한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology)

Dry Etcher 기술개발 동향과 발전

문주태 3

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Oxide Etcher

신태호 5

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차세대 Poly Etcher 장비에 요구되는 요소 기술의 이해

손종원 15

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ADP Dry Etcher 장비개발의 현황

김정태 23

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- High Density Plasma Source-CCP-Dual/Triple, RF Frequency Control - Radical/Flux Analysis - Low Pressure Process - Chamber Design (Process gap/Wall gap) - Chamber Temp. Control. - ESC Dielectric Materials - Uniform Gas Injection
APTC 식각장비 개발현황과 기술적 한계 극복방안

김승기 31

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한국 미래산업 정책 방향

차동형 39

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Plasma Characteristics for Semiconductor Processing

장홍영 41

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A Novel device to extend uniform areas of an electron plasma oscillation

황창수;김종욱;김민석;이인환;이영심;박용헌;김홍배 43

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