Improvement of PECVD $SiO_2$ thin films by using argon sputtering method

아르곤 스퍼터링 방법을 이용한 PECVD 실리콘 산화막의 특성 향상

  • 박민 (한국전자통신연구소 단위공정연구실) ;
  • 박종문 (한국전자통신연구소 단위공정연구실) ;
  • 현영철 (한국전자통신연구소 단위공정연구실) ;
  • 구진근 (한국전자통신연구소 단위공정연구실)
  • Published : 1995.11.01