• Nuclear Engineering and Technology
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• 제13권4호
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• pp.229-236
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• 1981

중성자포획 감마선 방사화분석법을 이용하여 원자로급 알루미늄중 붕소를 분석하였다. 실험에 의한 검출한계는 10% 불확실도의 경우 5.7ppm 이었다. 함량이 더욱 미량인 경우를 위하여 양이온 교환수지를 이용하며 알루미늄으로 부터 붕소를 사전분리하는 농축법을 개발하였다. 이 두 방법 즉 직접 측정하는 방법과 농축후 측정하는 두가지 방법의 정확도를 첨가법으로 조사하였다. 그 결과 5% 편차 이내에서 잘 일치하였다.

• 자원리싸이클링
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• 제17권5호
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• pp.44-51
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• 2008

본 연구에서는 국산 99.7%순도의 수산화알루미늄을 대상으로 미량원소로 함유되어 있는 Na, Ca및 Fe의 제거실험을 수행하였다. 용출액으로는 유기산인 oxalic acid와 citric acid를 사용하였으며 수산화알루미늄은 초기 입도가 서로 다른 2종류의 시료를 사용하였다. 수산화알루미늄의 미립화를 위해 ball mill을 사용하여 미분쇄 실험을 수행하였으며, 용출조건에 따른 미량원소의 용출특성을 조사하였다. 실험결과 0.1$\sim$1.0mole/l 농도범위에서 oxalic acid에 의한 원소 용출율이 citric acid보다 높은 것으로 나타났으며, 유기산 농도가 증가할수록 또한 반응온도가 증가할수록 원소의 용출율은 증가하였다. 미분쇄 공정시 순수한 물에 의한 Na의 용출율은 약 45%에 달해 aluminum hydroxide에 함유된 Na성분의 상당 부분은 수용성 화합물인 것으로 확인되었다.

• 대한화학회지
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• 제35권3호
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• pp.275-279
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• 1991

고순도 암모니움 명반 결정을 합성한 후 열분해 시켜 높은 순도의 초미세 산화알루미늄(${\alpha}-Al_2O_3$)분말을 합성하였다. 이 때 불순물인 Na$_2$O의 혼입과 Al(OH)$_3$의 침전을 최대한으로 방지하기 위해 pH = 1.5∼2.5의 영역에서 암모니움 명반을 합성하였으며, pH 조건은 수용액 중에서 Na와 Al 이온의 수산화물과 탄산염 형성을 고려, pH에 따른 각 이온종들의 농도가 이론적으로 계산되었다. 그 결과 ${\alpha}-Al_2O_3$의 순도는 99.7%이상이고, 입자는 ${\phi}$ = 0.1∼0.5 ${\mu}$m의 균일한 크기의 분말이 얻어졌다.

• 청정기술
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• 제18권1호
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• pp.63-68
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• 2012

본 연구에서는 베이어공정에 의해서 수산화알루미늄($Al(OH)_3$)을 합성하였으며, 고순도 알루미나를 합성하기 위하여 염산 및 초산과 같은 산성용액을 사용하여 $Al(OH)_3$에 함유된 나트륨을 제거하였다. 호주의 퀸즐랜드 주에서 생산된 보크사이트가 베이어공정에 의해 알루미나를 합성하기 위해 사용되었으며, 보크사이트는 attrition mill을 이용하여 10 ${\mu}m$ 이하의 분말로 분쇄하여 사용되었다. 보크사이트에 함유된 알루미나 성분을 용출하기 위하여 분쇄된 보크사이트를 5 N의 NaOH 수용액으로 처리하였으며, 고압반응기 내에서 보크사이트로부터 알루미나의 용출은 $140^{\circ}C$, 3.4 atm에서 수행되었다. 용출 후 고체시료인 레드 머드는 여과에 의해서 액체시료와 분리되었다. 보크사이트와 여과된 레드 머드에 함유된 알루미늄 함량과 구조변화를 XRD와 EDX로 분석하였다. 또한 분리된 용액에 함유된 알루미나는 씨드 물질로 사용된 $Al(OH)_3$의 첨가에 위해서 $Al(OH)_3$로 결정화되었다. 결정화 과정에서 얻어진 $Al(OH)_3$는 증류수에 의해서 수차례 수세과정으로 정제되었다. 또한 산성 용액에 의해서 $Al(OH)_3$에 함유된 나트륨이 제거되는 것을 확인되었다. $Al(OH)_3$ 분말의 순도는 물에 의한 세정으로 99.3%로 생산되었고, 산 처리에 의해서 나트륨의 함량은 약 0.009% 정도로 감소되었다.

• 한국기계가공학회지
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• 제13권4호
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• pp.13-20
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• 2014

In this paper, the effects of a nonionic surfactant on the etch uniformity and the etch profile during the wet-etching process of high-purity aluminum were investigated for the fabrication of uniform micropattern arrays. To improve the surface roughness of a high-purity aluminum plate, a mechanical lapping process and an electrolytic polishing process were used. After electrolytic polishing process, the surface roughness, Ra, of the high-purity aluminum plate was improved from $1.25{\mu}m$ to $0.02{\mu}m$. A photoresist was used as an etching mask during the aluminum etching process, where the mixture of phosphoric acid, acetic acid, nitric acid, a nonionic surfactant and water was used as the aluminum etchant. Different amounts of the Triton X-100 nonionic surfactant were added to the aluminum etchant to investigate the effect of a nonionic surfactant during the wet-etching process of high-purity aluminum. The etch rate and the etch profile were measured by an optical interferometer and a scanning electron microscope.

