${NH}_{3}$ 분위기에서 급속열처리에 의한 TiN/${TiSi}_{2}$ 이중구조막의 특성에 대한 고찰
(A Study on the Properties of TiN/${TiSi}_{2}$ Bilayer by a Rapid Thermal Anneal in ${NH}_{3}$ Ambient)
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- 대한전기학회논문지
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- 제41권8호
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- pp.869-874
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- 1992