This research surveys the twisting and untwisting tensions according to the various processing conditions of belt type texturing such as draw ratio, 1st heater temperature and velocity ratio. The 1st heater temperature was changed from 1606{\circ}C\; to\; 220^{\circ}C$, draw ratio was changed from 1.6 to 1.9 and velocity ratio was changed from 1.4 to 1.8. The twisting and untwisting tensions are measured with the variation of these processing conditions, in addition, the untwisting tension(T2) and tension ratio(T2/Tl) according to the various processing conditions are analysed with the false twist mechanism which is affected to the physical properties of draw textured yams.
In this paper, friction of air-jet textured yams is investigated. Using a friction measuring apparatus fabricated inhouse, dynamic friction forces of the yams under yarn-to-metal (YM) and yam-to-yam (YY) rubbing modes are measured. The influence of processing variables of air-jet texturing viz., overfeed, air pressure, dry/wet texturing and normal/core-and-effect texturing on dynamic friction is analysed. The results indicate that friction force increases with increasing rubbing speeds and yam input tension. YM dynamic friction decreases initially and then starts to increase at higher overfeeds. YY dynamic friction increases with increasing overfeed. YM dynamic friction decreases with an increase in air pressure while an opposite trend is observed for YY friction. Wet textured yams have higher friction than dry textured yams. Core wetted coreand-effect textured yams have higher friction than normal textured yams.
Kim, Y.H.;Joo, M.G.;Park, C.M.;Choi, J.T.;Lim, Choong-Soo;Uh, Ji-Ho
Proceedings of the KIEE Conference
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2001.07d
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pp.2383-2385
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2001
Laser texturing process for the strip casting-roll is investigated and is realized using PC system and Argon Ion Laser. This laser system can imprint any dimple of patterns on the roll-surface with the resolution of ${\mu}m$ unit.
Laser surface texturing (LST) methods are widely applied recently to reduce friction and improve reliability of machine components such as thrust bearings, mechanical face seals and piston rings, etc. In this paper, numerical analysis is carried out to investigate the effect of number of dimples on the lubrication characteristics of parallel thrust bearing using a commercial computational fluid dynamics (CFD) code, FLUENT. Pressure distributions of present analysis are physically consistent than those obtained from numerical analysis of Reynolds equation. The overall lubrication characteristics are highly affected by number of dimples and their locations. The results can be use in design of optimum dimple characteristics to improve thrust bearing performance and further researches are required.
Laser surface texturing (LST) methods are widely applied now to reduce friction and improve reliability of machine components such as thrust bearings, mechanical face seals and piston rings, etc. In this paper, the effect of dimple shapes on the lubrication characteristics of parallel thrust bearing are studied using a commercial computational fluid dynamics (CFD) code, FLUENT. Pressure and streamline distributions, variations of supporting load, leakage flow rate and friction force, are compared for three different dimple sectional shapes such as circle, pyramid and rectangle type. The lubrication characteristics are highly affected by dimple shapes and number of dimples. The pyramid type dimple shape can support the highest load while the rectangle type is the best in friction reduction.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.270-270
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2010
결정질 실리콘 태양전지는 표면반사에 의한 광 에너지 손실을 최소화 시키고자 식각을 통한 표면 조직화(texturing)가 이루어진다. 단결정 실리콘 웨이퍼의 경우 알칼리 용액(alkali solution)을 사용하여 이방성 식각(anisotropic etching)을 함으로써 표면에 피라미드를 형성하고 광 포획(light trapping) 효과에 의해 반사율을 줄이게 된다. 그러나 피라미드 형성을 통한 반사율 감소에는 한계를 가지고 있다. Metal assisted etching을 기반으로 한 새로운 형태의 텍스쳐링인 nano texturing은 피라미드가 이루어진 표면에 수많은 nm사이즈의 구조를 형성시킴으로써 표면에서의 반사율을 현저히 감소시킨다. 먼저 $AgNO_3$용액으로 웨이퍼 표면에 Ag입자를 코팅한 후, 그 웨이퍼를 다시 $HF/H_2O_2$ 용액으로 일정시간 동안 식각을 거치게 된다. 그로 인해 표면에는 수 nm 사이즈의 구조물들이 피라미드 위에 생성되고, $AgNO_3$의 농도 및 식각 시간에 따라 그 구조물의 크기 및 굵기가 달라진다. 결과적으로 평균 10%이상의 반사율을 보이던 기존 텍스쳐링 웨이퍼에서 3%이하의 낮은 반사율을 얻을 수 있었다. 또한 이런 nano texturing을 n-emitter 형성 공정 등에 따른 영향과 carrer lifetime에 대하여 연구하였다.
