• 제목/요약/키워드: $SiCl_4

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Direct Synthesis and Structure of $\eta^4$-1-Functionally Substituted 2,3,4,5-Tetraphenyl-1-Silacyclopenta-2,4-diene Complexes of Irontricarbonyl

  • Joo, Qan-Chul;Sohn, Hong-Lae;Hong, Jang-Hwan;Kong, Young-Kun;Singh, P.
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제10권2호
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    • pp.191-196
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    • 1989
  • We obtained the new complexes, $Fe{\eta}^4-R,R'-TPSCp](CO)_3$(R,R'-TPSCp = 1,1-disubstituted 2,3,4,5-Tetraphenyl-1-Silacyclopenta-2,4-diene; R = Ph, R' = Cl, R = R' = Cl) from the reaction of the corresponding R,R'-TPSCp with ironpentacarbonyl under reflux in toluene. Also, the analogous complexes with R = R' = Me and R = Me, R' = Cl were obtained in an identical manner. We have determined the crystal structure of $Fe[Ph(Cl)-TPSCp](CO_)3$ by using Mo ka, ${\lambda}$ = 0.71069${\AA}$, where the unit cell was found to be monoclinic with a = 9.042 (6)${\AA}$, b = 19.870 (9)${\AA}$, c = 17.426 (9)${\AA}$ and ${\beta}$ = 96.28(4)$^{\circ}$. The butadiene moiety of TPSCp ring is planar and the dihedral angle of the butadiene plane and C4-Si-C25 plane was opened up to 41.8$^{\circ}$. The C-C distances in the butadiene moiety were found to be 1.4346, 1.462, and 1.440 ${\AA}$, respectively. It may be said that the four ${\pi}$-electrons are delocalized over the four carbons in five membered ring through coordination with ironcarbonyl. In this complex Fe is either in distorted tetrahedron environment with the centroid of the four C-atom butadiene moiety and three carbons of the three carbonyls or in distorted square-pyramidal environment with two midpoints of double bonds of the butadiene moiety and two carbons of carbonyl defining the base of the pyramid and the carbon of remaining carbonyl the apex.

죽염의 특성 분석과 항위궤양효과 (Characterization and Anti-Gastric Ulcer Activity of Bamboo Salt)

  • 김승희;강석연;정기경;김태균;한형미;류항묵;문애리
    • 한국식품위생안전성학회지
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    • 제13권3호
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    • pp.252-257
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    • 1998
  • 죽염은 예로부터 위궤양 등의 소화기 질환에 민간요법으로 사용되어 왔으며 대나무 통속에 천일염을 넣고 소나무 장작불로 9번 구워서 만들어진다. 본 연구에서는 죽염의 특성분석시험과 항위궤양 시험 중 위산분비 억제도 시험을 실시하였다. 특성분석시험으로 ICP(Inductively Coupled Plasma) spectrometer, IC(Ion Chromatograph), XRD(X-ray Diffractrometer), 전자현미경을 이용하여 천일염과 죽염제품 A, B, C의 성분 및 구조분석을 실시하였다. 그 결과, 성분분석시험에서 죽염은 천일염에 비하여 칼륨, 규소, 철 및 인삼염의 농도가 증가하였으며 황산염은 감소되었음을 알 수 있었다. 죽염 중 물불용분에 포함된 화합물은 MgO가 가장 많았고, $SiO_2,\;Mg_2Si_O4\;및\;CaMgSiO_4$등도 확인되었다. 구조분석에서 죽염은 천일염에 비하여 대체로 표면이 매끄럽고 용융되어 있는 것으로 나타났다. 죽염제품 A, B, C 중 A를 사용하여 위산분비에 미치는 영향을 측정하였다. SD계 랫드에 죽염, 천일염, 시약급 NaCl, 증류수를 1일 1회 28일 동안 각 0.2, 1.0, 2.0 g/kg으로 경구 투여하여 마지막 투여 후 24시간 절식시켜 Shay 유문 결찰법을 이용하여 채취한 위액의 총량, pH, 총위산도, 펩신활성도를 측정하였다. 실험결과 각 투여 용량군에서 용매 대조군에 비하여 통계학적으로 유의성 있는 차이를 나타내지 않았으며 죽염을 포함한 여러 가지 염투여는 위산분비에 영향을 주지 않았다. 따라서 28일간 죽염투여에 의한 위궤양 치료효과는 기대하기 어려울 것으로 사료된다.

