• 제목/요약/키워드: 공정시간

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O$_3$/H$_2$O$_2$와 O$_3$/Catalyst 고급산화공정에서 1,4-dioxane의 제거 특성 연구

  • Park, Jin-Do;Seo, Jung-Ho;Lee, Hak-Sung
    • Proceedings of the Korean Environmental Sciences Society Conference
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    • 한국환경과학회 2005년도 추계 학술발표회 발표논문집
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    • pp.192-194
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    • 2005
  • O$_3$/H$_2$O$_2$ 고급산화공정에서 1,4-D의 제거는 반응시간에 따라 완만하게 감소하였으나, O$_3$/catalyst 고급산화공정에서는 전체 제거량의 약 50${\sim}$75%가 반응 초기 5분 내에 제거되어 O$_3$/H$_2$O$_2$ 공정에 비해 초기 반응속도가 현저히 빠른 것을 알 수 있었다. O$_3$/H$_2$O$_2$ 고급산화공정은 ${\Delta}$TOC/${\Delta}$ThOC의 비는 0.09${\sim}$0.40으로 나타났으며, O$_3$/catalyst 고급산화공정에서는 ${\Delta}$TOC/${\Delta}$ThOC의 비가 0.68${\sim}$0.98로 나타나 O$_3$/catalyst 고급산화공정이 O$_3$/H$_2$O$_2$ 고급산화공정에 비해 유기물의 산화력이 우수한 것으로 확인되었다.

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광-펜톤 반응을 이용한 Rhodamine B의 색 제거

  • Park, Yeong-Sik;Kim, Dong-Seok
    • Proceedings of the Korean Environmental Sciences Society Conference
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    • 한국환경과학회 2006년도 추계 학술발표회 발표논문집
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    • pp.345-349
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    • 2006
  • 수용성 안료인 RhB를 대상으로 광-펜톤 공정의 최전 운전조건을 구하고, 광-펜톤 공정을 구성하는 개별 공정을 비교한 결과 다음의 결론을 얻었다. 광-펜톤 공정의 최적 $Fe^{2+}$$H_2O_2$ 투입량은 각각 0.0031 mmol과 0.625 mmol이었으며, 최적 pH는 3으로 나타났으나, 7이하의 pH 범위에서는 RhB 색 감소에 큰 영향을 미치지 않는 것으로 나타났다. 초기 반응 속도에 가장 큰 영향을 주는 인자는 UV 광 전력 > $H_2O_2$> 철염의 순으로 나타났다. 80분간의 반응시간 경과 후 최종 RhB 농도를 고찰한 결과 UV 광 전력이 낮을 경우 색도가 다 제거되지 않기 때문에 광-펜톤 공정에서 UV 광 전력이 색 제거에 대한 가장 큰 인자라고 사료되었다. 광-펜톤 공정의 개별 공정인 UV, $H_2O_2$, 펜톤을 이용하여 RhB의 농도감소를 고찰한 결과 초기 반응속도상수는 펜톤 공정의 빠른 초기 반응로 인해 펜톤 > UV >$H_2O_2$로 나타났으나, 최종 RhB 농도를 고려할 경우 UV> 펜톤 > $H_2O_2$로 나타났다.

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건식식각공정물성데이터베이스의 생산전략

  • Yu, Sin-Jae;Kim, Jeong-Hyeong;Seong, Dae-Jin;Park, Min;Kim, Dae-Ung;Sin, Yong-Hyeon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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    • pp.33-33
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    • 2010
  • 플라즈마를 이용한 건식식각공정은 현 반도체, 디스플레이, 태양광 산업에 널리 적용되는 공정으로며 일부공정은 플라즈마 없이는 식각공정이 불가능할 정도로 매우 중요한 공정이다. 건식식각공정은 크게 플라즈마의 이온에 의한 물리적인 프로세스와 라디칼에 의한 화학적인 프로세스로 나눌 수 있으며, 최근 들어, 화학적인 식각프로세스가 매우 중요함이 알려지게 되었다. 본 발표에서는 화학적 식각프로세스에서 가장 중요한 역할을 하는 플라즈마 라디칼을 챔버가 공정에 제한받지 않고 널리 쓰일 수 있는 데이터 베이스로 생산하는 아이디어 전략을 소개하는 시간을 통해 건식식각물성데이터 센터의 소개와 참조표준 데이터베이스의 중요성을 알리고자 한다.

