• 제목/요약/키워드: 공정 개선

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동작분석 솔루션을 활용한 제조공정개선 방법연구 (A Study on the Method to Improve Manufacturing Process Using Motion Analysis Solution)

  • 김현종;유재건;홍정완
    • 한국융합학회논문지
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    • 제9권6호
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    • pp.69-75
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    • 2018
  • 제조업에 있어 공정의 효율성은 제품의 경쟁력과 직결되는 중요한 요소이다. 특히 최근 여러 국가와 FTA체결로 인해 국내외 제조업이 치열한 경쟁에 직면함에 따라 생산시간을 보다 단축하기 위한 정교한 작업관리 시스템이 요구되고 있다. 본 연구에서는 동작분석 솔루션을 활용하여 제조공정의 효율성을 제고하는 방안을 모색하고자 한다. 동작분석 솔루션을 활용하여 최적화 검증 후 제조공정을 개선할 경우 추가적인 공정 수정 또는 보완에 소요되는 비용을 절감할 수 있으며, 기업의 생산성 향상이라는 실질적 효과를 도출할 수 있다. 본 연구를 통해 작업현장의 낭비개선, 작업편성효율개선, 기종교체시간 단축, 표준시간 측정 및 작업시스템 표준화 등을 구현할 수 있다.

스마트 팩토리를 위한 센서 데이터 분석과 제품 불량 개선 연구 (A Study on Sensor Data Analysis and Product Defect Improvement for Smart Factory)

  • 황세웅;김종혁;황보현우
    • 한국빅데이터학회지
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    • 제3권1호
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    • pp.95-103
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    • 2018
  • ICT 기술의 발전에 따라 제조 산업은 공정 상에서 생성되는 제조 데이터를 분석하여 효율을 높이고자 많은 노력을 하고 있다. 본 논문에서는 스마트 공장의 일환으로 의사결정나무 알고리즘(CHAID)을 이용한 데이터 마이닝 기반 제조공정을 제안한다. 약 5개월간 수집된 실제 제조 공정의 432개 센서 데이터를 활용하여 불량률이 낮은 안정적인 공정 기간과 불량률이 높은 불안정한 공정 기간 간에 유의미한 차이를 보이는 변수를 찾아냈다. 선정된 최종 변수가 불량률 개선에 실제로 효과가 있는지를 측정하기 위해 해당 변수의 안정 값 범위를 설정하여 14일 간 공정에서 해당 센서가 안정 값의 범위를 벗어나지 않도록 공정 설정 값을 조절했고, 불량률 개선의 효과를 측정하였다. 이를 통해 제조 산업에서 생성되는 공정 센서 데이터를 활용 및 분석하여 불량률을 개선할 수 있는 실증적인 가이드라인을 제시할 수 있을 것으로 기대한다.

위치기반 영상자료를 이용한 수치지도 현지 지리조사 공정 개선 (Improving Field Investigation Process of Digital Mapping with Location-based Image Data)

  • 황진상;윤홍식;정태준;박정기;김창우
    • 한국측량학회지
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    • 제28권6호
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    • pp.613-620
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    • 2010
  • 본 연구에서는 현지 지리조사 공정을 위치기반의 영상자료와 구조화된 수치지도를 활용하여 개선하는 방안에 대하여 다루었다. 기존의 공정에 대한 분석을 실시하고 개선되어야 하는 요소들을 정리하였으며, 위치 기반의 영상자료를 활용하여 실내에서 지리조사와 정위치 편집 공정을 동시에 수행하는 방안을 중심으로 전체적인 개선 방안을 제시하였다. 제시한 방법의 검증을 위하여 시범지역을 선정하고 영상을 이용한 실내 지리조사 작업을 수행하였으며, 인력에 의한 도보 조사 결과와 정량적으로 비교하여 제시한 개선 방안의 적합성을 검토하였다.

최적 레이턴시 기반 공정 큐잉 방식의 개선에 관한 연구 (A study on Improving Latency-Optimized Fair Queuing Algorithm)

  • 김태준
    • 한국멀티미디어학회논문지
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    • 제10권1호
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    • pp.83-93
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    • 2007
  • 널리 이용되고 있는 공정 큐잉 방식인 WFQ(Weighted Fair Queuing)는 특히 인터넷 전화와 같이 저속이지만 엄격한 지연한계를 요구하는 서비스에 대해 대역폭 이용도가 저하되는 문제점을 갖고 있다. 이러한 WFQ의 문제점은 흐름의 레이턴시가 최적화되지 못하기 때문에 발생하는 것으로 최근에 밝혀졌고, 이어서 최적레이턴시 기반 공정 큐잉 방식인 LOFQ(Latency-Optimized Fair Queuing)가 도입되었다. 본 연구에서는 LOFQ에 점유자원 최적화 기능을 추가하여 성능특성을 더욱 개선하고, 반복적으로 수행되던 LOFQ의 자원변환 알고리즘을 개선하여 수행 복잡성을 줄인다. 아울러 WFQ에 비해 대역폭 이용도가 우수함을 증명한다. 시뮬레이션을 통해 성능개선 효과를 확인한 결과 $20{\sim}30%$의 개선이 있었다.

