• 제목/요약/키워드: 고온내성

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Heat Shock Stress에 의한 Lactobacillus acidophilus 30SC의 생리적 특성 (Physiological Properties of Lactobacillus acidophilus 30SC Exposed to Heat Shock Stress)

  • 문용일;한수민;박동준;지연태;김광현;오세종
    • 한국축산식품학회지
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    • 제25권3호
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    • pp.350-356
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    • 2005
  • Probiotics로서의 활성이 높은 Lactobacillus acidophilus 30SC의 생존성을 증진시키기 위한 기초 자료를 얻고자, heat shock stress를 가한 후 생균수를 측정하고, 생존율의 변화를 통해 고온 처리에 의한 고온 및 냉동 내성의 증진 효과를 평가하였다. 또한 열처리 동안 새로이 발현되는 단백질을 1차원 및 2차원 전기영동을 이용하여 확인하였으며, 주사전자현미경을 사용하여 세포 모양을 관찰하였다. L. acidophilus 30SC는 $55^{\circ}C$의 heat shock stress를 받았을 때 생존 균수가 감소하는 것으로 나타났다. 나머지 처리구는 $37^{\circ}C$에서 계속 배양한 것과 별다른 차이를 나타내지 않았다. 특히 $45^{\circ}C$로 heat shock stress를 준 경우 $37^{\circ}C$에서 배양한 것과 거의 동일하였다. L. acidophilus 30SC에 $45^{\circ}C$로 heat shock stress를 가한 뒤 추가로 55 및 $60^{\circ}C$에 노출시켰을 때 가장 높은 생존율을 나타냈고, 치사 수준인 $55^{\circ}C$의 heat shock stress를 받은 후 $55^{\circ}C$$60^{\circ}C$에 노출되었을 때 생존율이 급격히 감소하는 경향을 보였다. L. acidophilus 30SC에 $55^{\circ}C$로 15분 Heat shock stress를 준 경우 약 22와 25 kDa의 단백질들이 새로이 발현된 것으로 나타났으나, 24와 27 kDa로 추정되는 단백질의 발현 정도는 낮았음을 확인하였다. 2차원 전기영동을 실시한 결과, $37^{\circ}C$에서 배양한 대조구와 비교할 때 $55^{\circ}C$로 heat shock stress를 준 경우 새로이 5개의 protein spot을 발견할 수 있었다. 주사전자현미경으로 세포의 형태를 관찰한 결과 heat shock stress를 준 경우에는 세포의 길이가 신장되는 경향을 나타내었다.

온도 및 염화나트륨이 측백나무 종자 발아에 미치는 영향 (Effect of Temperature and Sodium Chloride on Seed Germination of Thuja orientalis)

  • 탁우식;김태수;최충호
    • 한국자원식물학회지
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    • 제19권1호
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    • pp.97-104
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    • 2006
  • 온도 및 NaCl 등의 외부 환경인자에 노출되었을 때 나타나는 측백나무 종자의 발아특성을 조사하고 불량환경에 대한 내성 및 적정 환경조건을 알아보고자 본 연구를 실시하였다. 15, 20, 25, $30^{\circ}C$의 온도조건에서 NaCl 용액을 0, 500, 1,000, 2,000, 4,000ppm의 5수준으로 분주하여 종자발아특성 및 상대수분흡수율을 조사하였다. 발아율의 경우 $15^{\circ}C$ 온도에서 가장 높게 나타났으며 NaCl에 의한 감소의 폭도 가장 작았다. 반면, $30^{\circ}C$에서는 모두 현저히 낮게 나타났다. 휴면율과 고사율은 대부분 고온으로 갈수록 높게 나타났다. 특히, 휴면율은 $30^{\circ}C$에서 그 차이가 현저하였으며, 고사율에 비해서도 높은 수치를 보였다. 온도 및 NaCl의 농도에 대한 상호연관성을 알아보고자 two-way ANOVA 분석을 실시한 결과 두 요인 및 요인간 상호작용에서 유의성이 인정되었다(p<0.001). 평균발아일수는 온도 및 NaCl 농도가 증가함에 따라 대체적으로 증가하는 경향을 보여 발아가 지연되었음을 나타냈다. 그러나 $30^{\circ}C$에서는 NaCl의 독성에 의해 고사종자가 발생하여 증가 후 감소하는 경향을 나타냈다. 발아속도와 발아균일지수는 온도 및 NaCl 농도가 증가함에 따라 감소하였다. 상대수분흡수율은 $15^{\circ}C$에서 가장 높게 나타났으며, NaCl 농도가 증가함에 따라 감소하는 경향을 보였다. 또한 발아율, 발아속도 및 발아 균일지수와 높은 정(+)의 상관을 나타내었다. 결과적으로, 고온과 염류는 측백나무 종자의 발아를 저해하는 요인으로 작용하므로 발아율, 발아속도 및 발아균일지수의 감소를 줄이기 위해 노지 파종시 이들 요인에 대한 고려가 필요할 것으로 사료된다.