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Development of SimPlus 3D Model for Process Improvement (생산시스템 공정개선을 위한 SimPlus 3D 모델개발)

  • 정기찬;정영교;김호중
    • Proceedings of the Korea Society for Simulation Conference
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    • 한국시뮬레이션학회 2001년도 춘계 학술대회 논문집
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    • pp.25-30
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    • 2001
  • 본 논문은 SimPlus 3D를 이용한 생산시스템 공정개선 시뮬레이션 모델개발 프로젝트 수행 시 제안되었던 생산시스템 공정분석 및 개선사항을 SimPles 3D 모델을 중심으로 SimPlus 3D의 제품특징과 활용사례로 소개하고자 한다. SimPlus 3D는 범용 그래픽 시뮬레이션 소프트웨어로서 자동화 공정의 설비, 제어 운영에 걸친 다양한 요소를 모델링 할 수 있으며 구축된 시뮬레이션 모델을 이용하여 사용자가 원하는 결과척도를 상세하게 제시해 준다. 따라서 SimPlus 3D는 생산라인 개선작업에 있어서도 새로운 형태의 공정배치나 라인구성을 현장적용 전에 시뮬레이션 모델로 개발하여 도입효과를 정량적으로 산출할 수 있으며, 다양한 대안들을 적은 시간과 비용으로 평가할 수 있다. 본 논문에서는 SimPlus 3D를 이용한 생산시스템 공정개선 시뮬레이션 모델개발 사례로 A사의 제품 생산공정 중 일부 자동화공정 제어알고리즘 분석 사례를 소개하였다.

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Design and Implementation of Simulator for Batch adsorption process (회분식 흡착공정을 위한 시뮬레이터의 설계 및 구현)

  • Choi, Jung-Min;Lim, Young-Il
    • Proceedings of the Korea Information Processing Society Conference
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    • 한국정보처리학회 2007년도 춘계학술발표대회
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    • pp.661-664
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    • 2007
  • 본 논문은 화학분리공정 중의 하나인 회분식 흡착공정의 시뮬레이션 방법에 관한 것으로, 편미분방정식을 이용한 회분식 흡착공정 시뮬레이션 방법에 있어서, 편미분방정식 해석기법인 CE/SE 방법(Conservation element and Solution element method)을 사용하여 흡착공정의 모델식을 수치해석하고, 이를 그래픽 사용자 인터페이스(Graphical User Interface) 방식에 의한 사용자편이성이 구현된 회분식 흡착공정 시뮬레이터의 설계와 구현에 관한 것이다. 본 연구를 통하여 공정모델선택 과정에서부터 시뮬레이션 결과의 시각화를 포함하는 결과 처리 과정까지의 작업을 사용자가 독립된 하나의 통합된 환경에서 회분식 흡착공정을 편리하게 시뮬레이션 할 수 있으며, 빠른 시간 안에 정확한 수치해를 구할 수 있게 되었다.

A Study on the Performance Improvement of a Time-to-Digital Converter (시간-디지털 변환기의 성능 개선에 대한 연구)

  • Ahn, Tae-Won;Lee, Jong-Suk;Moon, Yong
    • 전자공학회논문지 IE
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    • 제49권1호
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    • pp.1-6
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    • 2012
  • For the performance improvement of a time-to-digital converter(TDC), a 2-stage high resolution TDC has been designed by using a 2-stage vernier time amplifier(2-S VTA). The two stage vernier time amplifier which has a gain over 64 of the resolution can enhance the resolution of the whole two stage TDC. Because of using a vernier TDC, the structure is not limited to advanced processes for achieving high resolution. The proposed TDC has been designed in a $0.18{\mu}m$ CMOS process and simulated with a 1.8V supply voltage. The entire input range is 512ps, and the full resolution 0.125ps.

