$V_{2}O_{5}$ was tested as a p-dopant for lower operating voltage and higher stability of OLEDs. Low voltage and high stability were achieved using this doping layer. It can be separated to bulk and interface contributions and the latter is a more dominant factor both of operation voltage and stability.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2015.08a
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pp.111.2-111.2
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2015
Typical electrodes (metal or indium tin oxide (ITO)), which were used in conventional organic light emitting devices (OLEDs) structure, have transparency and conductivity, but, it is not suitable as the electrode of the flexible OLEDs (f-OLEDs) due to its brittle property. Although Graphene is the most well-known alternative material for conventional electrode because of present electrode properties as well as flexibility, its carrier injection barrier is comparatively high to use as electrode. In this work, we performed plasma treatment on the graphene surface and alkali metal doping in the organic materials to study for its possibility as anode and cathode, respectively. By using Ultraviolet Photoemission Spectroscopy (UPS), we investigated the interfaces of modified graphene. The plasma treatment is generated by various gas types such as O2 and Ar, to increase the work function of the graphene film. Also, for co-deposition of organic film to do alkali metal doping, we used three different organic materials which are BMPYPB (1,3-Bis(3,5-di-pyrid-3-yl-phenyl)benzene), TMPYPB (1,3,5-Tri[(3-pyridyl)-phen-3-yl]benzene), and 3TPYMB (Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane)). They are well known for ETL materials in OLEDs. From these results, we found that graphene work function can be tuned to overcome the weakness of graphene induced carrier injection barrier, when the interface was treated with plasma (alkali metal) through the value of hole (electron) injection barrier is reduced about 1 eV.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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v.30A
no.12
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pp.51-59
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1993
A 4${\times}10^{19}cm^{3}$ carbon-doped base AlGaAs/GaAs HBY was grown using carbontetracholoride(CCl$_4$) by atmospheric pressure MOCVD. Abruptness of emitter-base junction was characterized by SIMS(secondary ion mass spectorscopy) and the doping concentration of base layer was confirmed by DXRD(double crystal X-ray diffractometry). Mesa-type HBTs were fabricated using wet etching and lift-off technique. The base sheet resistance of R$_{sheet}$=550${\Omega}$/square was measured using TLM(transmission line model) method. The fabricated transistor achieved a collector-base junction breakdown voltage of BV$_{CBO}$=25V and a critical collector current density of J$_{O}$=40kA/cm$^2$ at V$_{CE}$=2V. The 50$\times$100$\mu$$^2$ emitter transistor showed a common emitter DC current gain of h$_{FE}$=30 at a collector current density of JS1CT=5kA/cm$^2$ and a base current ideality factor of ηS1EBT=1.4. The high frequency characterization of 5$\times$50$\mu$m$^2$ emitter transistor was carried out by on-wafer S-parameter measurement at 0.1~18.1GHz. Current gain cutoff frequency of f$_{T}$=27GHz and maximum oscillation frequency of f$_{max}$=16GHz were obtained from the measured Sparameter and device parameters of small-signal lumped-element equivalent network were extracted using Libra software. The fabricated HBT was proved to be useful to high speed and power spplications.
Perovskite lanthanum doped lead titanate ($(Pb,La)TiO_{3}$ or PLT) thin films were successfully fabricated on Pt/TijSiO.iSi substrates at the temperatures as low as $440~500^{\circ}C$ by eleclron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition (ECR PECVII). Since the volatilities of the MC sources arid oxide molecules (especially Ph oxide) increased with increasing deposition temperature, the film deposition rate and the (I'b + La)/'Ti ratio decreased Stoichiometric perovskite PL'T films with good dielectric and leakeage current properties were obtained at the temperatures of $460~480^{\circ}C$. The lanthanum content of the film was nearly directly propotional to $La(DPM)_{3}$ flow rate. As the La/Ti ratio increased from 3.0 to 9.5%, the dielectric constant increased from 360 to 650 and the leakeage current density at 100kV/cm electric field decreased from $4{\times}10^{-5}$ to $4{\times}10_{-8}A/cm^2$.