Saccharomyces cerevisiae D-71과 Zygosaccharomyces rouxii SR-S의 원형질체 형성과 융합 (Protoplast Formation and Fusion between Saccharomyces cerevisiae D-71 and Zygosaccharomyces rouxii SR-S)

  • 이종수;김찬조
    • 한국미생물·생명공학회지
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    • 제16권2호
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    • pp.142-149
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    • 1988
  • 고온에서 고농도 기질을 발효할 수 있는 효모를 육성하고자 8%의 NaCl 내성을 갖은 고온발효성인 Saccharomyces cerevisiae D-71 과 Ca-pantothenate 를 절대요구하는 내삼투압성인 Zygosaccharomyces rouxii SR-S를 친주로 하여 원형질체 형성과 융합조건을 검토하였다. Sacch. cerevisiae D-71은 YEPG 배지에 12시간 배양한 세포를 0.1mM EDTA와 0.5M sorbitol를 함유한 인산완충액(pH7.5)에 현탁시켜 1%의 2-mercaptoethanol로 10분간 전처리한 후 Zymolyase-20T 4.0mg/$m\ell$를 가하여 3$0^{\circ}C$에서 50분간 반응시켰을 때 96% 이상의 수율로 윈형질체가 형성되었고 Zygosacch. rouxii SR-S는 YEMEPG 배지에 24시간 배양한 세포를 0.1mM EDTA와 0.5~l.0M mannitol을 함유한 인산완충액(pH7.0)에 현탁시켜 1%의 2-mercaptoethanol로 10분간 전처리 한 후 Zymolyase-20T 4.0mg/$m\ell$를 가하여 3$0^{\circ}C$에서 120분간 반응시켰을 때 95% 정도의 수율로 원형질체가 형성되었다. 시험효모의 원형질체를 CaCl$_2$와 Sorbitol 및 40% 의 PEG 4000을 함유한 융합배지에 1 : 1로 혼합한 후 35$^{\circ}C$에서 20분간 처리하여 융합시킨 다음 3%의 한천을 함유한 최소배지에 중층하여 5일간 배양하였을 때 9.1$\times$$10^{-6}$의 융합빈도수를 보였다. 또한 주사형전자현미경으로 구형의 원형질체와 융합재생된 타원형의 세포를 관찰할 수 있었다.

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알팔파(Medicago sativa L.)의 치사온도 결정 (Determination of Heat Killing Temperature of Alfalfa (Medicago sativa L.))

  • 김기용;강경민;성병렬;김맹중;임용우;김원호;박근제;이병현
    • 한국초지조사료학회지
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    • 제24권1호
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    • pp.21-24
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    • 2004
  • 알팔파(Medicago sativa L.)의 치사온도를 결정하기 위하여, "Vernal" 품종을 시험재료로 하여 종자를 Petri dish에서 발아시켜 작은 화분에 10 개체씩 이식, 생장실에서 4주간 재배하였다. 45, 50 및 $55^{\circ}C$에서 처리한 경우에는 60분간 처리했을 때에도 거의 식물체 손상이 없었다. 6$0^{\circ}C$에서 60분간 처리했을 때에는 잎이 약간 시든 듯한 현상이 있었으나 식물체의 손상은 거의 없는 상태였으며, $65^{\circ}C$에서 60분간 처리했을 때에도 $60^{\circ}C$에서 처리한 결과와 마찬가지로 심한 손상은 받지 않았다. $70^{\circ}C$에서 60분간 처리했을 때에 알팔파는 일부에서 잎만 조금 마른 현상이 나타났으나, 치사온도에는 도달하지 않았다. $80^{\circ}C$에서 처리한 결과에서는 처리 후 1일 이내에 60분 처리에서 거의 죽어가는 현상이 나타났다. 처리 후 7일에는 50분 처리에서 모두 죽었으며, 45분 이하의 처리에서는 새로운 shoot가 재생됨을 확인하였다. 결론적으로 알팔파의 치사온도는 $80^{\circ}C$에서 50분 처리하는 것으로 결정되었다.것으로 결정되었다.

오차드그라스 (Dactylis glomerata L.)의 치사온도 결정 (Determination of Heat Killing Temperature of Orchardgrass(Dactylis glomerata L.))

