Study on 40 nm Electron Beam Patterning by Optimization of Digitizing Method and Post Exposure Bake (전자선 석판 기술에서 디지타이징과 노광후굽기 최적화를 통한 40 nm 급 패턴 제작에 관한 연구)
-
- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
- /
- v.36D no.10
- /
- pp.23-30
- /
- 1999