Biodegradation of Blood Lipid Lower Agents (BLLAs) in Biological Activated Carbon (BAC) Process (BAC 공정에서의 고지혈증 치료제 생물분해 특성)

  • Yoom, Hoon-Sik;Son, Hee-Jong;Ryu, Dong-Choon;Yoo, Pyung-Jong
    • Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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    • 제39권3호
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    • pp.124-131
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    • 2017
  • In this study, We investigated the effects of water temperature and empty bed contact time (EBCT) on the biodegradability of 8 blood lipid lower agents (BLLAs) in biological activated carbon (BAC) process. Experiments were conducted at three water temperatures ($8^{\circ}C$, $16^{\circ}C$ and $24^{\circ}C$) and three EBCTs (5 min, 10 min and 15 min). Increasing water temperature and EBCT increased the biodegradation efficiency of BLLAs in BAC process. Simvastatin and fenofibrate were the highest biodegradation efficiency, but atorvastatin and clofibric acid were the lowest. The kinetic analysis suggested a pseudo-first-order reaction model for biodegradation of 8 BLLAs at various water temperatures and EBCTs. The pseudo-first-order biodegradation rate constants ($k_{bio}$) of clofibric acid and atorvastatin were $0.0075min^{-1}$ and $0.0122min^{-1}$ at $8^{\circ}C$, and were $0.0540min^{-1}$ and $0.0866min^{-1}$ at $24^{\circ}C$, respectively. By increasing the water temperature from $8^{\circ}C$ to $24^{\circ}C$, the biodegradation rate constants ($k_{bio}$) were increased 7.1~7.2 times.

Characteristics of Low Dielectric Constant SiOF Thin Films with Post Plasma Treatment Time (플라즈마 후처리 시간에 따른 저유전율 SiOF 박막의 특성)

  • Lee, Seok Hyeong;Park, Jong Wan
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • 제7권3호
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    • pp.267-267
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    • 1998
  • The fluorine doped silicon oxide (SiOF) intermetal dielectric (IMD) films have been of interest due to their lower dielectric constant and compatibility with existing process tools. However instability issues related to bond and increasing dielectric constant to water absorption when the SiOF films was exposured to atmospheric ambient. Therefore, the purpose of this research is to study the effect of post oxygen plasma treatment on the resistance of moisture absorption and reliability of SiOF film. Improvement of moisture absorption resistance of SiOF film is due to the forming of thin SiO₂layer at the SiOF film surface. It is thought that the main effect of the improvement of moisture absorption resistance was densification of the top layer and reduction in the number of Si-F bonds that tend to associate with OH bonds. However, the dielectric constant was increased when plasma treatment time is above 5 min. In this study, therefore, it is thought that the proper plasma treatment time is 3 min when plasma treatment condition is 700 W of microwave power, 3 mTorr of process pressure and 300℃ of substrate temperature.

Optimizatio of Processing Conditions for Smoked Eggs Aging and Pressurizing Techniques (숙성 및 가압 방식에 의한 훈제 계란의 제조 공정 최적화)