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간섭이 존재하는 비직교 다중접속 시스템에서 데이터 전송률 공정성 개선을 위한 전력 할당 기법 (Power Allocation Scheme to Enhance Data-Rate Fairness for Non-orthogonal Multiple Access Systems in the Presence of Interference)

  • 이인호
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제23권11호
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    • pp.1407-1413
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    • 2019
  • 본 논문에서는 비직교 다중접속 시스템의 주파수 효율성 최대화를 위하여 다른 송신기가 동일한 주파수 대역에서 신호를 전송할 수 있다고 가정한다. 그리고 비직교 다중접속 시스템의 총 데이터 전송률의 최대화가 아닌 수신기의 데이터 전송률의 공정성 성능 개선에 집중한다. 따라서 본 논문에서는 간섭이 존재하는 비직교 다중접속 시스템을 고려하여 수신기의 평균 데이터 전송률에 대한 공정성 성능을 개선하기 위한 전력 할당 기법을 제안한다. 레일레이 페이딩 채널을 가정하여 수신기의 평균 데이터 전송률을 정의하고, 높은 신호 대 잡음비의 근사법을 이용하여 평균 데이터 전송률의 공정성 성능을 개선하기 위한 전력 할당 계수를 유도한다. 또한, 시뮬레이션을 통해 제안하는 전력 할당 기법이 간섭을 갖는 비직교 다중접속 시스템에서 데이터 전송률의 공정성 성능을 개선할 수 있음을 보인다.

예비분쇄공정 설비개선으로 생산효율 향상

  • 배종기;박상필;윤갑용;이종훈
    • 시멘트 심포지엄
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    • 통권36호
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    • pp.110-115
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    • 2009
  • 2,3,4호 시멘트밀은 기존의 Tube MiIl 단독의 시멘트 분쇄 밀에 예비분쇄기(이하 "Polycom", Polysius 1992년 공급)를 설치, 합리화하여 운영되고 있는 Combi grinding type의 시멘트밀이다. 생산능력은 일 생산성 4,800T/D, Blaine $3,200cm^2/g$ 품질로 설계되었다. 금번 공정개선 부문인 예비분쇄공정의 Polycom 출구 Bucket Elevator(이하 "B/E") 및 Disagglomerator(이하 "DISA")로 위치는 Fig.1과 같다. Polycom 출구 B/E 및 DISA는 Polycom에서 분쇄된 원료를 분급기로 이송 및 cake 상태의 원료를 파쇄하는 설비이다. 상기 설비는 시멘트밀 공정에서 반드시 필요한 설비이나 - 잦은 고장에 따른 설비 가동율 저하 - 순환량 증가시 제한운전에 따른 생산효율저하를 일으키는 주된 설비로써 원단위 절감 및 설비가동효율 향상을 위하여 개선이 불가피한 설비임.

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금속세정공정의 청정기술 적용사례 (Application of the Clean Technology in the Metal Cleaning Process)

  • 정찬교;구희준
    • 청정기술
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    • 제3권2호
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    • pp.57-73
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    • 1997
  • 금속세정은 제품의 품질향상은 물론 후속공정에도 지대한 영향을 미친다. 그러나 이러한 세정공정은 환경적으로 많은 유해성을 내포하고 있기 때문에 개선해야될 여러 문제점들을 가지고 있고 게다가 전지구적으로 세정제로 인한 규제가 강화되고 있으므로 기존의 염소계세정제를 대체할 수 있는 대체세정제의 개발과 이와 연관된 세정공정의 개발이 필수적이라고 할 수 있다. 그러므로 본 연구에서는 최적의 대체세정제를 선정하기 위하여 고려해야되는 인자들을 분류하였고 세정공정에 적용된 개선사례들을 통하여 결과를 분석하고 개선점을 모색함으로써 세정공정에서의 청정기술적 접근방법을 제시하였다.