Lowering surface reflectance of Si wafers by texturization is one of the most important processes for improving the efficiency of Si solar cells. This paper presents the results on the effect of texturing using acidic solution mixtures containing the catalytic agents to moderate etching rates on the surface morphology of mc-Si wafer as well as on the performance parameters of solar cell. It was found that the treatment of contaminated crystalline silicon wafer with $HNO_3-H_2O_2-H_2O$ solution before the texturing helps the removal of organic contaminants due to its oxidizing properties and thereby allows the formation of nucleation centers for texturing. This treatment combined with the use of a catalytic agent such as phosphoric acid improved the effects of the texturing effects. This reduced the reflectance of the surface, thereby increased the short circuit current and the conversion efficiency of the solar cell. Employing this technique, we were able to fabricate mc-Si solar cell of 16.4% conversion efficiency with anti-reflective (AR) coating of silicon nitride film using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and Si wafers can be texturized in a short time.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.315-315
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2010
결정질 실리콘을 포함하는 태양전지의 광전효율은 표면에 입사되는 태양광의 반사를 제외하면 흡수된 광자에 의해 생성되는 전자-정공쌍의 상대적인 비율인 내부양자효율에 의존하게 된다. 실제 생성된 전자-정공쌍은 기판재료의 결정상태와 전기광학적 물성 등에 의해 일부가 재결합되어 2차적인 광자의 생성이나 열로서 작용하고 최종적으로 전자와 정공이 완전히 분리되고 전극에 포집되어 실질적인 유효전류로 작용한다. 16% 이상의 고효율 결정질 실리콘 태양전지양산이 요구되고 있는 현실에서 광전효율 개선 위해 가장 우선적으로 고려되어야 할 변수는 입력 태양광스펙트럼에 대한 결정질 실리콘 표면반사율을 최소화하여 광흡수를 극대화하는 것이라 할 수 있다. 이의 해결을 위하여 대기와 실리콘표면 사이의 굴절률차이가 크면 클수록 태양광스펙트럼에 대한 결정질 실리콘의 광반사는 증가하기 때문에 상대적으로 낮은 굴절률의 $SiO_x$나 $SiN_x$와 같은 반사방지막을 광입력 실리콘표면에 증착하여 광반사율 저감공정을 적용하고 있다. 이와 더불어 결정질 실리콘표면을 화학적으로 혹은 플라즈마이온으로 50-100nm 직경의 바늘형 피라미드형상으로 texturing 함으로 광자들의 다중반사 등에 기인하는 광흡수율의 증가를 기대할 수 있기 때문에 태양전지효율 개선에 긍정적인 영향을 미치는 것으로 이해된다. 본 실험에서도 고효율 다결정 실리콘 태양전지 양산공정에 적용 가능한 ICP-RIE기반 결정질 실리콘표면에 대한 texturing 공정기술을 연구하였다. Double Langmuir 플라즈마 진단시스템(DLP2000)을 적용하여 사용한 $SF_6$와 $O_2$ 개스유량과 챔버압력, 플라즈마 파워에 따른 이온밀도, 전자온도, 포화이온전류밀도, 플라즈마포텐셜의 공간분포를 모니터링하였고 texturing이 완료된 시료에 대하여 A1.5G 표준태양광스펙트럼의 300-1100nm 파장대역에서 반사율을 측정하여 그 변화를 관찰하였다. 본 연구에서 얻어진 결과를 간략히 정리하면 Si texturing에 가장 적합한 플라즈마파워는 100W, $SF_6/O_2$ 혼합비는 18:22, 챔버압력은 30mtorr 등이고 이에 상응하는 플라즈마의 이온밀도는 $2{\sim}3{\times}10^8\;ions/cm^3$, 전자온도는 14~15eV, 포화전류밀도는 $0.014{\sim}0.015mA/cm^2$, 플라즈마포텐셜은 38~39V 범위 등이었다. 현재까지 얻어진 최소 평균반사율은 14.2% 였으며 최적의 texturing패턴 플라즈마공정 조건은 이온에 의한 Si표면원자들의 스퍼터링과 화학반응에 의한 증착이 교차하는 플라즈마 에너지 및 밀도 상태인 것으로 해석된다.
Wet chemical etching methods were utilized to conduct Si surface texturing, which could enhance photoelectrochemical hydrogen generation rate. Two different etching methods tested, which were anisotropic metal-catalyzed electroless etching and isotropic etching. The Si nano-texture that was fabricated by the anisotropic etching showed ~25% increase in photocurrent for H2 generation. The photocurrent enhancement was attributed to the reduced reflection loss at the nano-textured Si surface, which provided a layer of intermediate density between water and the Si substrate.
Proceedings of the Korean Society of Dyers and Finishers Conference
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2009.11a
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pp.143-144
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2009
This is studies about development of natural stretch Cotton-like fabric of using PET yarns. The natural stretch Cotton-like yarn is a complex yarn combining PET spiral crimp yarn and PET POY yarn using air texturing technology. The complex yarn is natural stretch function and cotton-like effect itself by technology of air texturing process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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