Monomers of oxetane high explosives were theoretically examined in terms of reactivity, reaction mechanism and process of polymerization substituted by azido $(-CH_2N_3)$, nitrato $(-CH_2ONO_2)$ and hydrazino $(-CH_2N_2H_3)$ which belong to the 5th class hazardous materials and have explosiveness under acid catalyst using MINDO/3, MNDO, and AMI methods for formal charge, heat of formation, and energy level. Nucleophilicity and base of oxetane high explosives could be explained by negative charge size of oxetane oxygen atom and reactivity of oxetane in the growth stage of polymerization under acid catalyzer could be expected to be governed by positive charge size of axial carbon atom and low LUMO energy of electrophile. It could be estimated that carbenium ion was more beneficial in the conversion process of oxetane high explosives than that of stabilization energy (13.90~31.02 kcal/mole) of oxonium ion. In addition, concentration of oxonium ion and carbenium ion in equilibrium state influenced mechanism and it was also estimated that $S_N1$ mechanism reacts faster than that of $S_N2$ in prepolymer growth stage considering quick equilibrium based on form and calculation of polymerization under acid catalyzer.
Second-order rate constants $k_N$ have been measured for reactions of benzyl 2-pyridyl thionocarbonate (4b) and t-butyl 2-pyridyl thionocarbonate (5b) with a series of cyclic secondary amines in MeCN at $25.0{\pm}0.1^{\circ}C$. The $k_N$ values for the reactions of 4b and 5b have been compared with those reported previously for the corresponding reactions of benzyl 2-pyridyl carbonate (4a) and t-butyl 2-pyridyl carbonate (5a) to investigate the effect of changing the electrophilic center from C=O to C=S on reactivity and reaction mechanism. The thiono compound 4b is more reactive than its oxygen analogue 4a. The Br${\o}$nsted-type plots for the reactions of 4a and 4b are linear with ${\beta}_{nuc}=0.57$ and 0.37, respectively. The reactions of 4a were previously reported to proceed through a concerted mechanism, while those of 4b in this study have been concluded to proceed through a stepwise mechanism with formation of an intermediate being the rate-determining step on the basis of the ${\beta}_{nuc}$ value of 0.37. Enhanced polarizability upon changing the C=O in 4a by C=S has been suggested to be responsible for the reactivity order and the contrasting reaction mechanisms. In contrast, the reactivity of 5a and 5b is similar, but they are much less reactive than 4a and 4b. Furthermore, the reactions of 5a and 5b have been concluded to proceed through the same mechanism (i.e., a concerted mechanism) on the basis of linear Bronsted-type plots with ${\beta}_{nuc}=0.45$ or 0.47. It has been concluded that the strong steric hindrance exerted by the t-Bu in 5a and 5b causes a decrease in their reactivity and forces the reactions to proceed through a concerted mechanism.
The kinetics of hydrolysis of ${\alpha}$-nitrobenzaldehydephenylhydrazone derivatives (p-$NO_2$, m-$NO_2$, p-Cl, p-$CH_3$) have been investigated by UV spectrometry in 25% dioxane-water at $25^{\circ}C$ and a rate equation which can be applied over wide pH range was obtained. From the rate equation and the effect of solvent, substituent and pKa on the rate equation, the following reaction mechanisms were proposed. Below pH 3.0 the hydrolysis of ${\alpha}$-nitrobenzaldehydephenylhydrazone proceeds by $S_N1$ mechanism, while above pH 4.0 the hydrolysis proceeds through 1,3-dipole ion mechanism. In the range of pH from 3.0 to 4.0 these two reactions occur competitively.
