A compact discharge plasma system with a photocatalyst has been proposed and investigated experimentally for application to air conditioners. It was found that there was intense ultra violet radiation with high energy of 3.2 eV from the corona discharge due to the DC-biased pulse voltage applied on a wire. An electrophotochemical reaction took place apparently on the surfaces of the photocatalyst of $TiO_2$ irradiated ultra violet front the discharge plasma in the proposed plasma system. The proposed discharge plasma system with the photocatalyst of $TiO_2$ showed very high removal efficiency of VOCs by tile additional electrophotochemical reactions on the photocatalyst. The proposed discharge plasma system also showed very high removal efficiency of particles such as smokes, suspended bacteria, and pollen and mite allergens by the electrostatic precipitation part. This type of corona discharge plasma system with a photocatalyst can be used as an effective means of removing both indoor pollutant gases and particles including suspended allergens.
An absolute absorption cross section of benzene was measured with a spectrometer system including a mono-chrometer and a grating in the wavelength region of $240{\sim}280nm$ under the atmospheric pressure and room temperature in the laboratory. A certificated reference benzene gas ($98{\mu}mol/mol$ in $N_2$) was used to measure its absorption cross section. A 710 mm cell with a quartz window and a 150 W Xe arc lamp were employed. The magnitude of absorption cross section of $1.41{\times}10^{-18}cm^2$ was lower than that of the reference spectra ($2.5{\times}10^{-18}cm^2$) of high resolution spectrometer, Total measurement uncertainty was estimated to be 4.0%.
본 논문은 극자외선 리소그래피용 마스크의 결함을 극자외선을 이용하여 검출하는 방법과 기존의 가시광선을 이용하여 결함을 검출해 내는 시스템과 비교하고, 인위적으로 만들어진 결함을 이용하여 극자외선이 결함에 조사되었을 때의 반사되는 패턴을 분석하였다. 포커스된 극자외선을 래스터 스캔 방식으로 조사하면서 반사되는 극자외선의 세기를 비교함으로서 결함을 발견해 내는 시스템을 구축하였고, 이를 이용하여 기존의 가시광선을 이용하는 결함 검출 장비와 상관 실험을 진행하여 반사된 빛의 세기로 예측한 결함의 크기가 두 검출 방법 사이에 강한 상관관계를 가짐을 확인하였다. 또한, 인광판을 이용하여 극자외선이 결함에 조사되어 반사되는 패턴을 영상화하여 크기별, 결함의 종류별로 다른 프린지 패턴을 가지는 것을 확인하였다.
Interest in application of ultraviolet light technology for primary disinfection that used for the treatment of water for consumption and wastewater has increased significantly in recent years. Analysis of these systems has been carried out using Computational Fluid Dynamics (CFD) procedure. It offers advantages over other techniques in specific circumstances. CFD has emerged as a powerful tool to aid design of a UV reactor by providing the UV dose delivered by the proposed reactor design and allowing engineers to evaluate alternative designs in much less time and at a reasonable cost. In this study, five different configurations of the apparatus depending on the location of the exit are evaluated in terms of maximum dose, minimum dose, flow patterns, particle tracks and transient dose. The configuration 3 results have higher minimum UV dose value and uniform particle distribution of the UV dose on the outlet than other's.
본 연구에서는 EUVL(Extreme Ultra-Violet Lithography) 공정에서 사용되어지는 Mo/Si 다층박막 마스크 물질의 최적화된 제조공정을 도모하기 위해 Monte Carlo법을 적용한 PVD 공정 시뮬레이터를 사용하여 Mo/Si 다층박막 증착변수에 따른 박막의 형상변화를 분석하였다. 박막의 형상은 가스압력(1∼30 mTorr), 타겟과 기판과의 거리 (1∼30 cm) 및 확산거리(1∼10 nm)에 따라 크게 변함을 알 수 있었으며 가스압력이 낮을수록, 기판과 타겟과의 거리가 멀어질수록 균일한 표면의 박막 형성이 가능할 것으로 예측되었다.
