• Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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• 제41권2호
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• pp.146-149
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• 2017

Si clusters generated during the plasma chemical vapor deposition (CVD) process have a great influence on the quality of the fabricated films. In particular, in hydrogenated amorphous silicon thin films (a-Si:H) used for thin film solar cells, Si clusters are mainly responsible for light-induced degradation. In this study, we investigated the amount of clusters incorporated into thin films using a quartz crystal microbalance (QCM) and specially designed cluster eliminating filters, and investigated the effect of the DC grid mesh in preventing cluster incorporation. Experimental results showed that as the applied voltage of the grid mesh, which is placed between the electrode and the QCM, decreased, the number of clusters incorporated into the film decreased. This is due to the electrostatic force from the grid mesh bias, and this method is expected to contribute to the fabrication of high-quality thin films by preventing Si cluster incorporation.

• 분석과학
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• 제14권6호
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• pp.486-493
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• 2001

본 연구는 SIMS를 이용한 bismuth titanate 박막의 깊이방향 분석에 있어서 mesh grid를 사용한 경우와 사용하지 않은 경우, offset voltage를 사용한 경우와 사용하지 않은 경우 등 분석조건에 따른 charging effect 그리고 검출한계의 특성을 검토하고자 하였다. 결과에 따르면 -40 V의 offset voltage를 사용하였을 경우는 charging effect의 감소는 물론 검출한계도 낮출 수 있었으나 mesh grid를 사용하였을 경우에는 charging effect는 다소 줄일 수 있었으나 반면 검출 한계는 오히려 높아졌다. O- 일차이온을 적용한 경우는 -40 V의 offset voltage를 사용하였을 때와 동일한 효과를 얻을 수 있었다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 1997년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.724-728
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• 1997

A CAD system of grid element for vacuum fluorescent disply has been developed. In order to reduce design man-houre and human erros, it is used to automate the design process using a knowledge base system. In the case of VFD product design, the most important consideration is the short-life cycle. So the development of CAD system for VFD product is needed. The developed system is based on the knowledge base system which is involved in a lot of expert's technology in the practice field. Using C-language under the HP-UNIX system, CIS customer language of the EXCESS CAD/CAM is used as the overall CAD environment. Results of this system will provide effective aids to the designer in this field

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제46권1호
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• pp.50-55
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• 2008

RF plasma CVD법을 이용하여 금속 촉매(Fe)가 증착된 $SiO_2$ 기판 위에 $H_2$와 $C_2H_2$의 혼합가스를 사용하여 증착된 탄소나노튜브(carbon nanotube, CNT)의 특성에 대한 기판의 온도의 영향을 조사하였다. $SiO_2$ 위에 철 촉매는 RF 마그네트론 스퍼터에 의해 만들어졌다. 고 순도의 나노튜브 박막을 얻기 위해서 기판 홀더 위에 접지된 그리드 메쉬 커버를 설치하였다. 증착된 CNT의 표면 미세구조 및 화학적 구조를 SEM, Raman, XPS, 그리고 TEM으로 측정하였다. 증착된 CNT 박막들은 대나무 같은 다중벽 구조를 가지는 탄소 파이버 형태였으며 $55^{\circ}C$에서 보다 $600^{\circ}C$에서 보다 더 치밀한 구조를 보이나 $650^{\circ}C$에서는 밀도가 다소 감소함을 알 수 있었다.