  • 김기용;강경민;임용우;박근제;임영철;서성;손대영;조진기
    • 한국초지조사료학회지
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    • 제24권1호
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    • pp.25-28
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    • 2004
  • 오차드그라스(Dactylis glomerata L.)의 치사온도를 결정하기 위하여, 국내 육성품종인 "장벌 102호"(Jangbeol 102) 품종을 시험재료로 하여 종자를 petri dish에서 발아시켜 작은 화분에 10 개체씩 이식, 생장실에서 4주간 재배하였다. $45^{\circ}C$, $50^{\circ}C$$55^{\circ}C$에서 처리한 경우에는 60분간 처리했을 때에도 거의 식물체 손상이 없었다. $60^{\circ}C$에서 30분간 이상 처리했을 때에는 잎 끝이 마르고 약간 시들었으나 식물체의 손상은 약한 편이었으며, $65^{\circ}C$에서 처리한 결과에서도 $60^{\circ}C$에서 처리했을 때보다는 좀 더 시들었지만 역시 심한 정도는 아니었다. $70^{\circ}C$에서 30분간 처리했을 때에 오차드그라스는 잎의 중간 정도까지 말랐으며, 60분간 처리했을 때에는 지상부의 잎이 2/3 이상 마른 상태였다. $80^{\circ}C$에서 처리한 결과에서는 처리 후 1일 이내에 50분 이상 처리에서 거의 죽어가는 현상이 나타났다. 처리 후 7일에는 55분 이상의 처리에서만 모두 죽었으며, 50분 이하의 처리에서는 새로운 shoot가 재생됨을 확인하였다. 결론적으로 오차드그라스의 치사온도는 $80^{\circ}C$에서 55분 처리하는 것으로 결정되었다.

[특별세션: 다기능성 나노박막 및 제조 공정] 원자/나노 복합구조 제어에 의한 다기능성 전자저항막기술

  • 신유리;곽원섭;권세훈
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.504-504
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    • 2011
  • 최근 디지털 프린팅 기술의 핵심기술로 떠오르고 있는 잉크젯 프린팅 기술은 최근 기존의 문서인쇄 뿐 아니라, 직물 인쇄, 태양전지 등의 다양한 반도체 소자 제조에 널리 활용되고 있으며, 점차 그 응용 분야를 넓혀가고 있다. 특히 thermal 방식의 잉크젯 피린팅 기술은 etching, thin film process, lithography등의 반도체 공정 기술을 이용하여 제작할 수 있기 때문에, 현재 잉크젯 프린팅 기술은 대부분 thermal 방식을 체택하고 있다. 이러한 thermal 잉크젯 프린팅 방법에서는 잉크를 토출시키기 위하여, 전기적 에너지를 열에너지로 전환하는 전자저항막층이 필수적으로 필요하게 되는데, 이러한 전자저항막층은 수백도가 넘는 고온 및 잉크와 접촉으로 인한 부식 및 산화 문제가 발생할 수 있는 열악한 환경에서 사용되므로, Ta, SiN과 같은 보호층을 필수적으로 필요로 한다. 그러나 최근 잉크젯 프린터의 고해상도 고속화, 대면적 인쇄성 등과 같은 다양한 요구 증가에 따라, 잉크젯 프린터의 저전력 구동이 이슈로 떠올라 열효율에 방해가 되는 보호층을 제거할 필요성이 제기되고 있다. 지금까지는 Poly-Si, $HfB_2$, TiN, TaAl, TaN 0.8 등의 물질들이 잉크젯 프린터용 전자저항막 물질로 연구되거나 실제로 사용되어져 왔으나, 이러한 물질들을 보호층을 제거하는 경우 쉽게 산화되거나, 부식되는 문제점을 가지고 있다. 따라서, 기존 전자저항막의 기능을 만족시키면서, 산화나 부식에 대한 강한 내성을 가져 보호층을 제거하더라도 안정적으로 구동이 가능한 하이브리드 기능성(히터 + 보호층)을 가지는 잉크젯 프린터용 전자저항막 물질의 개발이 시급한 실정이다. 본 연구에서는 자기조립특성을 가져 정밀제어가 가능한 원자층증착법(Atomic Layer Deposition)을 이용하여 원자/나노 단위의 미세 구조 컨트롤을 통해 내열 내산화 내부식성 저온도저항계수를 동시에 가지는 다기능성 전자저항막을 설계 및 개발하고자 하였다. 전자저항막 개발을 위하여 우수한 내부식 내산화성을 가지고 결정립 크기에 따른 온도저항계수 조절이 가능한 platinum group metal들과 전기 저항 및 내열성 향상을 위한 물질의 복합구조막을 원자증증착법으로 증착하였다. 또한, 전자저항막 증착시 미세구조와 공정 변수가 내부식성, 내산화성, 그리고 온도저항계수에 미치는 영향을 체계적으로 연구하여, proto-type의 inkjet printhead를 구현하였다.

