• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.23 no.4
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• pp.161-166
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• 2013

AlN buffer layers have been used for the growth of GaN layers on Si substrates. However, the doping of high concentration of carriers into AlN layers is still not easy, therefore it may cause the increase of series resistance when it is used for the electrical or optical devices. In this work, to improve such a problem, the growth of GaN layers on Si substrates were performed using metal buffer layers instead of AlN buffer layer. We tried combinations of Ti, Al, Cr and Au as metal buffer layers for the growth of GaN on Si substrates. Surface morphology was measured by optical microscope and scanning electron microscope (SEM), and optical properties and crystalline quality were measured by photoluminescence (PL) and X-ray diffractometer (XRD), respectively. Electrical resistances for both cases of AlN and metal buffer layer were compared by current-voltage (I-V) measurement.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2008.06a
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• pp.327-327
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• 2008

Lead-free $(K_{0.5}Na_{0.5})NbO_3$ 압전 세라믹스는 다양한 광소자로의 응용과 압전 특성, 초전 특성을 이용한 압전 소자로의 응용이 가능한 재료로 보고되고 있다. 그러나 KNN계 압전소재 특성상 판상 형태의 결정립으로 인해 낮은 소결 밀도를 갖게 되고, 그로인해 압전물성의 저하를 초래하는 문제점을 가지고 있다. 따라서, 본연구에서는 다양한 밀링 방법을 적용하여 입자 사이즈를 작게 하고 소성체의 결정립을 구형화 함으로써 저온소결에서의 압전물성을 개선시키고자 한다. $(K_{0.5}Na_{0.5})NbO_3$를 기계적 분쇄법에 의해 입자사이즈에 따라 변화되는 상의 분석과 압전체로서의 특성을 관찰하였다. 결정학적 상분석 및 미세 조직은 XRD, SEM을 이용하여 관찰하였고, Capacitance는 Impedance analyzer(HP4192A)로 측정하였으며, Impedance 주파수 특성은 Network Analyzer로 측정하여 Kp, Kt와 Qm을 측정하였다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.15 no.2
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• pp.109-113
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• 2004

We have manufactured and characterized the fiber-to-Planar Waveguide Coupler for analysis of the photo-induced refractive index change of DM-BTE .(l,2-bis[2,5-dimethylthio-phen-3-yl]-hexafluorocyclopentene) When irradiated with ultraviolet light, the colorless diarylethene(DM-BTE)-crystal turned red while keeping the crystal shape. The red color was bleached by irradiation with visible light(λ＞450 nm). The resonant wavelength was shifted and recovered owing to the refractive index variation of the planar waveguide because of its photo-functional properties on exposure to UV and visible light. The wavelength responses of this switch by UV exposure were measured as 0.057 nm/sec with saturation time of 60 seconds. and when illuminated by visible light, resonance wavelength variations were measured as 0.028 nm/sec, with recovery time of 140 seconds.

• The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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• v.9 no.5
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• pp.617-624
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• 2014

Recently, photovoltaic inverter is received attention in photovoltaic with introduction of feed-in tariff. However, this inverter has problems such as inability to respond flexible at climate change due to its opening, and decrease of efficiency and lifetime due to its abnormal operation. To solve the problem, we desire to develop the eco-inverter which has a temperature control to respond easily on the change of temperature, and use the sealed structure not to affect the environment. In addition, we derive the optimal position of cooling system which is placed inside of inverter to minimize the power consumption, and proposed the effective measure to improve the efficient of inverter by deciding the number of cooling system.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.18 no.4
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• pp.160-164
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• 2008

Insulating and conducting 12CaO ${\cdot}7Al_2O_3$ (Cl2A7)-doped indium tin oxide (ITO) (ITO:Cl2A7 insulator and electride) thin films were deposited on glass substrates by an RF magnetron co-sputtering method with increasing number of insulating and conducting Cl2A7 target chips. The structural, electrical and optical properties of these films were investigated. The carrier concentration decreased and resistivity increased in the films with increasing number of Cl2A7 target chips. The optical transmittance of all of the thin films was above 80 % in the visible wavelength range. The structural property and surface roughness of the films were examined and the decrease of crystallinity and surface roughness was strongly dependent on the change of grain size.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.358-358
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• 2014

