• 한국방송∙미디어공학회:학술대회논문집
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• 한국방송공학회 2006년도 학술대회
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• pp.133-136
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• 2006

한정된 네트워크 대역폭을 가진 현재의 인터넷에서 영상의 품질을 향상시키기 위해 영상의 비트율을 높이는 것은 비용 등 여러 가지 문제로 인해 현실적으로 많은 어려움이 있다. 따라서 비록 충분하지 못한 비트율의 영상을 전송받더라도 전송받은 영상의 화질을 높이는 연구가 다양한 방법으로 진행되고 있다. 영상의 화질을 향상시키는 많은 방법 중 후처리 기법은 이러한 잡음을 효과적으로 제거 할 수 있으면서 동영상 압축 표준 복호기를 수정할 필요가 없기 때문에 좋은 해결책이 된다. 동영상의 압축 과정에서 낮은 비트율로 인해 발생하는 화질 열화 현상 중에 쉽게 완화 할 수 있고, 영상의 질이 비용 대비 높은 효율로 좋아지는 대표적인 현상이 블록화 현상이다. 일반적으로 블록화 현상은 영상의 고주파대역에서 나타나므로 본 논문에서 영상의 고주파 성분과 블록화 현상을 구분하기 위해 Sobel 마스크를 사용한다. 구분된 블록화 현상이 발생한 매크로블록의 양쪽 경계면에 4-tap 저주파 통과 필터를 사용하여 블록화 현상을 효과적으로 완화할 수 있다. 개선된 영상의 화질 평가 기법으로 신호처리 분야에서 많이 사용되는 객관적인 지표인 PSNR에 의한 평가와 함께 실제 인간의 시각을 기준으로 주관적이고 감성적인 관찰에 의한 평가를 함께 수행한다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제5권2호
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• pp.289-296
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• 2001

본 논문에서는 뒤틀린 니매틱 액정디스플레이를 가변적인 위상마스크로 사용하여 기존의 2진 데이터 영상에 위상변조를 추가하는 방법을 제안한다 이를 위해 액정디스플레이의 위상변조특성을 이론 및 실험적으로 조사하였고, 입사빔 세기가 매우 커지면 위상변조 특성이 변하는 현상이 존재함을 실험적으로 보였다. 위상변조가 가미된 2진 데이터 영상의 저장특성을 실험적으로 조사하기 위해 여덟 장의 홀로그램을 각다중 을 사용해서 Dupont 사의 광폴리머의 한 지점에 기록하였다. 위상변조를 사용하여 Fourier 면 홀로그램을 기록할 경우, 기존의 진폭변조방식만 사용하는 경우에 비해 빔세기 균일도를 높일 수 있어서, 같은 조건에서 더 많은 홀로그램을 기록할 수 있음을 보였다.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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• pp.21.2-21.2
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• 2009

발광다이오드는 에너지 변환 효율이 높고 친환경적인 장점으로 인하여 차세대 조명용 광원으로 각광받고 있다. 하지만 현재 발광다이오드는 낮은 광추출효율로 인하여 미래의 수요를 충족시킬 수 있을 만큼 충분한 성능의 효율을 나타내지 못하고 있다. 발광다이오드의 낮은 광추출효율은 반도체소재와 외부 공기와의 큰 굴절률 차이로 인하여 발생하는 전반사 현상에 기인한 것으로 이 문제를 해결하기 위하여 발광다이오드 소자의 발광면 및 기판을 텍스처링하는 방법이 중요하게 인식되고 있다. 하지만 현재까지 패턴의 구조에 따른 광추출 특성을 분석한 연구는 미진한 상황이다. 본 연구에서는 임프린팅 및 건식식각 공정을 이용하여 다양한 구조의 나노 및 micron 급 패턴을 발광다이오드의 p-GaN층에 형성하였다. 발광다이오드 기판 위에 하드마스크로 사용하기 위한 SiO2를 50nm 증착한 후 그 위에 UV 임프린팅 공정을 진행하여 폴리머 패턴을 형성시켰다. 임프린팅 공정으로 형성된 폴리머 패턴을 CF4CHF3 플라즈마를 이용하여 SiO2를 건식식각하였고, 이후에 SiCl4와 Ar 플라즈마를 이용한 ICP 식각 공정을 진행하여 p-GaN층을 100nm 식각하였다. 마지막으로 BOE를 이용한 습식식각 공정으로 p-GaN층에 남아있는 SiO2층을 제거하여 p-GaN층에 sub-micron에서 micron급의 홀 패턴을 형성하였다. Photoluminescence(PL) 측정을 통해서 발광다이오드 소자에 형성된 패턴의 구조에 따른 광추출 특성을 분석하였다.