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UV 나노임프린트 리소그래피의 Quartz 기판상의 Resin mold 제거를 위한 Hybrid 세정공정에 관한 연구

  • 조윤식;김민수;강봉균;김재관;이병규;박진구
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2012년도 춘계학술발표대회
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    • pp.81.1-81.1
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    • 2012
  • 나노임프린트 리소그라피(Nano-Imprint Lithography, NIL) 기술은 기판위의 resin을 나노구조물이 각인된 스탬프로 눌러서 나노구조물을 형성하는 기술로, 경제적이고 효과적으로 나노구조물을 제작할 수 있는 기술이다. 그중에서도 UV 기반의 나노임프린트(UV-NIL) 기술은 resin을 투명한 스탬프로 누른뒤 UV로 경화시켜 나노구조물을 형성하는 기술로써 고온, 고압($140{\sim}180^{\circ}C$, 10~30bar)이 필요한 가열식 나노임프린트 기술에 비해 상온, 상압($20^{\circ}C$, 1bar)에서도 구조물 형성이 가능하여 다층구조 형성에 적합하다. 연속적인 임프린팅 공정에 의해 resin이 quarz 스탬프에 잔류하여 패터닝에 결함을 유발하게 되므로 오염물을 제거하기 위한 세정공정이 필요하다. 하지만 UV에 의해 경화된 resin은 cross-linking을 형성하여 화학적인 내성이 증가하게 되므로 제거하기가 어렵다. 현재는 resin 제거를 위한 세정공정으로 SPM($H_2SO_4/H_2O_2$) 세정이 사용되고 있는데 세정시간이 길고 세정 후에 입자 또는 황 잔유물이 남으며 많은 유해용액 사용의 문제점이 있어 효과적으로 resin을 제거할 세정공정이 필요한 상황이다. 본 연구에서는 친환경적인 UV 세정 및 오존수 세정공정을 적용하여 경화된 resin을 제거하는 연구를 진행하였다. 실험샘플은 약 100nm 두께의 resin을 증착한 $1.5cm{\times}1.5cm$ $SiO_2$ 쿠폰 wafer를 사용하였으며, UV 및 오존수의 처리시간을 달리하여 resin 제거효율을 평가하였다. ATR-FTIR 장비를 사용하여 시간에 따른 resin의 두께를 측정한 결과, UV 세정으로 100nm 높이의 resin중에 80nm의 bulk resin이 단시간에 제거가 되었고 나머지 20nm의 resin thin film은 오존수 세정으로 쉽게 제거되는 것을 확인 하였다. 또한 표면에 남은 resin residue와 particle을 제거하기 위해서 SC-1 세정을 진행하였고 contact angle과 optical microscope 장비를 사용하여 resin이 모두 제거된 것을 확인하였다.

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p-형 Al/SnO2 투명 전도성 다층박막에 미치는 열처리의 영향 (Effect of annealing om p-type Al/SnO2 transparent conductive multilayer films)

