Recovery of copper powder from copper chloride solution used in $MoO_3$ leaching process was carried out using a cementation method. Cementation is a simple and economical process, necessitating less energy compared with other recovery methods. Cementation utilizes significant difference in standard reduction potential between copper and iron under standard condition. In the present research, Cementation process variables of temperature, time, and added amount of iron scraps were optimized by using design of experiment method and individual effects on yield and efficiency of copper powder recovery were investigated using bench-scale cementation reaction system. Copper powders thus obtained from cementation process were further characterized using various analytical tools such as XRF, SEM-EDS and laser diffraction and scattering methods. Cementation process necessitated further purification of recovered copper powders and centrifugal separation method was employed, which successfully yielded copper powders of more than 99.65% purity and average $1{\mu}m$ in size.
The current density in copper electroplating is directly related with the productivity; then, to increase the productivity, an increase in current density is required. This study is based on an analysis of changes in surface characteristics and mechanical properties by applying the addition of Alcian Blue (AB, C56H68Cl4CuN16S4). The amount of Alcian Blue in the electrolytes is changed from 0 to 100 ppm. When Alcian Blue is added at 20 ppm, a seed layer is formed homogeneously on the surface at the initial stage of nucleation. However, crystals electroplated in electrolytes with more than 40 ppm of Alcian Blue are observed to have growth in the vertical direction on the surface and the shapes are like pyramids. This tendency of initial nucleation formation causes protrusions when the thickness of copper foil is 12 ㎛. Thereafter, a lot of extrusions are observed on the group of 100 ppm Alcian Blue. Tensile strength of groups with added Alcian Blue increased by more than 140% compare to no-addition group, but elongation is reduced. These results are due to the decrease of crystal size and changes of prior crystal growth plane from (111) and (200) to (220) due to Alcian Blue.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2001.04a
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pp.679-682
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2001
An experiment is carried out to investigate the influences of shearing characteristic factors for the process design of lead frame blanking in copper alloy C194(t=0.205mm). 3 process parameters, e.g., clearance between die and punch, strip holding pressure, and bridge allowance are selected for this study. From the basis condition 6% clearance, 20N/$mm^2$, and 1.5t bridge allowance the seven times of experiment are done by varying the each factor. The square shape specimen is used to study the characteristics of shearing factors. The ratios of roll over, burnish, fracture zone are measured after blanking. The experimental analysis shows that the burnish ratio is decreased as the clearance increases. And the larger strip holding pressure is shown that the roll over and burnish ratio are both decreased. It is found that an optimal strip holding pressure is need for large burnish zone. Finally it is shown that the bridge allowance is less affected than clearance and strip holding pressure.
Picosecond lasers are a very effective tool for micromachining metals, especially when high accuracy, high surface roughness and no heat affected zone are required. However, low productivity has been a limit to broadening the spectrum of their industrial applications. Recently it was reported that in the micromachining of copper with a 1064nm picosecond laser, there exist the optimal pulse energy and repetition rate to achieve the maximum volume ablation rate. In this paper, we used a 515nm picosecond laser, which is more efficient for micromachining copper in terms of laser energy absorption, to obtain its optimal pulse energy and repetition rate. Theoretical analysis based on the experimental data on copper ablation showed that using a 515nm picosecond laser instead of a 1064nm picosecond laser is more favorable in that the calculated threshold fluence is 75% lower and optical penetration depth is 50% deeper.
The behavior of copper throughout the whole process of wastewater treatment plant that uses the activated sludge process to treat the wastewater of petrochemical industry that contains low concentration of copper was investigated. Total inflow rate of wastewater that flows into the aeration tank was $697\;m^3$/day with 0.369 mg/L of copper concentration, that is, total copper influx was 257.2 g/day. The ranges of copper concentrations of the influent to the aeration tank and effluent from the one were 0.315 ~ 0.398 mg/L and 0.159 ~ 0.192 mg/L, respectively. The average removal rate of copper in the aeration tank was 50.8 %. The bioconcentration factor (BCF) of copper by microbes in the aeration tank was 3,320. The accumulated removal rate of copper throughout the activated sludge process was 71.3%, showing a high removal ratio by physical and chemical reactions in addition to biosorption by microbes. The concentration of copper in the solid dehydrated by filter press ranged from 74.8 mg/kg to 77.2 mg/kg and the concentration of copper by elution test of waste was 2.690 ~ 2.920 mg/L. It was judged that the copper concentration in dehydrated solid by bioconcentration could be managed with the control of that in the influent.
Kim, Na-Yeong;Baek, Seung-Deok;Lee, Yeon-Seung;Kim, Hyeong-Cheol;Na, Sa-Gyun;Choe, Seong-Chang
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.387.2-387.2
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2014
최근 이동통신 LED 에너지 자동차 산업분야에서 제품의 고기능화 고성능화를 위한 신소재 개발 및 친환경적인 신공정 개발에 있어, PI 또는 PET와 같은 유연성 소재 위에 선택적 패턴 도금 기술, 고기능성 나노/복합 도금 등이 주목 받고 있다. 또한 전 세계적으로 유해물질의 수 출입 규제 움직임이 강력하게 제기되고 있다. 본 연구에서는 유연성 소재인 PET 위에 친환경적 방법으로 구리를 선택적으로 도금하기 위한 실험을 진행하였다. 준비된 PET 필름 위에 Ag paste를 Screen Printing법을 이용하여 Ag 전극을 패턴하고, 그 위에 무전해 도금방식을 이용하여 Ni과 Cu가 도금 되도록 하였다. Ni 무전해 도금은 pH6.5, 65도에서 시행되었으며, Cu 무전해 도금은 환경규제물질인 포름알데히드 대신에 차아인산나트륨을 사용하여 70도에서, 중성근처의 pH 농도(pH7과 pH8)에서 시행되었다. 이들 다층 박막에 대해 X-ray diffraction (XRD), SEM (Scanning Electron Microscope), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) 등을 이용하여 물리-화학적/전기적 특성들을 이용하여 조사 분석하였다.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.18
no.1
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pp.24-29
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2005
Chemical mechanical polishing (CMP) has been widely accepted for the global planarization of multi-layer structures in semiconductor manufacturing. Copper has been the candidate metallization material for ultra-large scale integrated circuits (ULSIs), owing to its excellent electro-migration resistance and low electrical resistance. However, it still has various problems in copper CMP process. Thus, it is important to understand the effect of the process variables such as turntable speed, head speed, down force and back pressure are very important parameters that must be carefully formulated in order to achieve desired the removal rates and non-uniformity. Using a design of experiment (DOE) approach, this study was performed investigating the main effect of the variables and the interaction between the various parameters during CMP. A better understanding of the interaction behavior between the various parameters and the effect on removal rate, non-uniformity and ETC (edge to center) is achieved by using the statistical analysis techniques. In the experimental tests, the optimum parameters which were derived from the statistical analysis could be found for higher removal rate and lower non-uniformity through the above DOE results.