• 한국통신학회논문지
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• 제15권3호
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• pp.252-259
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• 1990

本 論文은 기존 LOCOS工程의 張點을 모두 겸비한 側面璧 SWAMI 技術에 대한 새로운 構造를 提示한다. 새로운 SWAMI공정은 순수 窒化膜 壓力과 體積 膨腸에 기인한 壓力을 크게 줄이기 위해서 側面璧 주위에 얇은 질화막과 反應性이온 飾刻으로 기울어진 실리콘 측면벽을 結合시켰따. 製作된 結果에 의하면, 缺陷이 없는 완전히 새부리 모양이 形成되지 않는 局地的 酸化 공정은 기울어진 面의 異方性 산화 隔離에 의해 實現시킬 수 있었다. 추가적인 마스크 段階는 要求되지 않는다. 이 工程에서 PN 다이오드의 漏泄電流는 기존 LOCOS 공정 보다 減少되었다. 한편 가장자리 部位는 漏泄電流 密度에서 평편한 接合 부위 보다 높게 分析되었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 하계학술대회 논문집 Vol.7
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• pp.129-129
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• 2006

인쇄회로를 제작하기 위하여 기판상에 에칭 레지스트, 도금막, 절연재료, 솔더 마스크 등을 패터닝 하게 되는데, 일반적으로 이러한 유기체 막들은 대부분 액상이나 고형의 필름 형태로 패턴을 형성하게 된다. 형성된 패턴과 동박과의 접착력 향상이 가장 주요한 문제점 중의 하나이다. 상대적으로 편평한 동박면과 유기체 막과의 접착력을 향상시키기 위해 일반적으로 접촉 면적을 증가시키기 위한 표면개질을 하게 된다. 기계적 브러싱이나 스크러빙에 의해서도 기판상의 동박의 surface topography 를 개선하기 위한 노력이 시도 되고 있지만, 본 연구에서는 microetching 방법에 의해서 화학적으로 동박 표면상에 최대한 요철을 많이 형성하여 에칭 레지스트와 동박 간의 접착력을 증대시키기 위한 연구를 수행하였다.

• 한국염색가공학회지
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• 제32권4호
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• pp.199-207
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• 2020

Recently, as the demand for masks increases, the use of filter-replaceable cotton masks is increasing. A filter-replaceable cotton mask is one of the ways to solve the environmental problems of a disposable nonwoven mask because only the filter can be replaced after washing. Cotton fiber products are known to be environmentally friendly, but cotton products dyed with general synthetic dyes are not safe for humans. In this study, to prepare of cotton mask applied with natural dyeing, the optimal dyeing conditions are set when dyeing with gallnut extract. A polychromatic natural dye that changes color by mordant, and the functionalities of gallnut dyeing fabrics are evaluated. The experimental method is dyed the gallnut by temperature and time by concentration to set the optimal conditions. The color fastness rating grade of aluminium potassium sulfate dodecahydrate, copper(ll) sulfate pentahydrate, and iron(ll) chloride tetrahydrate were evaluated after the pre/post mordanting.

• 한국광학회지
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• 제34권6호
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• pp.276-282
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• 2023

본 논문에서는 가격이 비싼 고보 조명을 대체하기 위해 freeform lens를 사용하여 조명 광학계를 설계하였다. Freeform lens 조명은 이미지 마스크를 사용하지 않으며, 렌즈 한 매만으로도 렌즈 면에서 직접 이미지를 형성하여 조사할 수 있어 고보 조명에 비해 단가를 절감할 수 있다. 또한 설계한 freeform lens 조명의 성능을 확인하기 위해서 조도 시뮬레이션을 진행하였다. 이를 통해 설계한 조명이 조사하고자 하는 이미지와 유사한 조도분포를 가지며, 고보 조명의 성능과 유사한 광효율 47%를 가지므로 고보 조명을 대체할 수 있음을 확인하였다.

