A Study on Etching Characteristics of PZT thin films in $CF_4/Cl_2/Ar$ High Density Plasma
($CF_4/Cl_2/Ar$ 고밀도 플라즈마를 이용한 PZT 박막의 식각 특성에 관한 연구)
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- Proceedings of the KIEE Conference
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- 2001.07c
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- pp.1512-1514
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- 2001