$N_2O$ gas pre-treatment 효과에 의한 PECVD 산화막 특성
(Characteristics of plasma-enhanced chemical vapor deposited $SiO_2$ using $N_2O$ gas pre-treatment)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 1998년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.36-36
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- 1998