한국정밀공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference)

한국정밀공학회 2010년도 춘계학술대회 논문집
/
Pages.529-530
/
2010
/
2005-8446(pISSN)

한국정밀공학회 (Korean Society for Precision Engineering)

권호 표지

Nano scale DRAM device 를 위한 New W-Gate Stack 연구

A study of New W-Gate Stack for Nano scale DRAM device

김명곤 (삼성전자 공과대학교) ;
이공수 (삼성전자 공과대학교) ;
차태호 (삼성전자 공정개발팀) ;
김희석 (삼성전자 공정개발팀) ;
문주태 (삼성전자 공정개발팀)

발행 : 2010.05.26

PDF

PDF 다운로드

⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드