• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.4 no.2
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• pp.140-144
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• 1993

A computer program for computing the edge response function(ERF) from the optical transfer function( 0TF) was developed. The ERFs of un-aberrated optical system and aberrated optical system were studied by the use of that program. We calculated the ERFs of the optical systems with a single aberration and with a combined aberration. In sagittal case, the ERE of the optical system with defocus or spherical aberration was worse than that with coma. In tagential case, the ERF of the optical system with coma was worse than that with defocusing or spherical aberraion. Both the shape and the position of ERF were varied with coma, but only the position of ERF was varied with distortion, in tangential case.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2001.08a
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• pp.212-213
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• 2001

본 논문에서는 마이크로디스플레이용 광학계의 렌즈 설계와 시뮬레이션으로 구면수차, 비점수차, 왜곡, 색수차를 보정하여 설계한 광학계의 성능 평가를 소개하고자 한다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2003.07a
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• pp.72-73
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• 2003

시력 진단장비로는 자각식 측정법인 시력표, 타각식 계측기로는 검영기와 자동굴절력측정기 등이 있으나 눈도 일반 광학계와 같이 공간적으로 불균일한 광학적 특성을 가지기 때문에 눈의 광학적 기능을 정확하게 진단하기 위해서는 광학수차의 공간 분포를 정밀하게 측정할 필요가 있다. 광학수차는 시력의 한계를 규정하고 안광학 기기의 설계에 있어서 중요한 요소이다. 눈의 광학수차를 측정하기 위한 파면분석기에는 공간분해굴절계, Tscherning 파면분석기, 광선추적파면분석기, 주사실틈굴절계, 그리고 Shack-Hartmann 파면분석기(SH 파면분석기) 등이 있으며, SH 파면분석기는 적응광학계에서도 유용하게 사용되고 있다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2002.07a
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• pp.78-79
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• 2002

눈의 시력을 진단하는 도구 또는 장비로는 자각식 측정법인 시력표, 타각식 계측기로는 검영기와 자동굴절력측정기 등이 있다. 이들 방법으로 얻는 결과는 시력 또는 굴절력 값으로 제한된다. 그러나 인체안도 일반 광학계와 같이 공간적으로 불균일한 광학적 특성을 가지기 때문에, 눈의 광학적 기능을 정확하게 진단하기 위해서는 공간에 따른 광학수차 분포를 측정할 필요가 있다. 특히 엑시머레이저를 이용한 굴절각막교정수술에서, 광학수차 정보는 정교한 교정수술을 위한 기초 자료가 될 수 있다. (중략)

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.33 no.1
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• pp.35-44
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• 2022

Since optical systems are used for various applications, there are many designs, depending on the purpose and optical specifications, even though they have similar formations. Optical aberrations of a system are affected by both structure and specifications. Thus, it is very difficult to find the special characteristics of an optical design by using aberration analysis only. Regardless of specifications, a new method to investigate the aberration characteristics of an optical design is presented, using dimensionless design parameters. Four kinds of triplet designs with different applications and specifications are analyzed as examples.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.2 no.3
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• pp.127-132
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• 1991

We have obtained the analytic solutions of the four spherical mirror system free from the Seidel third order aberratios which are spherical aberration, coma, astigmatism, and distortion, Vignetting. Petzval field curvature, and optical properties according to the design parameters are numerically investigated and optimized. The numerical aperture of this system is 0.2 and the half field angle is $1.5^{\circ}$.

• The Optical Journal
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• v.12 no.6 s.70
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• pp.39-48
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• 2000

광학설계 시리즈 마지막회로 3. 광학설계의 평가를 게재한다. (7월호-1. 광학계의 형상설계, 9월호-2. 광학설계의 최적화 기법) 광학계의 수차 평가(Spot Diagram Analysis, 파면수차) 및 광학계의 결상특성 평가(Point Spread Function, Optical Transfer Function)에 사용되는 일반적인 방법에 대하여 정리하였다. 지금까지 소개했던 시리즈가 광학실무 종사자들에게 조금이라도 도움이 되기를 바란다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.12 no.5
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• pp.418-424
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• 2001

A holographic HMD element having low aberrations and high diffraction efficiency over wide FOV has been fabricated. In order to design the HOE having low aberrations a recursive technique was used. To obtain the HOE having low aberrations as well as high diffraction efficiency over a wide FOV, we used an intermediate hologram and the grating function of the aberration corrected hologram was transferred to the final hologram through it. For the fabricated final HMD element, we got the results of spot size improved about 10 times and high diffraction efficiency over FOV of $\pm$10$^{\circ}$.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.4 no.1
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• pp.1-8
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• 1993

A design of four-mirror optical system with reduction magnification 5X for deep UV ($\lambda$=248 nm of KrF excimer laser) submicron lithography is presented. Initially by using the paraxial quantities, the domain of solution for $t=d_1+d_2+d_3$<0 (d;: distance between the mirror $c_i$ and $c_{i+1}$ is found for the system which is free from the four off-axial Seidel first order aberrations that are coma, astigmatism, field curvature, and distortion. The solution with $d_5$=2.95 (normalized with respect to $c_i$= -1) is choosen and the aspherization is carried out to the spherical mirror surfaces ($c_3$ and $c_4$ in order to reduce the axial and residual off-axial higher order aberrations. The numerical aperture of the final system is as large as 0.4, which gives Rayleigh resolution of 0.38 $\mu\textrm{m}$.

• Optical Science and Technology
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• v.8 no.2
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• pp.22-26
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• 2004

회절 광학 소자(Diffractive optical element)는 광학 시스템에 있어서 광을 조절하기 위하여 굴절(refraction) 또는 반사(reflection)보다는 주기 구조(periodic structures)에 의한 회절(diffraction)을 이용한 소자라 할 수 있다. DOE의 장점으로는 수차(aberration)가 없는 point-to-point 이미지가 가능하며 광 power를 사용한 평판(flat subface)이 가능하고 비구면과 같은 수차 조절이 가능하다. 단점으로는 HOE(Hologram Optical Element: DOE의 일종)의 수차가 이 구조의 특정 파장에서 나타나고 가시영역의 일정 영역에서 매우 분산적 (dispersive)이다. 또한 상대적으로 시장의 성장에 비하여 찾는 고객의 수가 적다는 점이다.(중략)