The kinetics of hydrolysis of hydrazonyl bromides $(p-H,\;p-CH_3,\;p-OCH_3,\;p-Br,\;p-Cl\;&\;p-NO_2)$ have been investigated by UV spectrometry in $60{\%}$ dioxane-water at $25^{\circ}C$ and a rate equation which can be applied over wide pH range was obtained. Below pH2, the rate of hydrolysis of a series of hydrazonyl bromide is accelerated by electrondonating group (${\rho}$ = -0. 94) whereas at the pH values greater than 4, the ${\rho}$-value is 0.54. The rate equation, solvent-, substituent-and bromide ion-effect on the rate of hydrolysis are rationalized in terms of $S_N1$ and $S_N2$ mechanism: below pH 2, the hydrolysis proceed through $S_N2$, however, above pH 4, the hydrolysis is started by the attack of hydroxide ion and in the range pH 2{\sim}$4, these two reactions occur competitively.
The kinetic and mechanism of the hydrothermal reaction between lime and quartz used solid state reaction equations have been investigated. Hydrothermal reaction on the starting materials was carried out in an autoclave that quartz mixed with calcium hydroxide in CaO/$SiO_2$ ratio of 0.8-1.0 for 0.5-8 hour at saturated steam pressure of $180-200^{\circ}C$. The rate of reaction was given from the ratio of uncombined lime and quartz content to the total lime and quartz content. The rate of reaction was obtained the results by the Jander's equation $[1-(1-\alpha)^{1/3}]^N=Kt$. The reaction of lime is controlled mainly by the dissolution such as N=1, and the reaction of quartz is controlled mostly by the diffusion such as $N\risingdotseq2$. The rate of hydrothermal reaction in the calcium silicate hydrates system is suggested to be determined generally by the mass transfer through the product laver formed around the reactant particles. The rate equation for whole hydrothermal reaction is shown that it is converted into the rate determining step by the diffusion from the boundary reaction such as approximately $N=1-2$.
Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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2001.04a
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pp.355-357
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2001
HTTP/1.1 standard reduces latencies and overhead from closing and re-establishing connections by supporting persistent connections as a default, which encourage multiple transfers of objects over one connection. HTTP/1.1, however, does not define explicitly connection-closing time but specifies a certain fixed holding time model. This model may induce wasting server’s resource when server maintains connection with the idle-state client that requests no data for a certain time. This paper proposes the mechanism of a heuristic connection management supported by the client-side under persistent HTTP, in addition to HTTP/1.1’s fixed holding time model on server-side. The client exploits the tag information within transferred HTML page so that decides connection-closing time. As a result, the mechanism allows server to use server’s resource more efficiently without server’s efforts.
fThe kinetics and mechanism of the reactions of Y-O-aryl phenylphosphonochloridothioates with X-pyridines are investigated in acetonitrile at 35.0 ${^{\circ}C}$. The negative value of the cross-interaction constant, $\rho$XY = −0.46, indicates that the reaction proceeds by concerted $S_N2$ mechanism. The observed $k_H/k_D$ values involving d-5 pyridine ($C_5D_5N$) nucleophiles are greater than unity (1.05-1.11). The net primary deuterium kinetic isotope effects, $(k_H/k_D)_{net}$ = 1.28-1.35, excluding the increased $pK_a$ effect of d-5 pyridine are obtained. The transition state with a hydrogen bond between the leaving group Cl and the hydrogen (deuterium) atom in the C-H(D) is suggested for the studied reaction system.
