• 제목/요약/키워드: trilayer

검색결과 88건 처리시간 0.024초

Ni 층간박막에 따른 SnO2 박막의 전기적, 광학적 물성 변화 (Influence of Ni Interlayer on the Electrical and Optical Properties of SnO2 thin films)

  • 송영환;엄태영;김대일
    • 열처리공학회지
    • /
    • 제29권5호
    • /
    • pp.216-219
    • /
    • 2016
  • $SnO_2$ single layer films (100 nm thick) and 2 nm thick Ni intermediated $SnO_2$ films were deposited on glass substrate by RF and DC magnetron sputtering without intentional substrate heating and then the influence of the Ni interlayer on the electrical and optical properties of the films were investigated. As deposited $SnO_2$ single layer films show the optical transmittance of 82.6% in the visible wavelength region and a resistivity of $6.6{ \times}10^{-3}{\Omega}cm$, while $SnO_2/Ni/SnO_2$ trilayer films show a lower resistivity of $2.7{ \times}10^{-3}{\Omega}cm$ and an optical transmittance of 76.3% in this study. Based on the figure of merit, it can be concluded that the intermediate Ni thin film effectively enhances the opto-electrical performance of $SnO_2$ films for use as transparent conducting oxides in flexible display applications.

NiFe/FeMn/NiFe 스핀밸브 구조의 다층박막에서 상 하부 NiFe 두께에 따른 교환바이어스 조사 (Anomalous Exchange Bias of the Top and Bottom NiFe Layers in NiFe/FeMn/NiFe Based Spin Valve Multilayers)

  • S.M. Yoon;J.J. Lim;V.K. Sankar;Kim, C.G.;Kim, C.O.
    • 한국재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
    • /
    • pp.212-212
    • /
    • 2003
  • Many of the spin valve multilayer structures with FeMn as antiferromagnetic layer consist of a NiFe/FeMn/NiFe trilayer where the bottom NiFe layer is the seed layer to facilitate the growth of (111) gama-FeMn antiferromagnetic phase and the top NiFe layer forms the pinned layer[1], In this study, exchange bias of bottom NiFe layer has been investigated as functions of thicknesses of top and bottom NiFe in NiFe/FeMn/NiFe, prepared by rf magnetron sputtering, MH-loop was measured by vibration sample magnetometer (VSM). Two hysteresis loops are corresponded to bottom and top layers, similar to reported loops in spin valve structure. Exchange bias of bottom NiFe could be induced by the interfacial coupling between bottom NiFe and FeMn. But those coupling are strongly dependent on the top and bottom NiFe thicknesses, revealing anomalous character ul exchange bias of bottom NiFe layer.

  • PDF

Ni 박막 위치에 따른 GZO 투명전도막의 전기광학적 물성 변화 (Influence of Ni Thin Film Position on the Opto-electrical Properties of GZO Films)

  • 문현주;전재현;공태경;서기웅;오정현;김선경;최동혁;손동일;김대일
    • 열처리공학회지
    • /
    • 제28권3호
    • /
    • pp.121-125
    • /
    • 2015
  • GZO single layer, Ni buffered GZO(GZO/Ni), Ni intermediated GZO (GZO/Ni/GZO) and Ni capped GZO (Ni/GZO) films were prepared on poly-carbonate (PC) substrates by RF and DC magnetron sputtering without intentional substrate heating and then the influence of the Ni (2 nm thick) thin film on the optical, electrical and structural properties of GZO films were investigated. As deposited GZO single layer films show the optical transmittance of 81.3% in the visible wavelength region and a resistivity of $1.0{\times}10^{-2}{\Omega}cm$, while GZO/Ni/GZO trilayer films show a lower resistivity of $6.4{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and an optical transmittance of 74.5% in this study. Based on the figure of merit, it can be concluded that the intermediated Ni thin film effectively enhances the opto-electrical performance of GZO films for use as transparent conducting oxides in flexible display applications.

밀리미터파용 HEMT 소자 개발 및 제작을 위한 T-게이트 형성 전자빔 리소그래피 공정 모의 실험기 개발 (Development of Electron-Beam Lithography Process Simulation Tool of the T-shaped Gate Formation for the Manufacturing and Development of the Millimeter-wave HEMT Devices)

  • 손명식;김성찬;신동훈;이진구;황호정
    • 대한전자공학회논문지SD
    • /
    • 제41권5호
    • /
    • pp.23-36
    • /
    • 2004
  • 밀리미터파 대역용 고속 HEMT 소자 제작 및 개발을 위하여 0.l㎛ 이하의 T-게이트 길이를 형성하기 위한 전자빔 리소그래피 공정을 분석할 수 있는 새로운 몬테 카를로 시뮬레이터를 개발하였다. 전자빔에 의한 노광 공정 모델링을 위해 전자산란에 대한 몬데 카를로 시뮬레이션에서 다층 리지스트 및 다원자 타겟 기판 구조에서 리지스트에 전이되는 에너지를 효율적으로 계산하도록 내부 쉘 전자 산란과 에너지 손실에 대해 새로이 모델링하였다. 다층 리지스트 구조에서 T-게이트 형상을 얻기 위해서 보통은 재현성 문제로 각 리지스트에 대해 각기 다른 현상액을 사용하게 되는데, 3층 리지스트 구조에서의 전자빔 리소그래피 공정을 정확하게 시뮬레이션하기 위해 각기 다른 현상 모델을 적용하였다. 본 논문에서 제안 개발된 모델을 사용하여 HEMT 소자의 전자빔 리소그래피에 의한 0.l㎛ T-게이트 형성 공정을 시뮬레이션하고 SEM 측정 결과와 비교하여 T-게이트 형성 공정을 분석하였다.