본 연구에서는 공항 포장용 유지보수 재료로 사용되는 폴리머 콘크리트의 자외선 노출에 대한 기계적 물성 변화를 확인하기 위해 자외선 노출 전/후 시편의 압축강도 및 연성인자의 변화를 평가하였다. 현재 공항 포장용으로 사용되는 폴리머 콘크리트의 비율과 선행연구를 통해 얻은 최적 배합비율을 참고하여 시편을 제작하였다. 자외선 발생 램프의 출력을 고려하여 자연상태에서 노출되는 등가시간을 계산한 후 최대 3년에 해당하는 시간만큼의 등가시간 동안 시편을 노출시켰다. 실험결과, 자외선 노출 자체는 재료물성에 거의 영향을 주지 않았으며, 자외선 노출에 따른 온도상승에 의한 재료물성 변화가 주로 관찰되었다. 자외선에 의해 발생된 열에 노출된 후 모든 시편에서 인성은 감소하고, 압축강도는 증가하는 경향을 나타내었다.
In this paper, we developed the proximity exposure system with the vertical structure of glass and mask stage to minimize the mask's warp caused by the pull of gravity. This system, which canirradiate the ultra violet through 1440 H 850 $\textrm{mm}^2$ and 1330X 1015 $\textrm{mm}^2$ exposure area, has the followingcharacteristics. The glass stage can be inclined by 80 degrees at vertical structure to load substrate withsafety on it. When the glass stage is the vertical state, the gap control, alignment control and exposureof ultra violet are executed. So, it enhances the pattern uniformity by minimizing the mask's warp. Theglass stage can also control the gap between the mask and the substrate by the coarse and fine motioncontrol. The mask stage can adjust the posture of photomask to the position of substrate by imageprecessing method. The galss stage for the gap control and the mask stage for the alignment aredesigned independently for each function.
Attempts to isolate the naturally occurring ultra-violet resistant bacteria from environmental sources were made. The isolates, designated No.29, 100, and 107, among numbers of bacterial isolates revealed a remarkable resistance to UV ray, whose degree of resistance in dose/response kinetics was comparable to that of an endospore-former, Bacillus subtilis. In a range of 100-300 $Jm^{-2}$/min of UV irradiation, the isolates exhibited 500-1000 fold resistance compated with E. coli. The isolated appeared to possiss cell-bound pigment of organge or crimson-red. The isolate 29 is spherical in pairs or tetrads, whereas the isolates 100 and 107 are rod. All are Gram-gositive bacteria and seemed to be non-endospore-bearer. A number of biochemical studies pursued on the isolates suggested that they are quite different to each other. Electron microscopic examination and the physiological characters of the isolate 29 suggested that this UV resistant spherical bacterium might be one species of Deinococcus, probably Deinococus radiophilus. Since there is no documents on UV resistant, Gram-positive, non-sporeformer bacillus so far, the isolates 100 and 107 might be turned out as new kinds of UV resistant bacteria occurring in nature by further investigation.
Recently, ultrasound, infrared detector, V-I characteristic, gas analysis, UV (ultra-violet rays) camera etc. is used as inspections and diagnoses of the safety of power equipment. Especially, UV camera have attracted a great deal of interest from the view point of easy judgement. UV camera is used corona discharge. One of the most important and difficult problems to be solved filer design, materials and corona discharge. This paper is studied on the temperature characteristics, UV generation and shape analysis and corona pulse count according to the electrode distance and applied voltage. Also, Corona discharge characteristics in air are analyzed using prototype UV camera of Korea. UV generation due to surface discharge of AC is higher than that of DC.
본 실험은 Corynebacterium속 식물병원세균에 관한 연구의 일환으로서 Corynebacterium속 식물병원세균의 종 및 속으로서의 특성을 구명함과 동시에 C. sepedonicum이 생성하는 Rumiflabin에 기초를 둔 ultraviolet method의 재검토를 위하여 행하여 진 것으로 vitamin B군의 정량은 미생물 정량에 의하였다. 대다수의 식물병원세균은 Thiamine (vitamin $B_1$), Nicotinic acid, Biotin 및 안식향산을 생장물질로서 사용하였다. Riboflavin은 corynebacterium속 식물 병원세균 (C. rathay 및 C. fascians는 제외)은 물론 타속의 식문병원세균도 생성하는 점으로 Corynebacterium속 식물병원 세균의 특성이 아니라는 점이 구명되었으며 sepedonicum에 의하여 발생되는 감자의 윤부병과 청고병과의 감별에 사용되어온 Ultra-violet light법은 재검토되어야 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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