Electrical & Electronic Materials (E2M - 전기 전자와 첨단 소재)
- Volume 8 Issue 1
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- Pages.90-94
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- 1995
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- 2982-6268(pISSN)
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- 2982-6306(eISSN)
Selective etch of silicon nitride, and silicon dioxide upon $O_2$ dilution of $CF_4$ plasmas
$CF_4$ 와 $O_2$ 혼합가스를 이용한 산화막과 질화막의 선택적 식각에 관한 연구
Abstract
Reactive Ion Etching(RIE) of Si
Keywords