• 한국추진공학회:학술대회논문집
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• 한국추진공학회 2007년도 제29회 추계학술대회논문집
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• pp.31-34
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• 2007

본 연구는 고온의 연소 가스를 이용하여 고공 환경 모사용 초음속 디퓨저의 성능을 파악하는 것이다. 실험 장치는 크게 액체로켓 연소실, 진공 챔버, 냉각수 링 및 디퓨저로 구성되어 있다. 먼저 연소실험 전에 고압의 질소가스(30barg)와 진공 펌프를 이용하여 액체로켓 엔진과 디퓨저의 기밀시험을 수행 하였다. 제작된 디퓨저를 포함한 시험 리그의 기밀테스트 결과， 고압 조건 및 진공압 조건에서 모두 누설이 없이 양호하였다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제13권4호
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• pp.1511-1517
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• 2012

진공유리 배기공정을 위해 진공챔버나 진공튜브를 이용하는데 챔버 혹은 튜브 내부 전체를 진공으로 만들기 위한 시간과 경비가 과도하게 요구된다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 상압에서 진공배기 및 초음파 접합이 동시에 가능한 복합기를 개발하고자 하였는데, 이 경우 진동자인 피에조 온도가 과도하게 상승하여 복합기의 냉각을 최적화할 필요성이 대두되었다. 따라서, 본 연구에서는 수치해석 및 실험을 통해 자연대류 및 강제대류 냉각방식의 효과를 규명하였고 이를 통해 진공 배기 및 초음파 접합 복합기의 냉각 성능을 최적화하였다.

• 한국진공학회지
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• 제9권1호
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• pp.7-15
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• 2000

An ECR-PECVD system with the characteristics of high ionization rat다 ability of plasma processing in a wide pressure range and deposition at low temperature was manufactured and characterized for the deposition of thin films. The system consists of a vacuum chamber, sample stage, vacuum gauge, vacuum pump, gas injection part, vacuum sealing valve, ECR source and a control part. The control of system is carried out by the microprocessor and the ROM program. We have investigated the vacuum characteristics of ECR-PECVD system, and also have diagnosed the characteristics of ECR microwave plasma by using the Langmuir probe. From the data of system and plasma characterization, we could confirmed the stability of pressure in the vacuum chamber according to the variation of gas flow rate and the effect of ion bombardment by the negative DC self bias voltage. The plasma density was increased with the increase of gas flow rate and ECR power. On the other hand, it was decreased with the increase of horizontal radius and distance between ECR source and probe. The calculated plasma densities were in the range of 49.7\times10^{11}\sim3.7\times10^{12}\textrm{cm}^{-3}$. It is also expected that we can estimate the thickness uniformity of film fabricated by the ECR-PECVD system from the distribution of the plasma density.

• 한국추진공학회:학술대회논문집
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• 한국추진공학회 2009년도 제33회 추계학술대회논문집
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• pp.125-129
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• 2009

본 논문에서는 대형 우주 발사체에 적용 가능한 추력 75톤급 액체로켓엔진 연소기의 기본설계에 대해 기술하였다. 이 연소기는 진공추력 74.8 ton, 진공비추력 306.9 sec, 연소실 압력 60 bar, 추진제 유량 243.6 kg/s, 연소특성속도 1730 m/sec을 갖는다. 연소기의 성능에 미치는 연소특성속도, 추력계수 그리고 비추력에 대해 알아보았고, 연소기의 기하학적인 형상에 대해서도 기술하였다. 75톤급 액체로켓 엔진 연소기는 분사기를 장착한 연소기 헤드, 재생냉각 채널을 가지고 있는 연소실로 구성되어 있다.

• 한국진공학회지
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• 제2권4호
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• pp.410-415
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• 1993

The direct growth OMVPE system, designed specificallyfor direct growth of Hg1-xCdxTe using annular rectant inlet inverted verticla (ARIIV) reactor, was constructed. This paper presents the detailed technical approach on a newly designed ARIIV reactor that increases Hg incorporation, imposes uniformity, and avoids the needs for temperature processing to create alloys by inter diffusion approach.

• 대한전자공학회논문지
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• 제26권11호
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• pp.1658-1665
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• 1989

Reactor design considerations over several critical parameters for a planar type reactive ion etcher are given. The etch uniformity is taken as a principal design constraint. The characteristics of economicaly available vacuum pumping system are taken as practical design constraints. A set of theoretical conditions on the chamber geometry and on the gas delivery and vacuum system, that satisfy the design constraints, are derived from basic properties of RF glow discharge and gas dynamics. The theoretical results are applied to decide design parameters of a practical single-wafer-per-chamber planar type reactive ion etching machine.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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• pp.325-325
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• 2010

The beam position monitor (BPM) in the storage ring measures the position of electron beam with pickup electrodes which are coupled in capacitive way to the electron beam. However, some of the BPM in the PLS storage ring suffer the vertical noise signal at the operation frequency of about 500 MHz, so the pick-up frequency of these BPM is change to 375 MHz. In this study, it is experimentally proved in the PLS beam chamber that the BPM noise is caused by the TE mode excited in the beam chamber.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1996년도 제11회 학술발표회 논문개요집
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• pp.68-68
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• 1996

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1992년도 제3회 학술발표회 논문개요집
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• pp.113-114
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• 1992

• 대한기계학회논문집B
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• 제28권11호
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• pp.1359-1367
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• 2004

The demand of vacuum pump has been increased in the process of semi-conduct manufacturing, as a core component. The response of the system for vacuum pump performance test can be utilized to assess the system and to obtain the reliability of the apparatus for the test. The system consists of gas supply tank, pressure chamber, measurement chamber and transmission line. Transient analysis for compressible fluid has been conducted to evaluate the dynamic characteristic of the volume terminated transmission line. Numerical approach based on the method of characteristics is used for the analysis. The response is evaluated with the important parameters for the system: i.e., length and diameter of the line, volume of the terminal tank. Using the numerical results, pumping speeds are calculated and then compared to the experimental results.