Vanadium pentoxide ($V_2O_5$) powder was prepared and mixed with Molybdenum Oxides ($MoM_3$) to form Mo-doped and -undoped $VO_2$ films by a sol-gel method on graphite conductive substrates. X-Ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM) was used to investigate the chemical compositions and microstructures of the Mo-doped and -undoped $VO_2$ films. The variation of electrical resistance was measured as a function of temperature and stoichiometric composition between vanadium and molybdenum. In this study, it was found that Mo-doped and -undoped $VO_2$ shows the typical negative temperature coefficient (NTC) behavior. As the amount of the molybdenum increases, the electrical resistance of Modoped $VO_2$ film gets reduced under the transition temperature and a linear decrease in the transition temperature is observed. From these experimental results, we can conclude that the electrical resistance behavior with temperature change of $VO_2$ films can be utilized as a self-heating source with the electrical current flowing through the graphite substrate.
Hydrogen ($H_2$) treatment using a two-step $TiO_2$ nanotube (TONT) film was performed under various annealing temperatures from $350^{\circ}C$ to $550^{\circ}C$ and significantly influenced the extent of hydrogen treatment in the film. Compared with pure TONT films, the hydrogen-treated TONT (H:TONT) film showed substantial improvement of material features from structural, optical and electronic aspects. In particular, the extent of enhancement was remarkable with increasing annealing temperature. Light absorption by the H:TONT film extended toward the visible region, which was attributable to the formation of sub-band-gap states between the conduction and valence bands, resulting from oxygen vacancies due to the $H_2$ treatment. This increased donor concentration about 1.5 times higher and improved electrical conductivity of the TONT films. Based on these analyses and results, photoelectrochemical (PEC) performance was evaluated and showed that the H:TONT film prepared at $550^{\circ}C$ exhibited optimal PEC performance. Approximately twice higher photocurrent density of 0.967 $mA/cm^2$ at 0.32 V vs. NHE was achieved for the H:TONT film ($550^{\circ}C$) versus 0.43 $mA/cm^2$ for the pure TONT film. Moreover, the solar-to-hydrogen efficiency (STH, ${\eta}$) of the H:TONT film was 0.95%, whereas a 0.52% STH efficiency was acquired for the TONT film. These results demonstrate that hydrogen treatment of TONT film is a simple and effective tool to enhance PEC performance with modifying the properties of the original material.
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing-Green Technology
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v.5
no.5
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pp.643-650
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2018
A self-powered electrochromic device was fabricated on an indium tin oxide-polyethylene naphthalate flexible substrate using a dye-sensitized solar cell (DSSC) as a self-harvesting source; the electrochromic device was naturally bleached and operated under outdoor light conditions. The color of the organic electrochromic polymer, poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate, was shifted from pale blue to deep blue with an antimony tin oxide film as a charge-balanced material. Electrochromic performance was enhanced by secondary doping using dimethyl sulfoxide. As a result, the device showed stable switching behavior with a high transmittance change difference of 40% at its specific wavelength of 630 nm for 6 hrs. To improve the efficiency of the solar cell, 1.0 wt.% of Ag NWs in the photoanode was applied to the $TiO_2$ photoanode. It resulted in an efficiency of 3.3%, leading to an operating voltage of 0.7 V under xenon lamp conditions. As a result, we built a standalone self-harvesting electrochromic system with the performance of transmittance switching of 29% at 630 nm, by connecting with two solar cells in a device. Thus, a self-harvesting and flexible device was fabricated to operate automatically under the irradiated/dark conditions.
