• Title/Summary/Keyword: 미세전극

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A Study on the Design and Fabrication for the Micro-Mirror of Optical Disk System (광디스크용 마이크로미러의 설계 및 제작에 관한 연구)

  • 손덕수;김종완;임경화;서화일;이우영
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.19 no.11
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    • pp.211-220
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    • 2002
  • Optical disk drives read information by replacing a laser beam on the disk track. As information has become larger, the more accurate position control of a laser beam is necessary. In this paper, we report the analysis and fabrication of the micro mirror for optical disk drivers. A coupled simulation of gas flow and structural displacement of the micro mirror using the Finite-Element-Method is applied to this. The mirror was fabricated by using MEMS technology. Especially, the process using the lapping and polishing step after the bonding of the mirror and electrode plates was employed for the Process reliability. The mirror size was 2.5mm${\times}$3mm and it needed about 35V for displacement of 3.2 ${\mu}$.

Electrochemical Analysis of Lithium-Ion Battery at Standard Temperature and Low temperature Using EVS(Electrochemical Voltage Spectroscopy) (EVS(Electrochemical Volatage Spectroscopy)기법을 이용한 리튬이온배터리의 상온과 저온에서의 전기화학적 분석)

  • Han, Dong-Ho;Kim, Jong-Hoon;Lee, Sung-Jun
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2017.11a
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    • pp.159-160
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    • 2017
  • 본 논문에서는 리튬배터리의 전기화학적 분석법으로 전기 화학적 전압 분광법(electrochemical voltage spectroscopy;EVS)을 사용하였다. 전기화학적 활성상태의 밀도를 직접 측정하는 기법으로 정전압(potentiostatic) 제어를 기반으로 한다. EVS 테스트에서 양전극의 전압은 각 단계가 전기화학적 평행상태에 도달할 때 까지 유지되며 이 방법은 배터리의 전기화학적 산화 환원 전위의 미세한 차이에 기초하여 활성 물질의 상태에 대한 정확한 정보를 얻을 수 있다.

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Fabrication of Copper Electrode Array and Test of Electrochemical Discharge Machining for Glass Drilling (유리의 미세 구멍 가공을 위한 구리 전극군 제작 및 전기 화학 방전 가공 시험)

  • Jung, Ju-Myoung;Sim, Woo-Young;Jeong, Ok-Chan;Yang, Sang-Sik
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2003.10a
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    • pp.297-299
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    • 2003
  • In this paper, we present the fabrication of copper electrode array and test of electrochemical discharge machining for the fabrication of microholes on Borofloat33 glass. Copper electrode array is fabricated by the bonding of silicon upper substrate and lower substrate and copper electroplate. The silicon upper electrode having microholes fabricated by ICP-RIE is the mold of copper electroplate. The lower substrate is used as the seed layer for copper electroplate after Au - Au thermocompression bonding with the upper substrate.

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Feed-through noise reduction technique for MEMS Gyroscope (MEMS Gyroscope를 위한 feed-through 노이즈 제거 기법)

  • Park, Kyung-Jin;Kang, Seong-Mook;Kim, Ho-Seong;Baek, Chang-Wook
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.1503_1504
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    • 2009
  • MEMS 구조물은 ${\mu}m$단위의 크기로 만들어지므로 각속도계와 같이 정밀한 센서를 만들 때에는 노이즈 문제를 해결하지 않으면 신호를 측정할 수가 없다. MEMS 구조물의 미세한 진동에 의해 발생되는 수 pico-coulomb의 전하를 측정해야하므로 구동 신호가 검출 전극에서 Feed-through되어 나타나는 경우 그 크기가 구동에 의한 신호보다 100배 이상 크기 때문에 원하는 신호를 검출할 수 없다. 본 논문에서는 이러한 Feed-through 현상에 의한 노이즈를 줄이기 위하여 Guard-ring을 이용한 blocking 방법과 dummy port를 이용한 canceling 방법을 고안하고 Feed-through reduction 회로를 설계, 제작, 실험하여 그 효과를 확인하였다. 그 결과 구동신호가 6Vpp, 30kHz일 때, -53.186dBm이었던 Feed-through 신호가 -77.107dBm으로 줄어드는 것을 확인하였다. 또한 노이즈를 제거하지 않은 경우 측정할 수 없었던 Q-factor를 Feed-through reduction 회로를 사용하여 측정한 결과 진공 패키징된 Si 기반 자이로스코프가 공진주파수 약 7.018kHz에서 Q-factor가 약 2500임을 확인하였다.

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Development of prepareation technology of materials for high temperature electrolysis (고온수전해용 전극물질 개발)

  • Seo, Min-Hye;Hong, Hyun-Seon;Kang, Kyoung-Hoon;Kim, Jong-Min;Lee, Sung-Koo;Yun, Yong-Seung
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2007.06a
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    • pp.61-64
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    • 2007
  • Ni/YSZ ($Y_{2}O_{3}-stabilized$ $ZrO_{2}$), Cu/YSZ and CuO/YSZ composite powder for a cathode material in high temperature electrolysis (HTE) was synthesized by a mechanical alloying method with Ni (or Cu, CuO, Co) and YSZ powder. Microstructure of the composite for HTE reaction has been analyzed with various techniques of XRD, SEM to investigate effects of fabrication conditions. And conductivity of electrode was measured, Cu/YSZ cermet showed the higher electrical conductivity value than Ni/YSZ.