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울릉국화 엑소좀의 항노화 활성 효과 연구 (Study on the Anti-Aging Activity of Chrysanthemum lucidum Exosomes)

  • 김민하;윤은정;김정수;배소현;최나영;박시준;이현상
    • 대한화장품학회지
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    • 제50권3호
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    • pp.289-299
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    • 2024
  • 울릉국화(Chrysanthemum lucidum, C. lucidum)는 국화과의 여러해살이풀로, 경북 울릉도에만 분포하는 고유종으로, 이전 연구에서 울릉국화 추출물의 높은 폴리페놀 및 플라보노이드 물질 함량이 높아 우수한 항산화 활성이 보고되어 있으나, 울릉국화 추출물의 주름개선, 세포재생 등과 같은 항노화와 관련된 효능은 잘 알려져 있지 않으며, 울릉국화 유래 엑소좀(C. lucidum-derived extracellular vesicles, ClDEVs)에 대한 활성 연구는 전무한 실정이다. 따라서, 본 연구에서는 in vitro 및 인체적용시험을 통해 ClDEVs에 대한 항노화 활성 효과를 검증하였다. In vitro 세포 실험에서, ClDEVs는 세포 재생을 촉진하고, 콜라겐 합성 유전자인 COL1A1의 발현을 증가시켰고, 피부 장벽 개선 관련 바이오마커 유전자인 LOR 및 FLG의 발현을 증가시켰다. 또한, 노화를 유도시킨 세포에서 노화 관련 바이오마커인 CDKN2A (encodes p16) 및 TP53 (encodes p53) 유전자의 발현을 억제시켰다. 인체적용시험에서 ClDEVs가 함유된 화장료를 4 주간 사용 후 눈가주름 및 팔자주름 개선을 평가한 결과, 4 주 후 통계적으로 유의한 수준의 주름 개선 효과를 나타내었다. 결론적으로 ClDEVs는 주름 개선 및 항노화를 위한 바이오 화장품으로서 높은 응용 가능성을 입증하였다.

유기 리간드와 비정질 실리카겔의 상호 작용에 대한 17O 고상핵자기공명 분광분석 연구: 실리카 표면 구조 및 지각의 탈수반응에 대한 의의 (17O Solid-State NMR Study of the Effect of Organic Ligands on Atomic Structure of Amorphous Silica Gel: Implications for Surface Structure of Silica and Its Dehydration Processes in Earth's Crust)

  • 김현나;이성근
    • 한국광물학회지
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    • 제25권4호
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    • pp.271-282
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    • 2012
  • 비정질 실리카겔은 Si와 O로 이루어진 가장 간단한 화합물로서, 표면에 다양한 구조의 물과 수산기, 그리고 합성과정에서 형성된 유기 리간드(ligand)를 함유하고 있어, 지권, 수권, 그리고 생물권의 상호작용을 이해하는 모델 시스템으로서 의미를 갖는다. 본 연구에서는 $^{17}O$ NMR 분광분석을 통해 비정질 실리카겔의 Si-O-Si와 Si-OH 산소 원자환경의 차이를 규명하고자 하였다. 이를 위해 $SiCl_4$의 수화반응을 통해 $^{17}O$이 집적된 비정질 실리카겔을 합성하였다. $^1H$$^{29}Si$ NMR 분광분석 결과, 비정질 실리카겔 표면에는 다양한 수소결합 세기를 가진 물과 수산기 이외에, Si-$O{\cdots}R$ 형태의 유기 리간드가 존재함을 확인하였다. 이와 같은 유기 리간드는 에탄올 또는 증류수를 이용해 비정질 실리카겔을 초음파 세척함으로써 상당부분 제거 가능하다. $^{17}O$ NMR 분광분석 결과, 짧은 펄스 길이($0.175{\mu}s$)를 이용한 $^{17}O$ NMR 스펙트럼에서 Si-O-Si와 Si-OH 산소원자 환경이 거의 구분되지 않고 나타나는 반면, 특정 실험조건($2{\mu}s$ 펄스길이)의 $^{17}O$ NMR 스펙트럼에서는 약 0 ppm에서 빠른 동역학적 특성을 가지는 Si-OH로 추정되는 피크가 관찰되었다. 이 피크는 비정질 실리카겔 표면의 유기 리간드가 제거됨에 따라 더 뚜렷하게 관찰되며, 이는 유기 리간드와 비정질 실리카의 산소원자 사이의 상호작용이 존재함을 지시한다. 이와 같은 상호작용은 비정질 실리카겔 표면의 수산기의 원자구조에 대한 정보를 제공하며, 이를 통해 규산염 지구물질의 탈수반응 기작에 대한 이해를 고양시킬 수 있다. 따라서 궁극적으로 지구물질의 탈수반응에 기인하여 일어나는 섭입대의 중간깊이(약 70~300 km)에서 일어나는 지진의 미시적인 원인에 대한 실마리를 제시할 것으로 기대된다.

