Deposition characteristic with controlling of gas flow in ALD process

기체유동 제어를 통한 ALD 공정의 deposition 특성 연구

  • 서은성 (삼성전자공과대학교 반도체공학과) ;
  • 오정환 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 이공수 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 이광영 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 안병호 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 최경식 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 김승범 (삼성전자 공정개발팀) ;
  • 하상철 (삼성전자 공정개발팀)
  • Published : 2010.05.26