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Neuron-on-a-Chip technology: Microelectrode Array System and Neuronal Patterning (뉴런온칩 기술: 미세전극칩시스템과 신경세포 패터닝 기술)

  • Nam, Yoon-Key
    • Journal of Biomedical Engineering Research
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    • v.30 no.2
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    • pp.103-112
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    • 2009
  • Neuron-on-a-Chip technology is based on advanced neuronal culture technique, surface micropatterning, microelectrode array technology, and multi-dimensional data analysis techniques. The combination of these techniques allowed us to design and analyze live biological neural networks in vitro using real neurons. In this review article, two underlying technologies are reviewed: Microelectrode array technology and Neuronal patterning technology. There are new opportunities in the fusion of these technologies to apply them in neurobiology, neuroscience, neural prostheses, and cell-based biosensor areas.

Formation of Fine Pitch Solder Bump with High Uniformity by the Tilted Electrode Ring (경사진 전극링을 이용한 고균일도의 미세 솔더범프 형성)

  • Ju, Chul-Won;Lee, Kyung-Ho;Min, Byoung-Gue;Kim, Seong-Il;Lee, Jong-Min;Kang, Young-il
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.18 no.9
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    • pp.798-802
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    • 2005
  • The plating shape in the opening of photoresist becomes gradated shape in the fountain plating system, because bubbles from the wafer surface are difficult to escape from the deep openings, vias. In this paper, the bubble flow from the wafer surface during plating process was studied and we designed the tilted electrode ring to get uniform bump height on all over the wafer and evaluated the film uniformity by SEM and $\alpha-step$. In a-step measurement, film uniformities in the fountain plating system and the tilted electrode ring contact system were $\pm16.6\%,\;\pm4\%$ respectively.

A study on creep behaviors of $Ni-5wt.\%Al$ Anode for MCFC (용융탄산염 연료전지용 $Ni-5wt.\%Al$ Anode의 creep 특성에 관한 연구)

  • 김규범;문영준;임희천;이덕열
    • 한국전기화학회:학술대회논문집
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    • 2001.06a
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    • pp.231-236
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    • 2001
  • 용융탄산염 연료전지용 anode의 creep 현상을 개선하기 위해 $Ni-5wt.\%Al$ green sheet를 사용하여 다양한 소결조건을 적용, $Al_2O_3$를 형성시킨 전극을 제조하고 그 $Al_2O_3$의 형태에 따른 creep 특성에 대해 연구하였다. 소결은 각각 환원분위기, 완전산화-환원분위기, 부분 산화-환원분위기의 서로 다른 분위기에서 진행하였는데, 부분산화-환원분위기로 소결한 경우 Ni-Al 고용체 네트워크를 깨드리지 않고 $A1_2O_3$를 미세한 입자형태로 분산시킬 수 있었다. 그리고, 상기의 방법으로 제조된 anode를 $650^{\circ}C$에서 100psi로 가압하면서 creep test를 실시한 결과 약 $2.3\%$의 변형율을 나타내었다.

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Fabrication and Electrical Properties of High Reliability Ceramic Capacitor by RF Sputtering (RF Sputtering을 이용한 고신뢰성 Ceramic Capacitor의 제조 및 전기적 특성)

  • Lee, Chang-Bae;Yoon, Jung-Rag;Lee, Kyong-Min
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2010.06a
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    • pp.300-300
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    • 2010
  • Ceramic capacitor의 에너지내량을 향상시켜 제품의 신뢰성을 높이고자 RF Sputtering을 이용하여 외부전극을 형성하였다. 본 연구에서는 Target의 종류, 증착 시간 및 열처리 유/무에 따른 Ceramic capacitor의 전기적 특성 및 미세구조를 분석하여 최적조건을 확립하였으며, 최적 증착 조건으로 제작한 Ceramic capacitor의 에너지내량을 측정하였다. Target은 Ni target과 Cu target을 사용하였으며, Sputtering 시간은 10, 30, 60분으로 하였다. Sputtering 시간에 따른 Ceramic capacitor의 용량 특성과 손실은 큰 차이가 없었지만, Wire 연결시 Sputtering 시간에 따라 납땜성의 차이가 나타났으며, 증착 시간과 열처리 유/무에 따른 에너지내량의 변화를 확인하였다.

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Electrical, Structural, and optical property analysis of Si doped ZnO thin films (Si 첨가된 ZnO 박막의 전기적, 구조적, 광학적 특성 분석)

  • Kim, Jun-Sik;Jang, Gun-Eik
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2010.06a
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    • pp.218-218
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    • 2010
  • 본 연구에서는 투명 전극 대체 물질로써 유망한 ZnO의 전기적 특성 향상을 위하여 IV족 원소인 Si을 1, 3, 5 wt% 첨가하여 SZO 박막을 제작하여 dopant의 앙, 온도 변화에 따른 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하였다. Rf-magnetron sputtering system을 이용하여 slide glass위에 증착 하였으며 $100{\sim}500^{\circ}C$ 온도 변화를 주었다. 결정성 분석을 위한 XRD 분석 결과 온도 증가에 따라 (002) peak의 세기가 증가하며, Si 첨가량과 관계없이 동일한 2 theta에서 peak가 관측되었다. 미세 구조 분석 결과 입자 크기 또한 온도 증가에 따라 증가함을 확인하였으며, 박막 두께는 대략 300nm로 확인하였다. 모든 SZO 박막은 가시광선 영역에서 80% 이상의 투과율을 보였으며 PL 분석 결과 Si 첨가량과 관계없이 동일한 스펙트럼을 가지며 380 nm, 540 nm 근처에서 peak를 확인하였다. 최소 비저항 값은 5SZO 막에서 $2.44{\times}10^{-3}\;{\Omega}cm^{-1}$을 보였다.

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