안정화 CdS-cdSe계 채료에 관한 연구 제1보 CdS-CdSe 적색채료와 $ZrSiO_4$의 합성 (Study on Stabilized CdS-CdSe Red Stain A Study on Syntheisis of CdS-CdSe Red Stain and Zircon)

  • 이종근;김종옥
    • 한국세라믹학회지
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    • 제23권2호
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    • pp.50-54
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    • 1986
  • Effects of additionof $NH_4Cl$, NaBr and LiF on the formation of Zircon and the synthesis of CdS-Se red stain were investigated by means of XRD, DTA and the color standard and color nomenclature. The red stain of CdS-Se system shows a little difference dependent on firing temperature on firing conditon. Consequently it forms a good soid-solution with red color under the ratio of CdS and Se 3.5 -4.1 at 58$0^{\circ}C$. But it changes to dark red as increasing Se. LiF is the most effective in mineralizer to preparae zircon with the equilbrant molar $SiO_2$ and ZrO Zircon makes a good preparation in 0.33 mole LiF from 90$0^{\circ}C$.

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Bis(3,5-dibromophenyl)dimethylsilane: A useful synthon for organosilicon chemistry

  • Lee, Jong-Dae
    • 통합자연과학논문집
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    • 제15권1호
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    • pp.19-25
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    • 2022
  • The diarylsilyl compound, C14H12Br4Si, was prepared from the reaction of 3,5-dibromophenyllithium with dimethyldichlorosilane, (CH3)2SiCl2, at -78 ℃, can be a good synthon for derivatization to produce efficient host materials for organic light emitting diodes (OLEDs). Crystal structure analysis shows a slight deviation from ideal tetrahedral symmetry around the Si atom, whose conformation is effective in ensuring the maximum separation of the two phenyl rings and the two methyl substituents. The directions of the two aromatic rings are almost perpendicular to each other. The molecule exists as a monomer in the solid state.

Electrochemical Evaluation of Si-Incorporated Diamond-Like Carbon (DLC) Coatings Deposited on STS 316L and Ti Alloy for Biomedical Applications

  • Kim, Jung-Gu;Lee, Kwang-Ryeol;Kim, Young-Sik;Hwang, Woon-Suk
    • Corrosion Science and Technology
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    • 제6권1호
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    • pp.18-23
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    • 2007
  • DLC coatings have been deposited onto substrate of STS 316L and Ti alloy using r.f. PACVD (plasma-assisted chemical vapor deposition) with a mixture of $C_{6}H_{6}$ and $SiH_{4}$ as the process gases. Corrosion performance of DLC coatings was investigated by electrochemical techniques (potentiodynamic polarization test and electrochemical impedance spectroscopy) and surface analysis (scanning electron microscopy). The electrolyte used in this test was a 0.89% NaCl solution of pH 7.4 at temperature $37^{\circ}C$. The porosity and protective efficiency of DLC coatings were obtained using potentiodynamic polarization test. Moreover, the delamination area and volume fraction of water uptake of DLC coatings as a function of immersion time were calculated using electrochemical impedance spectroscopy. This study provides the reliable and quantitative data for assessment of the effect of substrate on corrosion performance of Si-DLC coatings. The results showed that Si-DLC coating on Ti alloy could improve corrosion resistance more than that on STS 316L in the simulated body fluid environment. This could be attributed to the formation of a dense and low-porosity coating, which impedes the penetration of water and ions.