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Fabrication and Characterization of Metal Layer Fabricated by Aerosol Deposition

  • 김윤현;김형준;남송민
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.113-113
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    • 2010
  • 유비쿼터스 시대를 맞이하여 현재의 전자제품은 초고주파 환경에서의 소형화된 마이크로파 소자를 요구하고 있다. 마이크로파 대역에서 세라믹 소재는 대부분의 폴리머 소재에 비해 낮은 유전손실 값을 보이고 있어 향후 확대되는 고주파화에 적합한 소재로 평가되고 있다. 하지만 세라믹 재료는 깨지기 쉬운 특성을 가지고 있어 공정 및 취급이 어려우며 높은 소결온도를 가지고 있어 융점이 낮은 재료와의 집적화에 있어서 난점을 가지고 있다. 이를 위해 본 연구실에서는 실온에서 세라믹을 비롯한 금속 및 폴리머 재료의 치밀한 코팅막의 성막 및 이종 접합이 가능한 Aerosol Deposition (AD 법)에 주목하였고 마이크로파 소자 제작 공정으로서 AD 법의 응용 가능성을 연구하였다. 마이크로파 소자의 기판으로서는 AD 법을 이용하여 유전손실이 낮고 플렉서블한 $Al_2O_3$-PTFE 혼합 기판을 제작하고 적용하였다. 금속 선로 패터닝 제작 공정으로는 도금법이 대표적이지만 고비용 및 복잡한 공정 절차, 폐화학용액으로 인한 환경문제 등의 단점을 지니고 있어 이를 대체하는 금속 선로 패터닝 공정이 절실히 요구되고 있다. 이를 위해 본 연구에서는 AD 법을 이용하여 금속 필름을 제작하고 대체 공정으로서의 가능성을 확인하였다. 하지만 AD 법을 이용한 세라믹 필름 제작에 관한 연구는 크게 활성화되어 있는 반면에 금속 필름의 제작, 특성 측정 및 개선에 관한 연구는 그에 비해 미비한 수준이다. 이를 위해 이번 연구에서는 AD 법을 이용하여 금속 필름을 성막 시에 영향을 미치는 요인을 고찰하였으며 또한 마이크로파 소자의 도체 손실에 크게 관계되는 금속 필름의 비저항 특성의 측정 및 개선에 관한 연구를 수행하였다. 이를 위해 본 연구에서는 정전장 시뮬레이션을 활용하여 AD 법으로 성막된 금속 필름의 정밀한 비저항 측정에 관한 연구방법을 마련하고 후열처리를 통한 비저항 특성을 개선시키는 연구를 진행하였다.

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식각장비의 RF 정합모듈 성능 개선 (Matching Improvement of RF Matcher for Plasma Etcher)

  • 설용태;이의용;권혁민
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제9권2호
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    • pp.327-332
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    • 2008
  • 본 논문에서는 반도체 소자와 디스플레이 패널의 제조공정에 사용되는 플라즈마 식각장비의 RF 정합특성을 개선하기 위한 모듈을 제안하였다. 구동부의 기구 중 베벨기어를 웜기어로 새롭게 설계 제작하고 제어부도 원칩 마이크로 프로세서를 이용하여 재구성하였다. 개발된 모듈은 기존의 정합장치보다 다양한 공정변수에 대한 능동적인 대처가 가능하고, 모터의 흐름현상 등을 개선함으로서 RF 정합특성이 개선되어, 플라즈마 식각공정의 생산성을 향상시킬 수 있음을 보였다.

Nitrogen-Doping of Nano-Thin Exfoliated (NTE) Graphite by RF Thermal Plasma with NH3

  • 이규항;신명선;최선용;조광섭;김성인
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.233.1-233.1
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    • 2016
  • 화학적 방법에 의한 NTE graphite의 박리 또는 전도도 개선을 위한 도핑공정을 수행할 경우, 결함 및 불순물 생성에 의해 재결정화 공정 및 순도 개선을 위한 별도의 공정을 필요로한다. 본 연구에서는 건식 방법으로써 10,000K 이상의 초고온 RF 열플라즈마를 이용하여 in-situ 방법으로 흑연의 박리, 결함 제거, 결정성 향상 및 도핑 공정을 수행하고, 도핑특성을 평가하였다. 질소 도핑을 위하여 암모니아 가스를 첨가하여 NTE graphite를 도핑 처리하였으며, 시뮬레이션을 통하여 반응기 내부의 온도분포를 파악하고, 도핑을 위한 암모니아가스가 분해되어 도핑공정이 수행될 수 있는 투입위치를 결정하였다. 질소 도핑율은 암모니아 가스의 주입위치에서의 온도 및 가스 주입 유량 등의 공정조건에 따라 변화됨을 확인하였고, XPS 분석결과 최대 14.87 atomic%의 도핑율의 결과를 얻었다.

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