신장병의 조기진단을 위해서 체내의 요소 농도의 정확한 측정은 매우 중요하며, 이러한 이유에서 많은 연구자들은 보다 빠르고 정확한 체내의 요소농도 측정을 위한 바이오센서를 개발 중이다. 본 논문은 반도체 공정을 이용하여 산화막(4.000${\AA}$)이 성장된 p-형 실리콘 웨이퍼를 사용하였다. RF sputter를 사용하여 티타늄과 백금을 증착한 백금 박막전극을 제작하였다. 그 위에 전도성 고분자인 Polypyrrole(PPy)과 전도도를 증가시키기 위하여 구리를 도펀트로 사용 scan rate 40mV/S $0.8{\sim}-0.8V$ 전위영역에서 산화적 전기 중합법 (anodical electropolymerization)을 이용하여 전극을 형성하였다. 요소를 2개의 암모늄 이온과 1개의 탄산 이온으로의 가수분해반응을 촉매하는 효소로써 유레이즈(urease)를 전기적 흡착방법을 이용하여 고정화하고 이에 요소농도의 변화에 대하여 시간대 전류법 (chronoamperometry:CA)을 사용하여 감도를 측정하였다. 최적화된 조건하에서 요소농도에 비례하여 Cu-doped PPy electrode로부터 얻어진 확산한계전류는 $4.5{\mu}A$/decade의 기울기를 나타내었다. 전극의 표면은 SEM(Scanning Electron Microscopy)과 EDX(Energy Dispersive X-Ray Spectrometer)를 이용하여 분석 하였다.
A new sheet metal forming process, called flexibly reconfigurable roll forming (FRRF), is expected to resolve the economical limitation of the existing 3D curved sheet metal forming processes. The height-controllable guides and a couple of flexible rollers are utilized as the forming tool. Recently, as the 3D curved sheet metal is increasingly demanded in various fields, the application of FRRF to diverse materials is necessary. In addition, the formability comparison of several materials is needed. Therefore, in this study, we investigated the applicability of FRRF for different materials such as aluminum, magnesium, and copper alloys, and also the formability of these materials was compared using FRRF. The numerical simulation was conducted using ABAQUS, the commercial software, and the experiments were carried out using an FRRF apparatus to validate the simulation results. Finally, the applicability of FRRF for the chosen materials and the formability of these materials on FRRF process were confirmed by comparing the simulation and experimental results.
Park, Hye-Seon;Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun;Jeong, Jae-Hun;Song, Min-A
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.309-309
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2011
알루미늄 합금은 경량성과 우수한 가공성, 내식성 등의 특성을 지니고 있고 구리나 아연, 마그네슘, 실리콘 등과 쉽게 합금화 가능하다. 또한 알루미늄과 그 합금은 자동차, 항공기, 건축물, 레저 그리고 가전용품의 재료로도 널리 사용되고 있다. 특히 Al에 Si을 소량 첨가하게 되면 내식성과 반사율이 향상되는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 마그네트론 스퍼터링으로 Al, Al-Si 박막을 코팅하여 박막의 미세구조와 가시광선의 반사율을 관찰하였다. 시편은 Si wafer를 사용하였으며 알코올과 아세톤으로 각각 10분간 초음파 세척한 후 진공장비에 장착하여 Ar 분위기에서 glow discharge로 in-situ cleaning을 약 30분간 실시하였다. 시편청정이 끝나면 ~10-6 Torr 까지 진공배기를 실시하고 Ar 가스를 주입하여 2.5 mTorr로 진공도를 유지하면서 박막 코팅을 실시하였다. 기판-타겟의 거리는 12 cm로 고정 하였고 0.7, 1.5, 2.0 kW의 스퍼터링 파워와 외부 자기장의 변화에 따라 실험을 실시하였다. 순수한 Al 박막의 경우 외부 자기장 변화가 박막조직 변화에 영향을 주었으나 Si이 함유된 Al 합금 박막에서는 외부 자기장의 효과보다는 스퍼터링 전원의 세기가 박막 조직을 변화시키는 주된 공정변수였다. 박막의 반사율은 Si이 함유된 박막이 순수한 Al 박막보다 높았으며 스퍼터링 전원 세기가 증가할수록 반사율이 증가하는 경향성을 보였다. 이것은 Si을 Al에 첨가하여 스퍼터링 전원 세기를 최적화하는 것만으로도 치밀한 조직의 박막을 코팅할 수 있으며 높은 반사율을 갖는 박막을 코팅할 수 있음을 의미한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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