Photoluminescence analysis of patterned light emitting diode structure

  • 홍은주;변경재;박형원;이헌
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.21.2-21.2
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    • 2009
  • 발광다이오드는 에너지 변환 효율이 높고 친환경적인 장점으로 인하여 차세대 조명용 광원으로 각광받고 있다. 하지만 현재 발광다이오드는 낮은 광추출효율로 인하여 미래의 수요를 충족시킬 수 있을 만큼 충분한 성능의 효율을 나타내지 못하고 있다. 발광다이오드의 낮은 광추출효율은 반도체소재와 외부 공기와의 큰 굴절률 차이로 인하여 발생하는 전반사 현상에 기인한 것으로 이 문제를 해결하기 위하여 발광다이오드 소자의 발광면 및 기판을 텍스처링하는 방법이 중요하게 인식되고 있다. 하지만 현재까지 패턴의 구조에 따른 광추출 특성을 분석한 연구는 미진한 상황이다. 본 연구에서는 임프린팅 및 건식식각 공정을 이용하여 다양한 구조의 나노 및 micron 급 패턴을 발광다이오드의 p-GaN층에 형성하였다. 발광다이오드 기판 위에 하드마스크로 사용하기 위한 SiO2를 50nm 증착한 후 그 위에 UV 임프린팅 공정을 진행하여 폴리머 패턴을 형성시켰다. 임프린팅 공정으로 형성된 폴리머 패턴을 CF4CHF3 플라즈마를 이용하여 SiO2를 건식식각하였고, 이후에 SiCl4와 Ar 플라즈마를 이용한 ICP 식각 공정을 진행하여 p-GaN층을 100nm 식각하였다. 마지막으로 BOE를 이용한 습식식각 공정으로 p-GaN층에 남아있는 SiO2층을 제거하여 p-GaN층에 sub-micron에서 micron급의 홀 패턴을 형성하였다. Photoluminescence(PL) 측정을 통해서 발광다이오드 소자에 형성된 패턴의 구조에 따른 광추출 특성을 분석하였다.

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경원소 적층 분석을 위한 탄성되튐-비행시간 측정시스템 (An ERD-TOF System for the Depth Profiling of Light Elements)

  • 김영석;우형주;김준곤;김덕경;최한우;홍완
    • 한국진공학회지
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    • 제5권1호
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    • pp.25-32
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    • 1996
  • An ERD-TOF system is constructed for the nondestructive depth profiling of light elements in thin films in the range of several thousand angstroms. The particles, recoiled by 10 $MeV^{35}Cl$ projectiles, were detected by a Time-Of-Flight spectrometer composed of a MCP (Micro Channel Plate) and a SSB (Silicon Surface Barrier) detector. A two parameter data acquisition system composed of two PC's was constructed for registering simultaneous time and energy signals. A $Si_3N_4$/poly-Si/$SiO_2$/Si sample was anlayzed and the result is compared with RBS. The detection limit, maximum probable depth and depth resolution for light elements in silicon are about $4\times10^{14}atoms/\textrm{cm}^2$, 5, 000$\AA$ and 100$\AA$, respectively.

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고밀도 플라즈마를 이용한 $HfAlO_3$ 박막의 식각 특성 연구 (Dry Etching Characteristics of $HfAlO_3$ Thin Films using Inductively Coupled Plasma)

  • 하태경;우종창;김창일
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.382-382
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    • 2010
  • The etch characteristics of the $HfAlO_3$ thin films and selectivity of $HfAlO_3$ to $SiO_2$ in $Cl_2/BCl_3$/Ar plasma were investigated in this work. The maximum etch rate was 108.7 nm/min and selectivity of $HfAlO_3$ to $SiO_2$ was 1.11 at $Cl_2$(3sccm)/$BCl_3$(4sccm)/Ar(16sccm), RF power of 500 W, DC-bias voltage of - 100 V, process pressure of 1 Pa and substrate temperature of $40^{\circ}C$. As increasing RF power and DC-bias voltage, etch rates of the $HfAlO_3$ thin films increased. Whereas as decreasing of the process pressure, those of the $HfAlO_3$ thin films were increased. The chemical reaction on the surface of the etched the $HfAlO_3$ thin films was investigated with X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

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