• Korean Journal of Crystallography
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• 제9권1호
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• pp.30-38
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• 1998

A new frequency weighing sensor was applied to grow Bi12GeO20 crystals in the auto-di-ameter control system of Czochralski method. The rotation rate was varied in the range of 23 to 21 rpm to preserve flat interface in a given heat configuration. To prevent the constitutional super-cooling from the evaporation loss, 105% stoichiometric amount of Bi2O3 was employed, equivalent to 6.18 molar ratio of Bi2O3 to GeO2. Transparent and light brown Bi12GeO20 single crystal in uniform diameter was grown. The dislocation density was determined to be 103/cm2 corresponding to the optical quality in commercial applications. The grown crystal measured diameter 25 mm and length 70 mm and the preferred growth direction was confirmed to be <110>.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• 제29권4호
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• pp.149-153
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• 2019

HVPE is one of the GaN single crystal manufacturing methods which has been commercially widely used due to its high growth rate. HVPE method consists of a number of processes, in particular the nitridation of the substrate prior to GaN growth has a significant effect on the crystalline quality of the manufactured GaN single crystal. In this study, we investigated the effect of nitridation for crystalline quality of GaN when it was grown on the sapphire substrate. The whole growth conditions except for the nitridation process were the same, and the gas flow rate supplied to the sapphire substrate was variously changed during the nitridation. Here, we examined the effect of nitridation via the surface characterization of GaN single crystal grown by HVPE.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• 제5권2호
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• pp.109-111
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• 1995

We suggest the phenominological model to determine the mangetoelastic coupling coefficient in Cu/Ni/Cu thin films by considering effective anisotropy energy with magnetic film thicknesses. This indirect determination can be applied other single crystalline systems.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• 제38권8호
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• pp.761-764
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• 2001

새로운 AlN 박막 제조용 단일 전구체로 AlCl$_3$: $^{t}$ BuNH$_2$을 합성하였다. c축으로 배향된 AlN 박막을 80$0^{\circ}C$에서 사파이어(0006) 단결정 위에 MOCVD 공정으로 증착시켰다. 본 전구체를 사용함으로 박막내의 잔류탄소 및 산소의 오염을 크게 낮출수 있었으며 Al:N의 비율이 1:1인 화학량론비의 AlN 박막을 제조할 수 있었다. 단일 전구체의 결정 구조는 단결정 X선 구조분석과 원소분석을 통하여 규명하였으며 박막분석은 SEM, XRD, SEM, AFM과 RBS 등으로 행하였다.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• 제11권5호
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• pp.211-217
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• 2001

Czochralski법에 의한 ZnWO₄단결정을 [100], [101], [001] 방향으로 성공적으로 성장시켰다. 각 축 방향에 따른 성장조건이 rotation speed, pulling rate, 성장된 결정의 직경 등의 변수를 가지고 조사되어졌다. 성장된 결정의 냉각시 발생되는 균열을 annealing 효과에 의하여 방지할 수 있었다. 성장된 결정의 방위는 Laue back reflection으로 결정하였다. 각 축 방향으로 성장된 결정의 미세구조적 특징이 논하여졌으며, 경도, 열팽창계수 및 유전상수의 물리적 특성이 평가되어졌다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• 제3권2호
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• pp.198-202
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• 1994

Zn0.5Mg0.5Te 및 Zn0.5Mg0.5Te:Co 단결정을 온도진동법을 응용한 화학수송법으로 성장시켰고, 광 학적 energy gap의 온도의존성은 Varshni의형식에 잘 적용되었다. 광학적 energy gap의 온도의존성으 로부터 열역학 기본함수인 entropy, enthalpy, heat capacity를 구했다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• 제4권2호
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• pp.150-155
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• 1995

Mo 단결정 표면에 황을 흡착시켜 형성된 상층구조를 AES와 LEED로써 연구하였다. 황의 피복률은 sulfur gun으로부터 생성되는 S2 flux로써 조절하였으며, 여러 가지 흡착된 황의 상층구조를 LEED로써 관찰하였다. 황화된 Mo 표면에서 탈산소반응(HDO)의 모델 분자로서, Furan의 흡착과 반응을 승온반응분광법(TPRS)으로 조사하였다. 낮은 온도에서 Furan 분자의 헤테로 원자는 직접 이탈하여 안정한 기체상의 반응 생성물인 일산화탄소를 형성하였으며, 이 반응은 Mo의 (100) 및 (110)면에서 각각 깨끗한 표면 및 황화된 표면에 관계없이 일어났다. 이를 바탕으로 Mo 표면에서 Furan의 분해반응에 대한 메카니즘을 제안하였다.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• 제14권1호
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• pp.19-24
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• 1977

상온에서 단결정 Sapphire가 충격에 의해서 파괴될 때에 수반되는 미세 조직변화에 대하여 관찰하였다. 파괴된 시편을 광학현미경으로 조사한 결과 cleavage는 주로 rhombohedral plane에서 일어나고 있음을 알았다. 그러나 관찰시료 파면의 양상을 박막(replica)으로 만들어 투과형 전자현미경으로 관찰한 결과로는 국부적으로 소성변화가 일어나고 있음을 알 수 있었다. 이러한 국부적인 소성변화는 crack의 진행을 저해하거나 또는 진로를 변경 시켜주므로 보다 높은 fracture energy를 유발시키는 원인이 됨을 알 수 있다.

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 추계학술대회 발표 논문집
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• pp.23-25
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• 2003

단결정 실리콘의 이방성 습식식각을 위하여 KOH 용액을 사용하여 식각 특성을 관찰하였다. 식각율은 식각액의 온도와 농도에 따라 변하는 것이 관찰되었으며, 패턴 형성 방향과 식각액의 농도에 따라 식각 형태가 다름도 알 수 있었다. 식각용액의 농도 20wt0% 이고 식각 시의 온도가 $80^{\circ}C$ 이상에서는 알파벳 "U" 자 모양의 형태로 식각이 이루어지고, 그 이하의 온도와 농도에서는 "V" 자 모양의 식각형태가 이루어졌다.; 자 모양의 식각형태가 이루어졌다.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• 제23권6호
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• pp.265-271
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• 2013

Czochralski (CZ) growth process is one of the most important techniques for growing high quality sapphire single crystal for LED application. In this study, the inductively-heated CZ growth processes for the sapphire crystal of 300 mm length have been analyzed numerically using finite element method. The hot zone structures were modified with the crucible geometry change and the additional insulation layer installed above the crucible. The results show that the solid-liquid interface height decreased from about 80 mm at initial stage to 40 mm after mid-stage due to achieve the growth speed balance. Also the optimal input power of the modified system was similar with the original one due to the compensation effects of the crucible geometry and additional insulation. The crystal temperature grown by the modified CZ grower was increased about 10 K than the original one. Therefore the sapphire crystal of 300 mm height was grown successfully.