The deep level electron traps in AP-MOCVD GaAs/undoped Al\ulcornerGa\ulcornerAs/n-type GaAs heterostructures have been investigated by means of Deep Level Transient Spectroscopy DLTS). In terms of the experimental procedure, GaAs/undoped Al\ulcornerGa\ulcornerAs/n-type GaAs heterostructures were deposited on 2" undoped semi-insulating GaAs wafers by the AP-MOCVD method at $650^{\circ}C$ with TMGa, AsH3, TMAl, and SiH4 gases. The n-type GaAs conduction layers were doped with Si to the target concentration of about 2$\times$10\ulcornercm\ulcorner. The Al content was targeted to x=0.5 and the thicknesses of Al\ulcornerGa\ulcornerAs layers were targeted from 0 to 40 nm. In order to investigate the electrical characteristics, an array of Schottky diodes was built on the heterostructures by the lift-off process and Al thermal evaporation. Among the key results of this experiment, the deep level electron traps at 0.742~0.777 eV and 0.359~0.680 eV were observed in the heterostructures; however, only a 0.787 eV level was detected in n-type GaAs samples without the Al\ulcornerGa\ulcornerAs overlayer. It may be concluded that the 0.787 eV level is an EL2 level and that the 0.742~0.777 eV levels are related to EL2 and residual oxygen impurities which are usually found in MOCVD GaAs and Al\ulcornerGa\ulcornerAs materials grown at $630~660^{\circ}C$. The 0.359~0.680 eV levels may be due to the defects related with the al-O complex and residual Si impurities which are also usually known to exist in the MOCVD materials. Particularly, as the Si doping concentration in the n-type GaAs layer increased, the electron trap concentrations in the heterostructure materials and the magnitude of the C-V hysteresis in the Schottky diodes also increased, indicating that all are intimately related.ated.
Layered $Li_{1+x}(Mn_{0.4}Ni_{0.4}Fe_{0.2})_{1-x}O_2$ (0 < x < 0.3) solid solutions were synthesized using solgel method with adipic acid as chelating agent. Structural and electrochemical properties of the prepared powders were examined by means of X-ray diffraction, Scanning electron microscopy and galvanostatic charge/discharge cycling. All powders had a phase-pure layered structure with $R\bar{3}m$ space group. The morphological studies confirmed that the size of the particles increased at higher x content. The charge-discharge profiles of the solid solution against lithium using 1 M $LiPF_6$ in EC/DMC as electrolyte revealed that the discharge capacity increases with increasing lithium content at the 3a sites. Among the cells, $Li_{1.2}(Mn_{0.32}Ni_{0.32}Fe_{0.16})O_2$ (x = 0.2)/$Li^+$ exhibits a good electrochemical property with maximum initial capacity of 160 $mAhg^{-1}$ between 2-4.5 V at 0.1 $mAcm^{-2}$ current density and the capacity retention after 25 cycles was 92%. Whereas, the cell fabricated with x = 0.3 sample showed continuous capacity fading due to the formation of spinel like structure during the subsequent cycling. The preparation of solid solutions based on $LiNiO_2-LiFeO_2-Li_2MnO_3$ has improved the properties of its end members.
Lithium cobalt oxide (LiCoO2, LCO) has been widely used as a cathode material for Li-ion batteries (LIBs) owing to its excellent electrochemical performance and highly reproducible synthesis even with mass production. To improve the energy density of the LIBs for their deployment in electro-mobility, the full capacity and voltage of the cathode materials need to exploited, especially by operating them at a higher voltage. Herein, we doped LCO with divalent calcium-ion (Ca2+) to stabilize its layered structure during the batteries' operation. The Ca-doped LCO was synthesized by two different routes, namely solid-state and co-precipitation methods, which led to different average particle sizes and levels of dopant's homogeneity. Of these two, the solid-state synthesis resulted in smaller particles with a better homogeneity of the dopant, which led to better electrochemical performance, specifically when operated at a high voltage of 4.5 V. Electrochemical simulations based on a single particle model provided theoretical corroboration for the positive effects of the reduced particle size on the higher rate capability.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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