인간과 기기간의 상호작용 심화에 의하여 모든 기기의 지능화, 첨단화 등이 요구됨에 따라 정보 기술 및 디스플레이 기술의 개발이 활발히 이루어지고 있는 가운데 투명 전자 소자에 대한 연구가 급증하고 있다. 산화물 반도체는 가시광 영역에서 투명하고, 비정질 반도체에 비하여 이동도가 100 배 이상 크고, 결정화 공정을 거친 폴리 실리콘과 비슷한 값을 가지거나 조금 낮으며 유연한 소자에도 쉽게 적용이 가능하다는 장점을 가지고 있어 투명 전자 소자 제작시에 주로 이용되는 물질이다. 대부분의 산화물 반도체 박막 증착 방법은 스퍼터링 방법이나 유기금속 화학증착법과 같은 방법으로 막을 형성하는데 이러한 증착 방법들은 고품질의 박막을 성장시킬 수 있다는 장점이 있으나 고가의 진공장비 및 부대 시설이 이용되고 이로 인한 제조비용의 상승이 되고, 기판 선택에 제약이 있는 단점이 있다. 따라서, 이러한 문제점을 개선하기 위하여 고가의 진공 장비가 필요 없이 스핀 코팅 방법이나 딥핑 방법 등에 의하여 공정 단계의 간소화, 높은 균일성, 기판 종류에 상관없는 소자의 대면적화가 가능한 용액 공정 기술이 각광을 받고 있다. 그러나 용액 공정 기반의 박막을 형성하기 위해서는 비교적 높은 공정온도 혹은 압력 등의 외부 에너지를 필요로 하므로 열에 약한 유리 기판이나 유연한 기판에 적용하기가 어렵다. 최근 이러한 문제점을 해결하기 위하여 높은 온도의 열처리(thermal annealing) 를 대신 할 수 있는 microwave irradiation (MWI)에 대한 연구가 보고되고 있다. MWI는 $100^{\circ}C$ 이하에서의 저온 공정이 가능하여 높은 공정 온도에 대한 문제점을 해결할 뿐만 아니라 열처리 방향을 선택적으로 할 수 있다는 장점을 가지고 있어 현재 투명 디스플레이 분야에서 주로 이용되고 있다. 따라서 본 연구에서는 HfOx 기반의 metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor를 제작하여 MWI에 따른 전기적 특성을 평가하였다. MWI는 금속의 증착 전과 후, 그리고 시간에 따른 조건을 적용하였으며 최적화된 조건의 MWI은 일반적인 퍼니스 장비에서의 높은 온도 열처리에 준하는 우수한 전기적 특성을 확인하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2008.06a
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• pp.225-225
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• 2008

ITO (Indium-tin oxide) 박막은 평판디스플레이, 유기발광소자, 박막태양전지 등 다양한 광전자소자의 투명전극으로 폭 넓게 이용되고 있다. 하지만 Si 박막태양전지의 투명전극에 요구되는 특성으로는 가시광 영역에서의 고투과율 및 고전도도 외에, 수소 플라즈마 분위기에서의 화학적 고안정성이 강하게 요구된다. 왜냐하면, 최근 Si 박막태양전지의 고효율화를 위해 미결정질 Si 박막 및 나노결정 Si 박막이 이용되고 있는데, 이러한 박막은 Si 원료가스를 고농도의 수소가스로 희석한 공정조건에서 플라즈마 CVD 증착기술을 이용하여 제조되기 때문에 투명 전극재료가 화학적으로 안정하지 않으면 계면특성의 열화로 인해 태양전지 효율이 저하되는 요인으로 작용하기 때문이다. 본 연구에서는 박막태양전지용 ITO계 투명전극의 수소 플라즈마에 대한 물리적 특성 변화를 조사하기 위하여 combinatorial sputter를 이용해 Ga 및 Zn의 도핑량을 연속적으로 변화시킨 ITO 박막을 제조하였고, $H_2$ plasma 중에 일정 시간 노출 시킨 후 박막의 물리적 특성 변화를 관찰하였다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.8 no.4
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• pp.277-282
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• 1997

The complex refractive index of Diamond-like Carbon (DLC) thin films, which can be applied to optical devices or electrical devices, have been determined using optical methods. DLC thin films are grown on Si(100) substrates and vitreous silica substrates respectively, using the technique of plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The spectroscopic ellipsometry data($\psi$, $\Delta$) and the transmission spectra of these DLC films are obtained. These optical spectra are analyzed with the help of the Sellmeier dipersion relation and a quantum mechanically derived dispersion relation. Using spectroscopic ellipsometry data at their transparent region, the refractive index and the effective thickness of DLC films on vitreous silica are model calculated, Then the transmission spectra are inverted to yield the extinction coefficient spectra k(λ) at absorbing region. These spectra are fit to the quantum mechanical dispersion relation and the best fit dispersion constants are determined. The complex refractive indices are easily calculated with these constants. The spectroscopic ellipsometry data at the absorbing region in model calculated to give the packing densities and the degrees of surface microroughness of DLC films. Discussions are made in correlation with the growth condition of DLC films.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.9 no.11
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• pp.1144-1147
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• 1999

The effect of the heat treatment on electrochromic properties of $\textrm{MoO}_3$ thin films is investigated by studing optical modulation, optical density, response time, and cyclic voltammetry. From the results of XRD analysis, heat-treated at $450^{\circ}C$ in air for 1 hour Moo3 thin films are found to be crystalline while as-deposited and heat- treated at low temperature ($\leq\;300^{\circ}C$) film are amorphous. The electrochromic devices using as-deposited $\textrm{MoO}_3$ films exhibit good electrochromic properties compared to those using the heat treated $\textrm{MoO}_3$ films. It has shown that the heat-treatment affected the reversible color change and the electrochromic properties of $\textrm{MoO}_3$ films.

• Journal of Sensor Science and Technology
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• v.10 no.6
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• pp.295-303
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• 2001

White emission thin film electroluminecent device was fabricated with ZnS for phosphor layers and BST ferroelectric thin film for insulating layers. The ZnS:Mn and $ZnS:SmF_3$ layers were used for emission of red color. Also the $ZnS:TbF_3$ and $ZnS:AgF_3$ layers were used to emission of green and blue color, respectively. And the fabrication conditions of the BST insulating layers were followings, that is, the composition ratio of target, substrate temperature, working pressure and operating gas ratio were $Ba_{0.5}Sr_{0.5}Ti_{0.3}$, $400^{\circ}C$, 30 mTorr and 9:1, respectively. The thickness of phosphor were 150 nm for each layers and the insulating layers of upper and bottom were 400 nm and 200 nm, respectively. The luminesence threshold voltage was $75\;V_{rms}$ and the maximum brightness of the thin film electroluminecent device was $3200\;cd/m^2$ at $100\;V_{rms}$.