Material removal characteristics of dynamic TIF for rotating pitch tool polishing

회전형 피치 툴 연마 가공용 확장형 툴 영향 함수의 광학 물질제거 특성

  • 이현수 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ;
  • 김석환 (연세대학교 천문우주학과 우주광학연구실) ;
  • 양호순 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ;
  • 이재협 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ;
  • 이인원 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ;
  • 이윤우 (한국표준과학연구원 우주광학연구단)
  • Published : 2007.07.01