• 자원리싸이클링
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• 제28권2호
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• pp.54-61
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• 2019

블랙드로스로부터 고순도 알루미나를 회수하기 위해 기계적 활성화 처리한 블랙드로스를 수산화나트륨용액으로 침출하면 미량의 규소(IV)가 함유된 알루미네이트 용액을 얻을 수 있다. 본 연구에서는 hydrotalcite를 사용하여 알루미늄(III)과 규소(IV)의 농도가 각각 13000과 150 mg/L인 5 M의 수산화나트륨용액에서 규소(IV)의 선택적 흡착거동에 대하여 조사했다. Hydrotalcite는 수산화나트륨용액으로부터 규소(IV)만을 선택적으로 흡착하였다. Hydrotalcite의 소성과 농도 및 NaOH의 농도가 규소(IV)의 흡착에 미치는 영향을 조사하였다. 5 M의 수산화나트륨용액에서 규소(IV)의 흡착률은 낮으나 물로 48배 희석하여 소성한 hydrotalcite의 농도가 4.5 g/L 이상인 조건에서 규소(IV)를 대부분 흡착시켜 고순도 알루미나용액을 회수할 수 있었다. 소성한 hydrotalcite에서 규소(IV)의 흡착은 Freundlich 등온흡착식과 잘 일치하였다.

• Nuclear Engineering and Technology
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• 제24권2호
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• pp.163-167
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• 1992

고순도알루미늄중 불순물의 Parameter로 이용될수 있는 구리의 비파괴 방사화분석법의 고찰 및 23종의 극미량불순성분원소의 함량을 분석하였다. 즉 구리의 분석은 원자로의 속중성자에 의한 27Al(n,$\alpha$)24Na반응으로 생성되는 24Na의 방사능을 감소시키기 위하여 Thermal Column을 이용하였고 다른 조사공을 이용한 경우보다 약 100 배 정 도 방해 요인을 감소시킬 수 있었다. 24Na 에 의한 영향은 2-3 %범위 이하이었다. 이 방법에 의해 표준알루미늄(6 nine class)시료로부터 구리를 정량하였고 아울러 기타 불순원소들을 일상 방사화분석법에 의해 정량하였다. 구리의 함량은 0.54$\pm$0.08 ppm이었다. 이러한 결과는 문헌값과 비교할때 타당성이 있었고 일상분석에 이용할 수 있는 좋은 방법으로 여겨진다.

• 한국재료학회지
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• 제2권1호
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• pp.3-11
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• 1992

점토 광물로부터 황산 처리법을 이용하여 수화 황산 알루미늄을 제조하였다. 하동 카올린 을 황산 처리하였을 때 수화 황산 알루미늄 형성에 미치는 카올린의 하소 온도와 하소 시간, 산처리 반응 온도와 반응 시간 및 황산의 농도의 영향을 조사하였다. 또한, 황산 처리된 용액으로부터 수화 황산 알루미늄이 석출되는 최적 조건을 구하였으며, 생성된 수화 황산 알루미늄을 상온에서 $1200^{\circ}C$ 까지 각각의 온도 구간에서 열처리한 분말에 대해서 XRD, TG-DTA, FT-IR, SEM, 입도 분석 및 불순물 분석을 하였다. 최적 조건 하에서, 카올린 중의 알루미나가 수화 황산 알루미늄으로 생성되는 전화율은 약 60%였고, XRD, TG-DTA, FT-IR 등의 분석 결과로 부터 생성된 수화 황산 알루미늄의 열분해 반응은 $Al_2(SO_4)_3{\cdot}18H_2O{\rightarrow}Al_2(SO_4)_3{\cdot}6H_2O{\rightarrow}Al_2(SO_4){\rightarrow}\;amorphous\;alumina{\rightarrow}{\gamma}-alumina{\rightarrow}{\delta}-alumina{\rightarrow}{\theta}-alumina{\rightarrow}{\alpha}-alumina$이었다. 또한 생성된 수화 황산 알루미늄을 $1200^{\circ}C$에서 하소 하여 얻은 알루미나 분말의 순도는 99.99%였다.

• 대한화학회지
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• 제33권2호
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• pp.263-270
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• 1989

금속알루미늄 조각과 alcohols을 반응시켜 Al-alkoxides를 합성하였으며 이것을 가수분해하여 얻은 Al-hydroxides와 시약 AlCl3로부터 얻은 Al-hydroxides를 여러 온도에서 소성하여 여러 상의 고순도 $Al_2O_3$를 제조하였다. 제조한 ${\gamma}$와 ${\eta}$상 알루미나의 촉매적 특성을 알아보았고, $Al(OH)_3$로부터 ${\alpha}-Al_2O_3$의 생성과정을 속도론적으로 고찰하였다.

• 대한전자공학회논문지TE
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• 제37권5호
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• pp.1-6
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• 2000

고순도 적색 발광을 얻기 위하여 진공증착법으로 스쿠아릴늄 색소(Sq)를 첨부한 알루미늄퀴롤린착체 (Alq3)를 발광층으로 사용하는 유기발광소자를 제작하였으며, 소자의 발광특성 및 전기적 특성을 조사하였다. 스쿠아릴늄의 발광 피이크 파장은 670㎚이고 발광강도가 절반이 되는 파장 폭은 30㎚이었다. 스쿠아릴늄의 적색발광은 도핑 농도가 15㏖% 이상에서 고순도 적색 발광특성이 관측되었지만, EL효율은 10/sup -2/W 이하이고 휘도는 0.21cd/㎡, 0.1cd/㎡ 정도로 매우 낮았다. 스쿠아릴늄 분자가 Alq3 분자 내에 트랩 된다고 하더라도 도핑농도가 5㏖% 이상인 경우에 캐리어 드래프트로 작용한다.