푸리에 변환을 이용한 3층 구조 박막의 두께 측정 (Determining the Thickness of a Trilayer Thin-Film Structure by Fourier-Transform Analysis)

  • 조현주;원준연;정영규;우봉주;윤준호;황보창권
    • 한국광학회지
    • /
    • 제27권4호
    • /
    • pp.143-150
    • /
    • 2016
  • 분광광도계로 측정된 반사율 데이터를 활용하여 다층박막 각 층의 두께를 푸리에 변환 방법으로 결정하였다. 이를 위하여 이론적인 3층 다층박막 반사율 데이터를 생성하고 자체 작성한 Matlab 프로그램으로 델타함수의 피크 발생위치로부터 각 층의 두께를 결정하였으며, 박막의 광학적 두께가 730 nm 이상이 되는 경우 결정된 두께 오차는 1.0% 이하임을 알 수 있었다. 이 방법을 사용하여 바 코팅 방법으로 제작된 PI-(얇은 $SiO_2$)-PI 다층박막의 두께를 결정하고 그 결과를 SEM 측정결과와 비교하였다. 본 두께측정 방법은 각 층의 굴절률과 박막의 순서를 미리 인지하고 있어야 하는 단점이 있으나, 비파괴적인 방법으로 빠르게 다층 박막의 두께 분포를 결정할 수 있는 방법임을 확인하였다.

100 nm T-gate의 InGaAs/InAlAs/GaAs metamorphic HEMT 소자 제작 및 특성에 관한 연구 (Study on the fabrication and the characterization of 100 nm T-gate InGaAs/InAlAs/GaAs Metamorphic HEMTs)

  • 김형상;신동훈;김순구;김형배;임현식;김현정
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제15권6호
    • /
    • pp.637-641
    • /
    • 2006
  • 본 논문에서는 100 nm 게이트 길이를 갖는 InGaAs/InAlAs/GaAs MHEMT(metamorphic high electron mobility transistors)m의 DC와 RF 특성을 분석 하였다. 이중 노광 방법으로 ZEP520/P(MMA-MAA)/PMMA 3층 구조의 레지스터와 게이트 길이 100 nm인 게이트를 제작하였다. 게이트의 단위 폭이 $70\;{\mu}m$인 2개의 게이트와 길이가 100 nm로 제작된 MHEMT를 DC 및 RF특성을 조사하였다. 최대 드레인 전류 밀도는 465 mA/mm, 상호전달 컨덕턴스는 844 mS/mm이, RF 측정으로부터 전류 이득 차단 주파수는 192 GHz와 최대 진동주파수 310 GHz인 특성을 보였다.

AZO/Ni/SnO2 적층박막의 전기적, 광학적 특성 연구 (A Study of Electrical and Optical Properties of AZO/Ni/SnO2 Tri-layer Films)

  • 송영환;차병철;천주용;엄태영;김유성;김대일
    • 열처리공학회지
    • /
    • 제30권1호
    • /
    • pp.13-16
    • /
    • 2017
  • $SnO_2$ single layer films and 2 nm thick Ni thin film intermediated $AZO/Ni/SnO_2$ trilayer films were deposited on glass substrate at room temperatures by RF and DC magnetron sputtering and then the optical and electrical properties of the films were investigated to enhance opto-electrical performance of $SnO_2$ single layer films. As deposited $SnO_2$ films show the optical transmittance of 81.8% in the visible wavelength region and a resistivity of $1.2{\times}10^{-2}{\Omega}cm$, while $AZO/Ni/SnO_2$ films show a lower resistivity of $5.8{\times}10^{-3}{\Omega}cm$ and an optical transmittance of 77.1% in this study. Since $AZO/Ni/SnO_2$ films show the higher figure of merit than that of the $SnO_2$ single layer films, it is supposed that the $AZO/Ni/SnO_2$ films can assure high opto-electrical performance for use as a transparent conducting oxide in various display applications.

3중박막 NiFe/IrMn/CoFe에서 Mn 함유량에 의존하는 교환결합세기 (Exchange coupling field of NiFe/IrMn/CoFe trilayer depending on Mn composition)

  • 김보경;이진용;함상희;김순섭;이상석;황도근;김선욱;이장로
    • 한국자기학회:학술대회 개요집
    • /
    • 한국자기학회 2003년도 하계학술연구발표회 및 한.일 공동심포지엄
    • /
    • pp.130-131
    • /
    • 2003
  • Mn 합금형태의 반강자성체 물질인 IrMn은 열처리 전과 후에 교환결합세기를 400 Oe 이상 쉽게 얻을 수 있다. IrMn 스핀밸브나 터널링 접합 소자는 높은 교환 결합세기와 우수한 열적안정성으로 인하여 자기센서로서 실용화하기에 이르렀다. Mn이 계면의 이웃층으로 확산이 왕성하므로 자성층의 종류에 따라 교환결합세기의 변화에 심각한 영향을 주게 된다. 더욱이 열처리시에 일어나는 Mn 확산 및 이동을 통해 이웃층의 계면 손상과 자기 수송 특성을 완화 내지 손상시키는 중요한 요인으로 밝혀져 있다. 열처리 전과 후에 따른 자기적 특성의 변화가 비교적 큰 IrMn에서 Mn 성분에 따른 fcc 결정성 및 교환결합세기의 변화를 상세히 관찰함으로서 Mn 확산에 의한 반자성층의 Mn 결핍 또는 상변화를 극-초박막 Mn층 삽입으로 보상효과를 이용하여 교환결합세기 강화 및 열적안정성을 향상시킨 실험결과를 소개한다.

  • PDF