  • Kim, Jin-Gon;Hwang, Yong-Il;Kwon, Sang-Chul
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • 제18권6호
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    • pp.375-380
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    • 2017
  • This study assessed the technology to minimize the discoloration to reduce the defect rate and penetrate the curing solution through the egg shells to produce quality smoked eggs that meet the preference of consumers. The discoloration refers to the defects on the colors of egg shells due to overheated smoking fluids, causing the eggs to be discarded. The manufacturing process was prepared by the manufacturer of the regular smoked egg manufacturing process. A preliminary study found that the preferred salinity of smoked eggs was 1.67~2.00% and the major processing factors have been set to maintain the optimal salinity of smoked eggs and an industrially attainable minimum defect rate below 3%. When the eggs were aged at $50^{\circ}C$ for 96 hours to produce the smoked eggs, the discoloration rate was 0%. When the circulatory dipping method was applied, 3.00% salinity was achieved after 8 hours. When the eggs were smoked at that time, the salinity was 1.67%. With a $2.07kg/cm^2$ pressure, 3.33% salinity was achieved after 4 hours and 2.00% salinity was achieved when the smoked eggs were produced. To identify the most efficient pressurizing method, 0.52, 1.55, 1.86, 2.07, 2.38, 2.58, and $3.62kg/cm^2$ were applied, the discoloration rate was 2.2% after 4 hours under a $2.07kg/cm^2$ pressure. The aging and pressurized method is considered to be the basis for reducing the manufacturing time and decreasing the rate of error during the smoked eggs process.

Study of Diplexer Fabrication with Embedded Passive Component Chips (수동소자 칩 함몰공정을 이용한 Diplexer 구현에 관한 연구)

  • Youn, Je-Hyun;Park, Se-Hoon;Yoo, Chan-Sei;Lee, Woo-Sung;Kim, Jun-Chul;Kang, Nam-Kee;Yook, Jong-Gwan;Park, Jong-Chul
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.30-30
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    • 2007
  • 현재 다양한 종류의 RF 통신 제품이 시장에 등장하면서 제품의 경쟁력 확보에 있어 소형화 정도가 중요한 이슈가 되고 있다. Passive Device는 RF Circuit을 제작할 때 많은 면적을 차지하고 있으며 이를 감소시키기 위해 여러 연구가 진행되고 있다. 가장 효과적인 방법으로 반도체 집적기술로 크기를 줄이는 방법이 있으나, 공정이 비싸고 제작 시간이 오래 걸려 제품개발 시간과 개발비용이 상승하게 된다. 반면에 SoP-L 공정은 PCB 제작에 이용되는 일반적인 재료와 공정을 사용하므로 개발 비용과 시간을 줄일 수 있다. SoP-L의 또 하나 장점은 다종 재료를 다층으로 구성할 수 있다는 점이다. 최근 chip-type의 Device를 PCB 기판 안에 내장하는 방법의 RF Circuit 소형화 연구가 많이 진행되고 있다. 본 연구에서는 SoP-L 공정으로 chip-type 수동소자를 PCB 기판 내에 함몰하여 수동소자회로를 구현, 분석하여 보았다. 수동소자회로는 880 MHz~960 MHz(GSM) 영역과 1.71 GHz~1.88 GHz(DCS) 영역을 나누는 Diplexer를 구성하였다. 1005 size의 chip 6개로 구현한 Diplexer를 표면실장과 함몰공정으로 제작하고 Network Analyzer로 측정하여 비교하였다. chip 표면실장으로 구현된 Diplexer는 GSM에서 최대 0.86 dB의 loss, DCS에서 최대 0.68 dB의 loss가 나타났다. 표면실장과 비교하였을 때 함몰공정의 Diplexer는 GSM 대역에서 약 0.5 dB의 추가 loss가 나타났으며 목표대역에서 0.6 GHz정도 내려갔다. 이 결과를 바탕으로 두 공정 간 차이점을 확인하고, 함몰공정으로 chip-type 수동소자를 사용하였을 때 고려해야 할 점을 분석하였다. 이를 바탕으로 SoP-L 함몰공정의 안정성을 높여서 이것을 이용한 회로의 소형화에 적용이 가능할 것으로 기대한다. 특히 능동소자의 DC Power Control에서 고용량의 수동소자를 이용할 때 집적도를 높일 수 있을 것이다.

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