Characteristics of plasma-enhanced chemical vapor deposited $SiO_2$ using $N_2O$ gas pre-treatment

$N_2O$ gas pre-treatment 효과에 의한 PECVD 산화막 특성

  • 최재식 (홍익대학교 금속재료공학과) ;
  • 한상용 (홍익대학교 금속재료공학과) ;
  • 김형준 (홍익대학교 금속재료공학과) ;
  • 남승의 (홍익대학교 금속재료공학과)
  • Published : 1998.11.01