• 한국융합학회논문지
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• 제11권7호
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• pp.19-24
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• 2020

WHO는 3월 11일 코로나 19에 대한 세계적 대유행, 팬더믹(pandemic)을 선언하였다. 하지만 경제 및 사회적 활동으로 인하여 면대면 교육이나 세미나를 위해 건물 출입을 해야하는 상황이 발생한다. 코로나 19의 감염여부의 1차 체크 방법으로 체온 측정이 있어 근거리 체온 측정을 통해 1차적인 출입 차단을 실시하고 있다. 그로 인해 일일이 직접 체크하는 것이 번거롭기 때문에 열화상 카메라를 건물 입구에 설치하고, 적외선 카메라를 이용하여 간접적으로 체온을 측정하여 출입 통제를 하고 있다. 중고교나 대학 및 평생교육의 경우 출석체크 등과의 연동이 가능하고, 마스크 착용 여부를 자동으로 인식하고, 수강생의 인증이 가능한 시스템이 필요하다. 제안시스템은 스마트미러에 탐재된 카메라로 마스크 착용 여부를 확인하고, 음성인식 기술을 활용하여 건물안으로 들어오고자 하는 사용자의 목소리 인식을 통해 사용자를 인증하고, 출입 여부를 결정하는 시스템을 제안하고자 한다. 제안 시스템은 근거리 온도 측정과 수강생의 스마트 폰의 출석체크 APP와 연동을 하게 되면 출석체크도 가능하다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.244-245
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• 2010

최근 광전자 분야에서는 미래 에너지 자원에 대한 관심과 함께 GaN 기반 발광다이오드 및 태양전지 연구가 활발히 진행되고 있다. GaN는 높은 전자 이동도와 높은 포화 속도 등의 광전자 소자에 유리한 특성을 가지고 있으나, 고 인듐 함유량과 막질의 우수한 특성을 동시에 구현하는 것은 매우 어렵다. 이를 극복하기 위한 방법으로써 선택 영역 박막 성장법(Selective Area Growth)은 마스크 패터닝을 통해 제한된 영역에서만 박막을 성장하는 방법으로써 GaN의 막질을 향상 시킬 수 있는 방법으로 주목받고 있다. 본 논문에서는 대면적 기판에서 GaN의 막질 향상뿐만 아니라 고인듐 InGaN 박막 성장을 위하여 서브마이크로미터 주기와 크기를 갖는 홀 패턴을 포토리소그라피 공정 최적화를 통해 구현할 수 있는 방법에 대해 논의한다. 그림. 1은 사파이어 기판 위에 선택 영역 박막 성장법을 이용하여 성장한 n-GaN/활성층/p-GaN의 구조를 나타낸 그림이다. 이를 통하여 서브마이크로미터 스케일의 반극성 InGaN면 위에 높은 인듐 함유량을 가지면서도 우수한 특성을 갖는 박막을 얻을 수 있다. 본 실험을 위하여 사파이어 기판 위에 SiO2를 증착한 후 포토레지스트(AZ5206)을 도포하고 포토리소그라피 공정을 진행하여 2um 크기 및 간격을 갖는 패턴을 형성했다. 그림. 2는 AZ5206에 UV를 조사(5초)하고 현상(23초)한 패턴을 윗면(그림. 2(a))과 $45^{\circ}$ 기울인 면(그림. 2(b)) 에서 본 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진이다. 이를 통해 약 2.2um의 홀 패턴이 선명하게 형성 됨을 볼 수 있다. 그 후 수백나노 직경의 홀을 만들기 위해서 리플로우 공정을 수행한다. 그림. 3은 리플로우 온도에 따른 패턴의 홀 모양을 AFM(Atomic Force Microscope)을 이용하여 측정한 표면의 사진이다. 이를 통해 2차원 평면에서 리플로우 온도 및 시간에 따른 변화를 볼 수 있다. 그림.3의 (a)는 리플로우 공정을 진행하기 전 패턴이고, (b)는 $150^{\circ}C$에서 2분, (c)는 $160^{\circ}C$에서 2분 (d)는 $170^{\circ}C$에서 2분 동안 리플로우 공정을 진행한 패턴이다. $150^{\circ}C$와 $160^{\circ}C$에서는 직경에 큰 변화가 없었고, $160^{\circ}C$에서는 시료별 현상 시간 오차에 따라 홀의 크기가 커지는 경향이 나타났다. 그러나 $170^{\circ}C$에서 2분간 리플로우 한 시료 (그림. 3(d))의 경우는 홀의 직경이 ~970nm 정도로 줄어든 것을 볼 수 있다. 홀의 크기를 보다 명확히 표현하기 위해 그림.3에 대응시켜 단면을 스캔한 그래프가 그림.4에 나타나 있다. 그림.4의 (a) 및 (b)의 경우 포토레지스트의 높이 및 간격이 일정하므로, 리플로우에 의한 영향은 거의 없었다. 그림. 4(c)의 경우 포토레지스트의 높이가 그림.4(a)에 비해 ~25nm 정도 낮은 것으로 볼 때, 과도 현상 및 약간의 리플로우가 나타났을 가능성이 크다. 그림. 4(d)에서는 ~970nm의 홀 크기가 나타나서 본 연구에서 목표로 하는 나노 홀 크기에 가장 가까워짐을 확인할 수 있었다. 따라서, $170^{\circ}C$ 이상의 온도와 2분 이상의 리플로우 시간 조건에서 선택 영역 성장을 위한 나노 홀 마스크의 크기를 제어할 수 있음을 확인하였다.

