• 한국자기학회:학술대회 개요집
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• 한국자기학회 1991년도 추계연구발표회 논문개요집
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• pp.86-87
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• 1991

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제9권5호
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• pp.490-497
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• 1996

RF마그네트론 스파터링에 의한 $sSnO_2$ 박막을 증착한 결과 작동조건에 따라 표면에서 막손상이 발생하였는데, 이는 target에서 생성된 높은 에너지의 고속입자가 기판에서 직접 충돌로 일어나며, 마그네트론의 자계분포와도 관계된다. 또한 기판의 위치에 따라 박막의 전기적, 구조적 특성이 급격히 변하는데 본 논문은 중심자석의 세기와 RF power, 가스압력, 그리고 기판온도 등의 스파터링 작동조건을 변화시키면서 박막의 비손상을 검토하였고, 물성특성을 평가하였다. 실험결과로 부터 기판의 외축부에서 제작된 박막은 전반적으로 막손상이 없었고, 특히 target의 중심자석을 Cobalt로 설치하고 15 mTorr의 가스압력과 50 W의 RF power로 한 경우 가장 우수한 특성을 가진 박막을 얻을 수 있었다. 추가로 막손상을 방지하고자, 환원형의 masking glass를 target위에 설치하였는데, 고에너지 입자의 직접 충돌을 확실히 차단할 수 있었으며, 비저항율도 target의 부식부위 (erosion)에 대응하는 부분에서 100배 정도로 개선하였다.

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제10권7호
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• pp.700-705
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• 1997

Transparent conducting indium tin oxide (TC-ITO) thin films are deposited on soda lime glass by a dc magnetron sputtering technique having the unbalanced-magnet structure in order to improve the electrical/material characteristics and to avoid the surface damages. The material properties are measured by the x-ray diffractometer (XRD) and atomic force microscope (AFM). The (400) peak as the preferred orientation of <100> direction for ITO thin films is stabilized with the increase of substrate temperature. The surface roughness estimated by AFM 3D image at the substrate temperature of 40$0^{\circ}C$ is extremely uniform. The best resistivity of ITO films (5500 $\AA$ thick) at 40$0^{\circ}C$ is about 1.3$\times$10$^{-4}$ $\Omega$cm on the position of 4 cm from substrate center.

• 한국진공학회지
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• 제5권2호
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• pp.139-146
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• 1996

rf 마그네트론 스파터링법을 이용하여 투명 전도성 Sb-doped $SnO_2$ 박막을 증착하였으나 박막표면에서 막손상현상이 발생하였다. 특히 기판 중심부 및 타게트 부식부위에 대응하는 부분에서 발생된 막손상을 방지하고자 , 환원형의 마스크 유리가 타게트표면에서 1.5cm지점에 설치되었다. 또한 마그네트론 스파터링의 작동조건인 rf전력, 스파터링 가스압력 및 기판온도를 최적으로 조절하면서 박막의 균일성과 전기적 특성을 평가하였다. 작동조건을 이용한 실험결과에서 균일하고 막손상이 없는 박막을 증착하는 최적온도는 압력 변화에 따라 변하며, 비율은 50w의 rf전력에서 5mTorr당 약 $100^{\circ}C$정도였다. 유사하게 rf 전력？ md가에 대한 보상에서 최적온도는 적절한 비율로 내려간다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1990년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.173-175
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• 1990

A dc magnetron system for cathode sputtering with a spool-shaped cathode is described. The sputtering conditions are discussed concerning pressure, magnetic field and discharge current.

• 한국자기학회지
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• 제4권2호
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• pp.100-105
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• 1994

대표적인 연자성재료 중의 하나로 알려진 Ni-Fe 합금박막을 고주파 마그네트론 스파터링 장치를 사용하여 제작했다. 박막두께가 Ni-Fe 합금박막의 특성에 미치는 영향을 고찰하기 위하여, 스파터링 시간을 변화시켜 주면서 제작된 시료에 대해 강자성 공명 실험에서 얻은 미분형 공명흡 수곡선을 분석하여, 유효자화 $M_{eff}$, 교환상수(exchange stiffness constant) A, 그리고 분 광학적 분리인자 g를 구했다. 모든 시료에 대해 유효자화는 거의 일정한 값을 보였으나, 교환상수 는 시료의 두께가 증가함에 따라 비교적 큰 증가폭을 나타냈다. 분광학적 분리인자는 시료의 두께 가 증가함에 따라 약간 증가하는 경향성을 보였는데, 이는 스핀자기모멘트에 대한 궤도자기모멘트 의 상대적인 기여가 증가했기 때문인 것으로 생각된다.

