• 제목/요약/키워드: 광학(optics)

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LED를 PLS 배열로 사용한 시역 형성 광학계가 없는 3차원 영상의 시역에 대한 연구 (Study on 3 Dimensional Images Using LED by PLS with No Viewing Zone Forming Optics)

  • 최규환;김성규;손정영
    • 한국광학회지
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    • 제19권2호
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    • pp.116-121
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    • 2008
  • 본 연구는 2차원 PLS(Point Light Source) 배열과 디스플레이 장치의 조합을 통하여 시역형성용 광학판이 없는 3차원 영상을 재생하는 방법에 관한 것이다. PLS를 사용하여 3차원 영상을 디스플레이 하는 경우 기존의 시차장벽(parallax barrier), 렌티큘러(lenticular), 마이크로 렌즈(microlens lens) 등의 광학판을 사용할 때 발생하는 여러 가지 광학적 문제점 등을 해소할 수 있다. PLS로 사용된 LED 광원이 가져야 할 특성을 조사하였으며 PLS 배열을 통한 입체영상 디스플레이의 시역에 대해 실험을 통하여 입증 하였다.

안경광학과 입학정원의 증가에 따른 문제점과 해결방안 (The Problem and Solution Associated with Increasing Number of Ophthalmic Optics Student)

  • 김상현;임용무
    • 한국안광학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.9-17
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    • 2010
  • 목적: 본 논문에서는 증가되는 안경광학과 입학정원의 문제점과 안경사의 수요공급에 대하여 연구하였다. 방법: 교육통계, 보건복지백서, 대학 알리미, 대학의 홈페이지를 통하여 자료를 수집하였다. 결과: 안경광학과의 모집정원을 이용하여 수요와 공급 등을 예측하였다. 결론: 현재 배출된 안경사의 수는 과잉공급이다. 안경사의 과잉 공급은 안경사의 근로여건 악화와 직무만족도 저하 유발하고 따라서 그리고 잦은 이직과 타 직종으로의 전업을 발생시킨다. 이러한 문제점을 해결하기 위해서는 정확한 자료의 조사가 필요하며 안경사 유관 기관들은 결집하여 정부의 인력정책수립에 대응해야 한다. 그리고 안경사의 직무영역 확대, 질적 수준 향상, 근로여건 개선 등은 안경광학과 학제의 통일과 입학정원의 축소를 용하여 이뤄질 수 있다.

3.7-4.8$\mu$m 파장대역 FLIR 시스템을 위한 20:1 줌 렌즈 광학계 설계 및 제작 (Design and fabrication of a zoom optics having 20 magnification range for mid-IR(3.7-4.8$\mu$m) FLIR system)

  • 김현숙;김창우;홍석민
    • 한국광학회지
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    • 제10권6호
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    • pp.462-467
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    • 1999
  • 중적외선 파장대역$(3.7-4.8{\mu}m)$에서 20:1의 줌 비(zoom ratio)를 가지며 최저배율에서는 40$^{\circ}$$\times$30$^{\circ}$의 광시계를 갖는 연속 줌렌즈 광학계를 설계, 제작하였다. 설계된 줌 렌즈 광학계는 F/2.5에 총 7매의 렌즈로 구성되며 실리콘(Si)과 게르마늄(Ge)이 광학재질로 사용된다. 줌 광학계는 적외선 검출기를 최종 상면에 놓을 때 비네트(vignett)에 의한 광학적 errors를 줄이면서도 줌 대물렌즈의 크기를 최소화하기 위한 릴레이 형태의 재결상계(reimaging system)로 설계하였으며, 줌 렌즈의 배율 변화와 1차적인 결상을 담당하는 줌 대물부와 이를 다시 검출기에 재결상 시켜주는 결상부는 구성된다. 줌 대물부는 기계보정식 4군 줌 렌즈 형태로 구성되며 각 군을 구성하는 렌즈 매수를 최소화하여 광학계의 질량 및 크기를 줄이면서도 광학적 성능은 우수하게 유지되도록 설계하였으며 결상부는 1개의 렌즈군으로 구성하였다. 제작된 줌 렌즈 광학계의 축상 MTF를 측정한 결과 최고 배율인 20배에서 공간주파수가 24cycle/mm일 때 4.0$\mu$m파장에 대한 MTF 측정값이 0.692로 회절한계에 가까운 성능을 보였으며, 분해능은 7.6 cycles/crad까지 분해되는 것을 확인하였다.

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금속 기판에 화학증기증착법으로 성장된 그래핀의 광학적 반사 대비율 (Optical-reflectance Contrast of a CVD-grown Graphene Sheet on a Metal Substrate)

  • 이장원
    • 한국광학회지
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    • 제32권3호
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    • pp.114-119
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    • 2021
  • 산업용으로 이용하는 대면적 그래핀 시트는 주로 Cu foil 위에서 화학증기증착법(chemical vapor deposition, CVD)을 이용하여 성장된다. 그러나 모든 면적에서 균일하게 성장되는 것은 아니므로, 품질이 불만족스러운 그래핀 필름을 제외시키는 과정이 필수적으로 요구된다. 비침습적인 반사형 광학적인 방법을 사용하면, 그래핀의 성장프로세스 도중이나 성장 후에 빠르고 편리하게 분류할 수 있다. 본 논문에서는 국소적인 그래핀 필름의 파장별 반사 대비율(reflectance contrast)이 그래핀의 품질과 밀접한 관련이 있어 품질이 불만족스러운 그래핀 필름을 제외시키는 데에 효과적인 데이터로 이용될 수 있음을 밝혔다. 파장별 반사 대비율을 계산하기 위해서, 화학적 퍼텐셜(chemical potential)과 전자간 널뛰기(hopping) 에너지, 그리고 온도 등의 요소가 성장된 그래핀의 광학적 반사 대비율에 어떠한 영향을 미치는지 조사하였다.

FPD Exposure System 용 투영광학계 설계 (Design of Projection Optics System for FPD Exposure)

  • 배상신;정연욱;김용래;송청호;송준엽;김동훈
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.1290-1294
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    • 2004
  • Exposure System is used for printing a prescribed pattern on a printed board, a liquid crystal substrate or the like. In this paper we are trying to develop projection Optics Exposure System for manufacturing Color Filter of LCD Display. This paper explain the Projection Optics Design and Illumination Optics Design of Color Filter Exposure system.

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물매-굴절률 기판을 이용한 평판광학적 광신호 연결 (Planar-optical interconnections by using a novel gradient-index substrate)

  • 조무희;김영식;송석호
    • 한국광학회지
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    • 제8권5호
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    • pp.431-437
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    • 1997
  • 광신호 상호연결 및 입력물체의 결상을 위한 기존의 평판광학계에서는 굴절률이 일정한 유리기판을 광신호 전달매체로 사용하였는데 반하여, 본 연구에서는 물매-굴절률(gradient-index) 분포를 갖는 기판을 사용하는 새로운 개념의 평판광학계를 제안하였다. 물매기판에 의한 결상특성을 근축광선 추적에 의해 분석하였으며, 입력 광신호의 위치에 따라 결상된 위치가 변하는 실험결과로부터 새로운 결상광학계로의 응용 가능성을 검증하였다. 그리고, 물매기판을 이용한 평판광학계가 하나의 입력신호를 여러 출력면으로 동시에 분배할 수 있는 광신호처리계로도 응용될 수 있음을 제시하였다.

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