• 지식경영연구
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• 제25권1호
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• pp.173-192
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• 2024

최근 뷰티 산업은 급격한 성장과 혁신으로 빠르게 발전하였으며, 코로나19 팬데믹으로 인한 마스크 착용 및 비대면 생활의 증가와 같은 생활 양식 변화에 따라 새로운 전환을 겪고 있다. 본 연구는 온라인상에 나타난 소비자의 피부에 대한 의견을 분석하여 코로나19 팬데믹 이후 뷰티 산업의 변화를 수요 측면에서 이해하고자 하였다. 이를 위해 2017년부터 2022년까지 소셜 미디어에 게재된 게시글 중 '피부 고민'을 포함한 96,908개의 게시글을 수집하고 이를 구조적 토픽모델에 적용하여 피부 관련 주제를 도출하였다. 분석 결과, 소비자가 고민하고 있는 피부 관련 주제는 총 22개로 구분될 수 있음을 확인하였으며, 이들 주제는 크게 뷰티 제조업, 뷰티 서비스업·연관산업, 피부고민, 기타 등 4가지 유형으로 구분될 수 있었다. 또한 본 연구는 분석 기간을 코로나19 팬데믹의 확산 양상을 기준으로 7개 단계로 나누고 각 토픽의 비중이 어떻게 변화하는지를 상승, 하강, 일정, 진동으로 구분하여 보았다. 코로나19 팬데믹 전과 후 시점에 대하여 주제별 비중의 변화 양상을 분석한 결과, 피부 고민 중 피부 트러블(여드름)과 이와 관련된 제품(스팟패치)은 상승 분야로, 뷰티 연관산업 중 성형외과와 한의원은 하강 분야로, 뷰티 제조업 중 수분 마스크팩, 메이크업 제품은 큰 변화가 없는 일정 분야로 나타났다. 또한 코로나 발생기간 내에서 팬데믹이 최고조에 달한 시기에는 바디케어 제품과 관련된 토픽이 급증하는 것을 확인할 수 있었다. 본 연구의 결과는 뷰티 산업의 수요 변화에 대응하여 기업이 제품 개발, 마케팅 전략을 수립하는 데에 활용될 수 있으며, 팬데믹 발생 시 정부가 경제적 지원 정책을 수립하는 경우 정책 추진의 근거로서도 활용될 수 있을 것으로 기대된다.