 때 타겟-기판 거리 80 mm에서 이온전류밀도는 $5mA/cm^2$에서 $20mA/cm^2$까지 상승했다. MPP는 같은 평균 전력에서 repetition frequency가 증가할 때, 증착 속도가 증가했으며, 같은 repetition frequency에서 macro pulse length가 증가할 때도, 증착 속도가 증가했다. 최적화된 marco, micro pulse set에서 증착 속도는 평균 전력 2 kW에서 110 nm/min이었고, 700 nm의 박막에서 비저항은 $1-2{\times}10^{-3}ohm{\cdot}cm$였다. 표면거칠기 Rrms는 약 3 nm였고, 400-700 nm 영역의 평균 투과도는 72-76%였다.

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이중층 Ti전극이 적용된 TCO-less 염료 감응형 태양전지에 관한 연구

  • 김민태;김윤기;위성석;김동현;이해준;이호준
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.372-372
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    • 2011
  • 염료 감응형 태양전지는 상,하판 투명전극(TCO), 나노입자의 다공질 TiO2, 염료 고분자 층으로 구성된 광전극과 투명전극 및 백금(Pt) 박막으로 구성된 상대전극 그리고 두 전극 사이를 산화 환원용 전해질 용액으로 채우고 있는 구조이다. 이 구조에서 투명전극(TCO)은 재료비의 많은 부분을 차지하므로 제작비용 절감을 위한 TCO-less에 관한 연구가 활발히 진행 중이다. 본 연구에서는 TCO-less 염료 감응형 태양전지 제작을 위해 이중층 Ti 전극 구조를 제안하였다. 제작과정은 광조사 부분을 확보한 유리기판에 e-beam 증착법을 이용해 Ti 전극을 증착시킨 후 TiO2를 Ti전극과 일부 중첩하여 인쇄하고 그 위에 두 번째 Ti전극을 제작한다. 이중층 Ti전극 구조는 SEM, EIS 등의 분석장비를 사용하였고 기존 FTO 구조에 비해 단락전류밀도, 에너지 변환효율은 감소하였으나 직렬 내부저항이 약 27% 감소하여 fill factor가 28% 향상된 결과를 얻을 수 있었다.

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저밀도 폴리에틸렌 박막의 결정 형성과 절연파괴 특성 (Shperulites Formation of Low Density Polyethylene Thin Film and Characteristics of Dielectric Breakdown)

  • 강전홍;유영복;김종석;박강식;김석기;한상옥;신동국
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1997년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1420-1423
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    • 1997
  • To make clearly breakdown rl1cchanism and path at interface of crystal and amorphous region, we fabricated HDPE and LDPE thin film by dropping solution onto glass substrate. then annealed the film at $140^{\circ}C$. Shperulites formation and its interface prepared from of two different materials differ from each other. Comparing breakdown site and breakdown field of HDPE with those of LDPE, we can demonstrate the reason that breakdown holes in HDPE are concentrated on the region of interface. From the result, It is appeared that interface of crystallites lead not to weakness as electrical insulating materials.

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구리 박막의 표면형상과 물성에 대한 전류밀도 영향 (Property and Surface Morphology of Copper Foil on the Current Density)

  • 우태규;박일송;정광희;설경원
    • 한국재료학회지
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    • 제20권10호
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    • pp.555-558
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    • 2010
  • This study examined the effect of current density on the surface morphology and physical properties of copper plated on a polyimide (PI) film. The morphology, crystal structure, and electric characteristics of the electrodeposited copper foil were examined by scanning electron microscopy, X-ray diffraction, and a four-point probe, respectively. The surface roughness, crystal growth orientation and resistivity was controlled using current density. Large particles were observed on the surface of the copper layer electroplated onto a current density of 25 mA/$cm^2$. However, a uniform surface and lower resistivity were obtained with a current density of 10 mA/$cm^2$. One of the important properties of FCCL is the flexibility of the copper foil. High flexibility of FCCL was obtained at a low current density rather than a high current density. Moreover, a reasonable current density is 20 mA/$cm^2$ considering the productivity and mechanical properties of copper foil.

PRO 분리막 및 모듈성능에 지지체가 미치는 영향 (The effect of backing layer for pro membranes and modules)

  • 한만재;전은주;심연주;이종화
    • 상하수도학회지
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    • 제30권5호
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    • pp.553-559
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    • 2016
  • There has been increasing global interest in the environmental pollution problems produced by fossil fuel consumption and greenhouse gas emissions. In order to tackle these issues, new renewable energy such as solar, wind, bio gas, fuel cell and pressure retarded osmosis(PRO) have been developed extensively. Among these energy sources, PRO is one of the salinity gradient power generation methods. In PRO, energy is obtained by the osmotic pressure generated from the concentration difference between high and low concentration solutions separated by a semipermeable membrane. The development for high power density PRO membranes is imperative with the purpose of commercialization. This study investigates development of thin film composite PRO membrane and spiral wound module for high power density. Also, the influence of membrane backing layer on power density was identified, and the characteristic factors of PRO membranes was determined. Different backing layers were used to improve power density. As expected, the PRO membrane with more porous backing layer showed higher power density.

비대칭 마그네트론 스퍼터링으로 합성된 비정질 탄소박막의 물리적, 구조적 특성에서 타겟 파워 밀도의 영향 (The effect of target power density on physical and structural properties of amorphous carbon films prepared by CFUBM sputtering)

  • 이재희;박용섭;박재욱;홍병유
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.366-366
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    • 2008
  • Amorphous carbon (a-C) is an interesting materials and its characteristics can be varied by tuning it $sp^3$ fractions. The $sp^3$ fraction in a-C films depends on the kinetic energy of the deposited carbon ions. In this work, a-C films was synthesized on Si(100) and glass substrates at room temperature by closed-field unbalanced magnetron (CFUBM) sputtering with the increase of graphite target power density. The structural and physical properties of films were investigated by using Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectrometer (XPS), nano- indentation, atomic force microscope (AFM) and contact-angle measurement. We obtained the good tribological properties, such as high hardness up to 26 GPa., friction coefficient lower than 0.1 and the smooth surface (rms roughness: 0.12 nm). The increase of the physical properties with the increase of target power density are related to the increase of nano-clusters in the carbon network. Also, these results might be due to the increase of the subplantation and resputtering by the increase of ions density in the plasma.

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