Epitaxial $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$ (BSTO) thin films have been grown on TiN buffered Si (001) substrates by Pulsed Laser Deposition (PLD) method and the effects of substrate temperature and oxygen partial pressure during the deposition on their dielectric properties and crystallinity were investigated. The crystal orientation, epitaxy nature, and microstructure of oxide thin films were investigated using X-Ray Diffraction (XRD) and Transmission Electron Microscopy (TEM). Thin films were prepared with laser fluence of $4.2\;J/cm^2\;and\;3\;J/cm^2$, repetition rate of 8 Hz and 10 Hz, substrate temperatures of $700^{\circ}C$ and ranging from $350^{\circ}C\;to\;700^{\circ}C$ for TiN and oxide respectively. BSTO thin-films were grown on TiN-buffered Si substrates at various oxygen partial pressure ranging from $1{\times}10^{-4}$ torr to $1{\times}10^{-5}$ torr. The TiN buffer layer and BSTO thin films were grown with cube-on-cube epitaxial orientation relationship of $[110](001)_{BSTO}{\parallel}[110](001)_{TiN}{\parallel}[110](001)_{Si}$. The crystallinity of BSTO thin films was improved with increasing substrate temperature. C-axis lattice parameters of BSTO thin films, calculated from XRD ${\theta}-2{\theta}$ scans, decreased from 0.408 m to 0.404 nm and the dielectric constants of BSTO epitaxial thin films increased from 440 to 938 with increasing processing oxygen partial pressure.
Dielectric ceramics with nominal composition of $(Ba_{0.93}Sr_{0.07}O)-0.5Sm_2O_3-4.5TiO_2$ was prepared using the conventional mixed oxide process-derived powder. Effect of $SiO_2$, $MnO_2$ and $Al_2O_3$ impurity addition on the microwave properties was examined in some detail. Measured relative permittivity $(\varepsilon_r)$ values were in the range of 53 to 59 and showed little dependence on impurity addition. In contrast, quality factor $(Q{\cdot}f)$ and temperature coefficient of resonant frequency $(\tau_f)$ values were greatly influenced by the type and the amount of impurities. It was found that 0.1~0.2wt% addition of $Al_2O_3$ was most effective for improving the properties, where ${\varepsilon}_r$, $Q{\cdot}f$ and $\tau_f$ values were 57.7, 10000, and +7ppm/$^{\circ}C$, respectively.
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_{3}$thin films doped by Bi from 5 to 20 mol% on a Pt/Ti/$SiO_2$/Sisubstrate. The structural and dielectric properties of BST thin films were investigated as a function of Bi dopant concentration. The dielectric properties of the Bi doped BST films were strongly dependent on the Bi contents. The dielectric constant and dielectric loss of the films decreased with increasing Bi content. However, the leakage current density of the 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_{3}$ thin film showed the lowest value of 5.13$\times 10^{-7} A/{cm}^2$ at 5 V. The figure of merit (FOM) reached a maximum value of 32.42 at a 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_{3}$thin films. The dielectric constant, loss factor, and tunability of the 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}Tio_{3}$ thin films were 333, 0.0095, and 31.1%, respectively.
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films doped by Bi from 5 to 20 mol% on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate. The structural and dielectric properties of BST thin films were investigated as a function of Bi dopant concentration. The dielectric properties of the Bi doped BST films were strongly dependent on the Bi contents. The dielectric constant and dielectric loss of the films decreased with increasing Bi content. However, the leakage current density of the 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin film showed the lowest value of 5.13 10-7 at 5 V. The figure of merit (FOM) reached a maximum value of 32.42 at a 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films. The dielectric constant, loss factor, and tunability of the 10 mol% Bi doped $BBa_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films were 333,0.0095, and 31.1%, respectively.
본 논문에서는 RF Magnetron Sputtering 방법으로 Ba0.5Sr0.5TiO3 박막을 Pt/Ti/SiO2/Si 기판위에 증착하였다. Ar과 O2의 가스비는 90:10부터 50:50까지 O2의 함유비율을 10씩 증가시켰으며, 모든 조건에서 증착온도는 실온으로 설정하였다. Ba0.5Sr0.5TiO3 박막의 증착후 각 가스비에 따른 동일한 샘플에 대해 RTA(Rapid Thermal Anneal) 장비를 이용하여 $600^{\circ}C$에서 열처리는 하여 열처리 효과에 대한 특성도 조사하였다. 최종적으로 제작한 BST 커패시터는 Pt/BST/Pt 구조를 갖는 MIM(Metal-Insulator-Metal) 구조의 커패시터였으며 상.하부 전극은 전기적 특성이 우수한 Pt를 사용하였다. 제작된 BST 커패시터를 대해 유전 특성을 조사하기 위해 C-V 측정을 한 결과 산소 함유량이 증가함에 따라 유전율의 증가를 보여주었으며, 제작된 샘플 중 산소 함유량이 30인 샘플은 300이상의 우수한 유전율을 나타내었다. 또한 누설 전류특성에서는 모든 샘플에 대해 1.0V의 인가전압에서 1.0$\times$106A/cm2 이하의 누설 전류 밀도 값을 가져 전기적으로도 안정된 커패시터 구조임을 확인하였다. 또한 막의 증착상태와 미세구조관찰을 위해 SEM 측정을 하였고 구성성분 결정 구조를 알기 위해 XRD 측정도 시행하였다. 결과적으로 본 논문에서 제작된 커패시터 중 Sr/O의 비율이 70:30인 샘플이 가장 우수한 유전특성을 나타내었고, 이 샘플의 유전특성과 누설 전류 특성은 차세대 메모리인 1GigaByte급 DRAM에 적용 가능한 조건들을 만족시켰다.
