한국정밀공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference)
- 한국정밀공학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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- Pages.672-675
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- 2005
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- 2005-8446(pISSN)
Elementwise Patterned Stamp와 부가압력을 이용한 UV 나노임프린트 리소그래피
UV Nanoimprint Lithography using an Elementwise Patterned Stamp and Pressurized Air
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손현기
(한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부) ;
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정준호
(한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부) ;
- 심영석 (한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부) ;
- 김기돈 (한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부) ;
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이응숙
(한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부)
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Sohn H.
(Intelligent Precision Machine Division, KIMM) ;
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Jeong J.H.
(Intelligent Precision Machine Division, KIMM) ;
- Sim Y.S. (Intelligent Precision Machine Division, KIMM) ;
- Kim K.D. (Intelligent Precision Machine Division, KIMM) ;
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Lee E.S.
(Intelligent Precision Machine Division, KIMM)
- 발행 : 2005.06.01
초록
To imprint 70-nm wide line-patterns, we used a newly developed ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL) process in which an elementwise patterned stamp (EPS), a large-area stamp, and pressurized air are used to imprint a wafer in a single step. For a single-step UV-NIL of a 4' wafer, we fabricated two identical
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