Previous studies have demonstrated that Shewanella decolorationis S12 can grow on the azo compound amaranth as the sole electron acceptor. Thus, to explore the mechanism of energy generation in this metabolism, membranous vesicles (MVs) were prepared and the mechanism of energy generation was investigated. The membrane, which was fragmentized during preparation, automatically formed vesicles ranging from 37.5-112.5 nm in diameter under electron micrograph observation. Energy was conserved when coupling the azoreduction by the MVs of an azo compound or Fe(III) as the sole electron acceptor with $H_2$, formate, or lactate as the electron donor. The amaranth reduction by the vesicles was found to be inhibited by specific respiratory inhibitors, including $Cu^{2+}$ ions, dicumarol, stigmatellin, and metyrapone, indicating that the azoreduction was indeed a respiration reaction. This finding was further confirmed by the fact that the ATP synthesis was repressed by the ATPase inhibitor N,N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCCD). Therefore, this study offers solid evidence of a mechanism of microbial dissimilatory azoreduction on a subcell level.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.438-439
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2013
Microelectronic devices의 접촉저항의 향상을 위해 Metal silicides의 형성 mechanism과 전기적 특성에 대한 연구가 많이 이루어지고 있다. 지난 수십년에 걸쳐, Ti silicide, Co silicide, Ni silicide 등에 대한 개발이 이루어져 왔으나, 계속적인 저저항 접촉 소재에 대한 요구에 의해 최근에는 Rare earth silicide에 관한 연구가 시작되고 있다. Rare-earth silicide는 저온에서 silicides를 형성하고, n-type Si과 낮은 schottky barrier contact (~0.3 eV)를 이룬다. 또한, 비교적 낮은 resistivity와 hexagonal AlB2 crystal structure에 의해 Si과 좋은 lattice match를 가져 Si wafer에서 high quality silicide thin film을 성장시킬 수 있다. Rare earth silicides 중에서 ytterbium silicide는 가장 낮은 electric work function을 갖고 있어 낮은 schottky barrier 응용에서 쓰이고 있다. 이로 인해, n-channel schottky barrier MOSFETs의 source/drain으로써 주목받고 있다. 특히 ytterbium과 molybdenum co-deposition을 하여 증착할 경우 thin film 형성에 있어 안정적인 morphology를 나타낸다. 또한, ytterbium silicide와 마찬가지로 낮은 면저항과 electric work function을 갖는다. 그러나 ytterbium silicide에 molybdenum을 화합물로써 높은 농도로 포함할 경우 높은 schottky barrier를 형성하고 epitaxial growth를 방해하여 silicide film의 quality 저하를 야기할 수 있다. 본 연구에서는 ytterbium과 molybdenum의 co-deposition에 따른 silicide 형성과 전기적 특성 변화에 대한 자세한 분석을 TEM, 4-probe point 등의 다양한 분석 도구를 이용하여 진행하였다. Ytterbium과 molybdenum을 co-deposition하기 위하여 기판으로 $1{\sim}0{\Omega}{\cdot}cm$의 비저항을 갖는 low doped n-type Si (100) bulk wafer를 사용하였다. Native oxide layer를 제거하기 위해 1%의 hydrofluoric (HF) acid solution에 wafer를 세정하였다. 그리고 고진공에서 RF sputtering 법을 이용하여 Ytterbium과 molybdenum을 동시에 증착하였다. RE metal의 경우 oxygen과 높은 반응성을 가지므로 oxidation을 막기 위해 그 위에 capping layer로 100 nm 두께의 TiN을 증착하였다. 증착 후, 진공 분위기에서 rapid thermal anneal(RTA)을 이용하여 $300{\sim}700^{\circ}C$에서 각각 1분간 열처리하여 ytterbium silicides를 형성하였다. 전기적 특성 평가를 위한 sheet resistance 측정은 4-point probe를 사용하였고, Mo doped ytterbium silicide와 Si interface의 atomic scale의 미세 구조를 통한 Mo doped ytterbium silicide의 형성 mechanism 분석을 위하여 trasmission electron microscopy (JEM-2100F)를 이용하였다.
Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
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2000.11a
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pp.406-413
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2000
The friction and wear behaviors of Magnetron Sputtered MoS$_2$films were investigated by using a pin on disk type tester which was designed and manufactured for this experiment. The experiment was conducted by using silicon nitride (Si$_3$N$_4$) as a pin material and Magnetron Sputtered MoS$_2$on bearing steel (STB2) as a disk material, under operating conditions that include different surface roughness (Polishing specimen, Grinding specimen)(2types), linear sliding velocities in the range of 22, 44, 66mm/sec (3types), normal loads vary from 9.8N, 19.6N, 29.4N(3types), corresponding to contact pressures of 1.9∼2.7GPa and atmospheric conditions of high vacuum( 1.3${\times}$10$\^$-4/Pa), medium vacuum( 1.3${\times}$10$\^$-l/Pa), ambient air(10$\^$5/Pa)(3types). We investigated fracture mechanism in magnetron sputtered MoS$_2$films with Magnetron Sputtering method in each experiment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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