Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.11
no.4
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pp.186-189
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2010
Nano-sized MgO single crystal powders have recently been reported to emit ultraviolet by stimulation of electrons in a vacuum. In this study, nanocrystalline MgO powders were applied to a xenon plasma flat fluorescent lamp (FFL) for a liquid crystal display backlight to improve its emission efficiency through the extra ultraviolet from the nano-MgO crystals. For comparison, a MgO nano-thin film was applied directly on the phosphors inside a lamp panel through e-beam evaporation. Adding MgO nano-crystal powders to the phosphors improved the luminance and efficiency of FFLs by around 20% and MgO nano-crystal coverage of 40% of the phosphor provided the best FFL emission characteristics; however, application of MgO thin film to the phosphors degraded the emission characteristics, even compared to FFLs without MgO. This was due to insufficient ultraviolet stimulation of the phosphors and the crystallinity and low secondary electron coefficient of the MgO.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.9
no.1
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pp.29-33
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2002
The SrS:Cu, Ag thin film electroluminescient devices were fabricated on $AlTiO_3$/ITO/glass substrates by electron-beam evaporation. The emission spectrum of the device was about 460 nm with $\chi$=0.20, y=0.29 in the CIE color coordinator. It was found that the emission spectrum was saturated to pure blue color when Ag sensitizer was doped in SrS:CuCl phosphors. The luminance of the device was increased by increasing the sulfur pressure. The measured luminance was saturated with 430 cd/$m^2$at the applied voltage of 90 V and the maximum luminance was 580 cd/$m^2$at 110V. The polarization charge and conduction charge of the devices were found to be found to be about $3.5\mu$C/$\textrm{cm}^2$ and $7.4\mu$C/$\textrm{cm}^2$, respectively.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.3
no.1
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pp.4-8
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2002
The typical mold method for FED (field emission display) fabrication is used to form a gate electrode, a gate oxide layer, and emitter tip after fabrication of a mold shape using wet-etching of Si substrate. However, in this study, new mold method using a side wall space structure was developed to make sharp emitter tips with the gate electrode. In new method, gate oxide layer and gate electrode layer were deposited on a Si wafer by LPCVD (low pressure chemical vapor deposition), and then BPSG (Boro phosphor silicate glass) thin film was deposited. After then, the BPSG thin film was flowed into the mold at high temperature in order to form a sharp mold structure. TiN was deposited as an emitter tip on it. The unfinished device was bonded to a glass substrate by anodic bonding techniques. The Si wafer was etched from backside by KOH-deionized water solution. Finally, the sharp field emitter array with gate electrode on the glass substrate was formed.
White emission thin film electroluminecent device was fabricated with ZnS for phosphor layers and BST ferroelectric thin film for insulating layers. The ZnS:Mn and $ZnS:SmF_3$ layers were used for emission of red color. Also the $ZnS:TbF_3$ and $ZnS:AgF_3$ layers were used to emission of green and blue color, respectively. And the fabrication conditions of the BST insulating layers were followings, that is, the composition ratio of target, substrate temperature, working pressure and operating gas ratio were $Ba_{0.5}Sr_{0.5}Ti_{0.3}$, $400^{\circ}C$, 30 mTorr and 9:1, respectively. The thickness of phosphor were 150 nm for each layers and the insulating layers of upper and bottom were 400 nm and 200 nm, respectively. The luminesence threshold voltage was $75\;V_{rms}$ and the maximum brightness of the thin film electroluminecent device was $3200\;cd/m^2$ at $100\;V_{rms}$.
We investigated the high-excitation voltage cathodoluminescence (CL) performance of blue light-emitting (ZnS:Ag,Al,Cl) and green light-emitting (ZnS:Cu,Al) phosphors coated with metal oxides ($SiO_2$, $Al_2O_3$, and MgO). Hydrolysis of the metal oxide precursors tetraethoxysilane, aluminum isopropoxide, and magnesium nitrate, with subsequent heat annealing at $400^{\circ}C$, produced $SiO_2$ nanoparticles, an $Al_2O_3$ thin film, and MgO scale-type film, respectively, on the surface of the phosphors. Effects of the phosphor surface coatings on CL intensities and aging behavior of the phosphors were assessed using an accelerating voltage of 12 kV. The MgO thick film coverage exhibited less reduction in initial CL intensity and was most effective in improving aging degradation. Phosphors treated with a low concentration of magnesium nitrate maintained their initial CL intensities without aging degradation for 2000 s. In contrast, the $SiO_2$ and the $Al_2O_3$ coverages were ineffective in improving aging degradation.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.32
no.1
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pp.86-92
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2019
Although perylene bisimide derivatives have advantages such as excellent thermal stability and high luminance efficiency, they have poor solubility characteristics in organic solvents. In this research, in order to improve the solubility characteristics, we prepared perylene bisimide derivatives (1C) and (2C) with swallow-tail substituted imide, which is known to lead to excellent solubility. The structures and properties of swallow-tail perylene bisimide (1C) and (2C) were analyzed by $^1H-NMR$, FT-IR, UV/Vis spectroscopy, and thermogravimetric analysis (TGA). The maximum absorption wavelengths of (1C) and (2C) in the UV/Vis spectrum were 558 nm and 556 nm, respectively, and the maximum emission wavelengths were 602 nm and 600 nm, respectively. In the TGA, (1C) demonstrated good thermal stability with less than 5 wt% weight loss up to $242^{\circ}C$. In the solubility test, (1C) and (2C) exhibited solubilities of more than 5 wt% in chloroform, ethyl acetate, and dimethylformamide, but not in methanol. When the compounds (1C) and (2C) were mixed with PMMA (polymethyl methacrylate), thin films showed peaks at 679 nm and 677 nm, respectively, in the photoluminescence spectra. (1C) was found to be a possible candidate as red organic phosphor for hybrid LEDs.
