Abstract
This paper presents a new structure of phase looked loop (PLL) for replacing a process sensitive resistor in loop filter with an additional charge pump (CP). The additional charge pump works as a resistor in a loop filter. The output of two charge pumps changes same direction according to process variation. The simulation results according to process conditions(SS/TT/FF) demonstrate that the proposed PLL works properly with process variations. It has been designed with a 1.8V $0.18{\mu}m$ CMOS process and proved by simulation with HSPICE.
이 논문은 전하펌프를 추가하여 루프필터에서 공정에 따라 값이 크게 변하는 저항을 없앤 새로운 구조의 위상고정루프를 보여준다. 두 번째 전하펌프가 기존의 루프 필터 저항 역할을 하도록 하였다. 두 개의 전하펌프 출력은 공정 변화에 같은 방향으로 움직이므로 위상고정루프의 동작이 공정 변화 영향을 적게 받게 된다. 공정 조건(SS/TT/FF)에 따른 시뮬레이션 결과는 제안된 구조가 공정 변화에 무관하게 동작함을 보여주고 있다. 제안된 구조는 1.8V $0.18{\mu}m$ CMOS 공정의 파라미터를 이용하여 HSPICE로 시뮬레이션을 수행하였고 회로의 동작을 검증하였다.