  • 박근영;김성재;구본흔
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.27-28
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    • 2014
  • 투명전극이란 전기 전도도를 갖는 동시에 가시광선 영역에서 빛을 투과하는 성질을 가지는 소재이다. 일반적으로 가시광선 영역(380nm~780nm)에서 80%이상의 광 투과도를 가지며, 비저항이 $10^{-3}{\Omega}{\cdot}cm$ 이하, optical band gap 이 3.3 eV 이상인 물질을 TCO(Transparent Conducting oxide)라고 한다. 현재까지 국내의 TCO 관련 연구는 터치패널, 디스플레이, 태양전지 등 광전자분야에서 가장 널리 사용되고 있는 ITO(Sn:In2O3)에 치중되어 있으며, 관련 연구도 거의 디스플레이 맞춤형 연구개발이 주류를 이루어왔다. ITO가 전기전도성이 우수하고 동시에 가시광선 영역에서의 투과율도 80%이상으로 전기적, 광학적 특성이 우수하다는 장점을 가지고 있으나, In의 희소성으로 인한 고가격, 유독성, 접착력 문제 때문에 이를 대체하기 위해 제조원가가 ITO에 비하여 월등히 저렴하고 내화학성과 내마모성이 우수하면서도, 가시광선 영역에서의 광투과율이 80%이상으로 좋다는 $SnO_2$에 관한 연구가 활발히 진행되어 왔다. 적절한 dopant를 첨가하여 $SnO_2$자체의 높은 광학적 투과도를 유지하면서 전기전도성을 더 높일수 있고, 투명전극이 가져야 할 고온 안정성을 가지고 있으며 비독성이고 수소 플라즈마에 대한 내성이 더 클 뿐만 아니라 저온에서 성장이 가능하다. $SnO_2$의 전기 전도도를 높이기 위한 Al, In, Ga, B와 같은 3족 원소가 $SnO_2$의 n형 dopant로 널리 사용되고 있다. 그 중 Al은 반응성이 커서 박막 증착 중에 산화되기 쉬운 반면, 전기적 특성 및 광학적 특성의 향상을 이룰 수 있다. 본 연구에서는 Rf Sputtering법을 사용하여 quartz기판 위에 다층박막 형태의 투명전도막을 제작한 후, 열처리를 수행, 이에 의한 다층박막 내 계면간 상호확산 현상을 이용하여 투명 전도막의 특성변화를 관찰하였다. 박막의 구조적 특성은 XRD장비를 사용하여 분석하였으며, 전기적, 광학적 특성은 각각 표면저항기, 홀 측정 장비, 그리고 UV-VIS-NI를 사용하여 확인하였다.

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효모(酵母)에 의(依)한 과실주(果實酒)의 감산(減酸) (Decomposition of Acid in Wine by Yeast)

  • 박윤중;손천배
    • 농업과학연구
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    • 제7권2호
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    • pp.176-181
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    • 1980
  • 산미(酸味)가 과다(過多)한 과실주(果實酒)의 감산(減酸)에 이용(利用)하기 위한 시험(試驗)으로는 공시효모(供試酵母)의 균학적(菌學的) 성질(性質)을 검토(檢討)하고 사과주(酒) 양조(釀造)에 있어서의 공시효모(供試酵母)의 특성(特性)을 시험(試驗)하였다. 그 결과(結果)는 아래와 같다. 1. 공시효모(供試酵母)는 Schizosaccharomyces pombe R-73로 동정(同定)되었다. 2. 공시효모(供試酵母)는 사과즙(汁) 중(中)에서의 아황산내성(亞黃酸耐性)이 포도주효모(酒酵母) 보다 강(强)하였다. 3. 사과즙(汁) 중(中)에서 배양(培養)하는 경우 $25^{\circ}C$에서는 공시효모(供試酵母)의 증식속도(增植速度)는 포도주효모(酒酵母)나 청주효모(淸酒酵母) 보다 빨랐다. 그러나 $15^{\circ}C$에서는 공시효모(供試酵母)의 증식속도(增植速度)가 대조균주(對照菌株) 보다 많이 느렸다. 4. 사과주양조(酒釀造)에 있어서 $25^{\circ}C$(고온(高溫))에서는 공시효모(供試酵母)의 Ethanol 생성력(生成力)이 강(强)하였고 감산효과(減酸效果)가 매우 컸다. 그러나 $15^{\circ}C$(저온(低溫))에서는 공시효모(供試酵母)의 Ethanol 생성력(生成力)이 떨어졌으며 감산효과(減酸效果)도 적었다.

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과일과 전통발효제로부터 추출한 단백질분해 조효소의 비교 특성 (Characteristics of Crude Protease from Fruits and Traditional Korean Fermentation Starters)

  • 유선아;서승호;현서연;손홍석
    • 한국식품영양과학회지
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    • 제42권9호
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    • pp.1461-1466
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    • 2013
  • 본 연구에서는 과일(무화과, 키위, 파인애플)에서 추출한 단백질분해 조효소와 전통발효제(개량누룩, 전통누룩, 메주, 입국)에서 추출한 단백질분해 조효소의 특징을 비교하였다. 전통발효제에서 추출한 단백질분해 조효소는 과일에서 추출한 단백질분해조효소보다 높은 온도($70^{\circ}C$), 높은 염 내성(1~3%), 그리고 낮은 pH(3~6)에서 활성을 보였다. 같은 조건에서 활성을 비교하였을 때, 바이오 누룩>입국>전통누룩>무화과>파인애플>메주>키위 순으로 활성이 높았다. 이러한 결과는 과일에서 추출한 단백질분해 조효소보다 전통발효제에서 추출한 단백질분해 조효소의 활성이 우수하고 고온, 산성, 그리고 염의 조건에서도 활성이 저하되지 않으므로, 소시지나 치즈 제조 등의 다양한 식품산업에 이용될 수 있는 가능성을 보여준다.