• 한국자기학회지
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• 제3권2호
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• pp.125-129
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• 1993

강자성 공명 실험을 사용하여 고주파 마그네트론 스파터링 방법으로 제작된 $Co_{79}Cr_{21}(at.%)$ 박막의 자기적 특성을 조사하였다. $Co_{79}Cr_{21}$ 박막은 $K=2.91{\times}10^{5}\;erg/cm^{3},\;H_{k}'=2526\;Oe,\;g=2.17$인 특성을 보이며, Q-band 강자성 공명 실험 결과와 토오크 실험결과는 서로 잘 일치함을 볼 수 있었다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1999년도 추계학술대회 논문집 학회본부 C
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• pp.1096-1098
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• 1999

The performance of as plasma display panels (PDP) is influenced strongly by the surface glow discharge characteristics on the MgO thin films. This paper deals with the optimum preparation conditions of MgO Protecting layer by RF unbalanced magnetron sputtering(UBMS) in surface discharge type AC PDP. The samples prepared with the do bias voltage of -10V showed lower discharge voltage, lower erosion rate as a consequence of ion bombardment, higher optic transparency and higher crack resistance in annealing process than those samples prepared by conventional magnetron sputtering or E-beam eraporation.

• 한국태양에너지학회 논문집
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• 제26권1호
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• pp.57-64
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• 2006

Cr-CrO cermet solar selective coatings with a double cermets layer film structure were prepared using a special direct current (dc) magnetron sputtering technology. The typical films structures from surface to bottom substrate were measured to be an $Al_2O_3$ anti-reflection layer on a double Cr-CrO cermet layer on an Al metal infrared reflection layer. Optical properties of optimized Cr-CrO cermet solar selective coating were absorptance (${\alpha}$) = 0.95 and emittance (${\varepsilon}$) = 0.10 ($100^{\circ}C$). Atomic force microscopy (AFM) image showed that Cr-CrO cermet film was very smooth and their grain size was also very small The results of thermal stability test showed that the Cr-CrO cermet solar selective coatings were stable for use at temperature of $400^{\circ}C$.

• 한국자기학회지
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• 제10권2호
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• pp.67-73
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• 2000

6개의 타겟을 가진 직류 마그네트론 방식을 이용하여 스파터링 전력 및 압력을 변화시켜 Si/Ta(50 $\AA$)NiFe(60 $\AA$)/CoFe(20 $\AA$)/Cu(26 $\AA$)/CoFe(40 $\AA$)/FeMn(150 $\AA$)Ta(50 $\AA$) 스핀 밸브 박막을 제조하여 교환자기이방성 및 자기적 특성을 조사하였다. FeMn 층의 증착시 스파터링 전력을 증가시킴으로써 교환이방성을 증가시킬 수 있었으며, X-선 회절 실험결과 스파터링 전력 증가에 따른 교환이방성의 증가는 FeMn (111)면의 우선성장 발달에 기인하는 것으로 판단되었다. 강자성상을 사이에 두고 있는 Cu의 스파터링 압력을 1-5 mTorr 증가시 교환이방성이 급격히 감소하며, 자기저항비 및 자장민감도도 감소하였다. Si/Ta/NiFe/CoFe/Cu(t), 30 W/CoFe, 100 W/FeMn, 100 W/Ta 스핀 밸브에서 Cu 두께를 22-38 $\AA$까지 변화시켜 자기저항비를 조사한 결과 Cu의 두께가 22 $\AA$일 때 자기저항비 6.5%까지 얻을 수 있었으며, Cu 두께를 감소시켜 교환이방성을 증가시킬 수 있었다. 이와 같은 Cu 두께 감소에 따른 교환이방성의 증가는 FM-AFM 스핀-스핀 상호작용에 의하여 설명하였다.