In this paper, $Ba_{0.5}$Sr$_{0.5}$TiO$_3$ thin-films were prepared on Pt/Ti/Si0$_2$/Si substrates by RF magnetron sp-uttering method. We investigated electric and dielectric properties of BST thin-films with various ann-ealing temperature using in-sute RTA. Deposition conditions of BST films were set substrate temperat-ure, 30$0^{\circ}C$ and working gas ratio, Ar:O$_2$=90:10. After BST films deposited, we fabricated a capacitor of MIM structure with Al top electrode for measurement. Post-annealing using RTA performed at 40$0^{\circ}C$, $600^{\circ}C$, 80$0^{\circ}C$ for 60 sec, respectively. Also we exacted crystallization and composition of BST thin-films by XRD analysis. In measurement result, this capacitors showed a dielectric constant of about 200 at 1MHz and leakage current density of 5$\times$10$^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$ at 1.5V Microstructure of BST thin-films exhibited effective quality in low-temperature annealed 71ms than high-temperature annealed 71ms.s.s.
M-type Ba 페리이트를 Ba 대신 Sr으로 치환시킨 페라이트 분말과 Fe대신 Co-Ti으로 치환시킨 육방 페라이트 분말을 각각 citrate sol-gel법과 2 MOE sol-gel법으로 합성하였다. 이들 분말들을 소결 처리 후 수소 분위기 하에서 온도를 변화시키면서 환원처리 하였다. X-선 회절을 이용한 결정구조 해석에서 105$0^{\circ}C$에서 소결 처리된 분말의 경우 단일상의 M-type 육방정 구조로 나타났다. X-선 회절실험 결과 Sr0.5Ba0.5Fe12O19과 다르게, Co-Ti 치환형 페라이트인 Sr0.7Ba0.3Fe10CoTiO19에서는 Co-Ti 치환이 환원과정을 저지시키는 효과가 있는 것으로 나타났다. 육방 페라이트에서 수소환원에 의한 포화자화 Ms값의 증가 원인을 알아보기 위하여 Mossbauer 분광실험을 실시하였다. Mossbauer 실험결과는 대부분의 $\alpha$-Fe가 4fvi자리와 12k자리로부터 발생되는 것으로 나타났으며, 이 $\alpha$-Fe 형성에 의한 Fe3+이온의 결함이 자기 상호작용의 붕괴를 가져와서, 자기이방성의 변화를 초래하고 또한 Ms값의 증가를 가져오는 것으로 추측된다.
$(Ba_{0.6}Sr_{0.4}Ca_{x})TiO_{3}+yZrO_{2}$ wt% (x=0.10, 0.15, 0.20, y=0.5~3.0) specimens were fabricated by the mixed-oxide method and then the structural and dielectric properties as a function of the composition ratio and $ZrO_2$ contents were studied. All BSCT specimens showed dense and homogeneous structure without the presence of the seconds phase. The Curie temperature and the dielectric constant at room temperature decreased with increasing the Ca/Ba composition ratio and $ZrO_2$ content. The BSCT(50/40/10) specimens showed the excellent tunability property. And the tunability were increased with increasing the contents of $ZrO_2$.
$NiO{\cdot}(Co_{0.25}Mn_{0.75})_2O_3$(Mn-Ni-Co) and $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$(BST) thick films were screen printed on Pt patterned alumina substrate to investigate the effects of sintering temperature on humidity and temperature sensing properties of ceramic sensors. A raise in sintering temperature increased resistance and B constant of the Mn-Ni-Co temperature sensor. This may have derived from the synergic effects of the reduction in charge carriers caused by the substitution of Co for Mn as well as the formation of microcracks from the difference in thermal expansion coefficients. Dependence of resistance on humidity of the Mn-Ni-Co temperature sensor, however, was not found. BST films sintered at temperatures in the range of $1100^{\circ}C$ to $1150^{\circ}C$ showed excellent humidity sensing properties. The BST humidity sensor was faster in its response than the Mn-Ni-Co temperature sensor. The humidity sensor, however, proved to be unstable under various temperatures, suggesting a need for a temperature stabilizing device. In contrast, the Mn-Ni-Co temperature sensor was stable under humid conditions.
Using the $(Ba_{0.5}Sr_{0.5}){TiO_3}$(BST) powders prepared by the Sol-Gel method, the EST thick films were fabricated on the ${Al_2}{O_3}$ substrates coated with Pt by the screen printing method. Compared with pure EST thick films, the structural and dielectric properties of the EST thick films doped with 1${\sim}$10 wt % MgO were investigated. It was observed that the Mg substitution into EST causes a shift in the cubic-tetragonal EST phase transition peak to a lower temperature. The microstructure of the EST substituted with Mg was homogeneous and dense. Mg substitution into EST had a significant effect on the grain size reduction. Dielectric constant was decreased with increasing the MgO content and temperature. In the case of EST thick films doped with 1 wt% MgO, the relative permittivity and dielectric loss were 158] and 1.4 % at 1 MHz.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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