U, Seo-Hwi;Yu, Dong-Hwan;An, Seong-Il;Lee, Seong-Ui
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.11a
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pp.206-206
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2009
RF Magnetron Sputtering 방법을 통해 ZnS:Mn 박막 형광체를 증착한 다층 TFEL (Thin-Film Electroluminescent) Backlight 소자를 제작하였다. Alumina 기판 위에 Au 전극과 PMN 후막 유전체를 Screen printing 기법으로 층을 형성하였다. 그 위에 MgO 박막 유전체를 E-Beam 장비를 이용하여 증착 후, ZnS:Mn 박막 형광체를 50 W 의 저전력으로 약 8000 ${\AA}$ 두께로 증착하였다. 형광체는 Sputter 증착 시 Sulfur 부족 현상을 보상해주기 위해 ZnS:Mn (0.5%) Target 에 2 at % 의 Sulfur를 첨가하였으며, 상부 전극으로 사용할 ITO 는 DC Magnetron Sputter 를 이용하여 증착하였다. 어닐링 공정은 Air 분위기에서 급속 열처리 장치 (RTA, Rapid Thermal Annealing) 을 이용하여 600 $^{\circ}C$에서 20 분 진행하였다. 이러한 과정들을 통해 저전압 고휘도의 TFEL Backlight 소자를 제조할 수 있었다.
CaS:Pb thin film used as phosphor layer in electroluminescent devices were deposited by an atomic layer deposition (ALD). The photoluminescence emission and excitation spectra were measured at 5 and 300K for the $CaS:Pb^{2+}$ phosphors with different Pb concentration from 0.001 at.% to 0.648 at.%. The emission spectra of these samples were characterized as UV emission and blue emission with the center of peak around 360 and 425nm, respectively. The UV emission was dominant at the low $Pb^{2+}$ concentration of 0.001 at%, whereas with increase of Pb concentration, the blue emission became a major component and to longer wavelength.
Kim J.S.;Lee S.H.;Park J.H.;Park H.W.;Choi J.C.;Park H.L.
Journal of the Korean Vacuum Society
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v.15
no.4
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pp.404-409
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2006
Thin-film $ZnGa_2O_4 : Mn^{2+}$ phosphors of spinel structure were grown on quartz substrate by RF magnetron sputtering method at room temperature. As an increase of post-annealing temperatures, crystallinity, surface roughness and stoichiometry of thin films were varied. At the post-annealing temperatures of $500^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$, the luminescence intensity was poor due to the poor crystallinity. The smallest surface roughness was observed at the sample post-annealed at $700^{\circ}C$ leading to low external extraction efficiency, and poor luminescence intensity. The highest luminescence intensity was shown at the sample post-annealed at $800^{\circ}C$. It was because both the surface roughness and crystallnity were optimized. On the other hand, at $900^{\circ}C$, the luminescence intensity was poor due to the violation of stoichiometry.
We fabricated PLT thin films on ITO substrate for flat pannel display and investigated the characteristics, then we applicated to electroluminescent device and investigated application possibility. When we fabricated PLT thin films with substrate temperature of $500^{\circ}C$, and pressure of 30 mTorr, the relative deielectric constant and breakdown electricfield of PLT thin films were 120 and 3.2MV/cm. The electric resistivity was $2.0{\times}10^{12}{\Omega}{\cdot}cm$. PLT thin films had polycrystal structure of perovskite and pyrochlore at the higher substrate temperature than $450^{\circ}C$, and had good crystallinity at higher pressure. To use PLT insulator film and ZnS:Mn phosphor, we fabricated thin film electroluminescent device of ITO/PLT/ZnS:Mn/PLT/Al structure. At the result, threshold voltage was $35.2V_{rms}$ and brightness was $2400cd/m^{2}$ at $50V_{rms}$ and 1kHz. Maximum luminescence efficiency was 0.811m/W.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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