Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.5
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pp.280-284
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2015
Among many the oxynitrides, TiNO and AlCrNO, have diverse applications in different technological fields. We prepared TiNO/AlCrNO/Al thin films on aluminum substrates using the method of dc reactive magnetron sputtering. The reactive gas flow, gas mixture, and target potential were applied as the sputtering conditions during the deposition in order to control the chemical composition. The multi-layer films have been prepared in an Ar and O2+N2 gas mixture rate. The surface properties were estimated by performing scanning electron microscopy (SEM). At a wavelength range of 0.3~2.5 μm, the exact composition and optical properties of thin films were measured by Auger electron spectroscopy (AES) and Ultraviolet-visible-near infrared (UV-Vis-NIR) spectrophotometry. The optimal absorptance of multi-layer films was exhibited above 95.5% in the visible region of the electromagnetic spectrum, and the reflectance was achieved below 1.89%.
Kim, Dong-Eun;Kim, Doo-Seok;Lee, Burm-Jong;Kwon, Young-Soo
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.18
no.12
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pp.1139-1142
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2005
Recently, organic light emitting diodes(OLEDs) is widely used as one of the information display techniques. We synthesized 2-(2-hydroxyphenyl)benzoxazole($Zn(HPB)_2$). We studied the luminescent properties of OLEDs using $Zn(HPB)_2$. The ionization potential(IP) and the electron affinity(EA) of $Zn(HPB)_2$ investigated using cyclic-voltammetry(C-V). The IP and EA were 6.5 eV and 3.0 eV, respectively. The PL and EL spectra of $Zn(HPB)_2$ were observed at the wavelength of 450 nm. We used $Zn(HPB)_2$ as an emitting layer and hole blocking layer. At the experiment about hole blocking effect, we inserted $Zn(HPB)_2$ between emiting material layer(EML) and cathode, and between hole transport layer(HTL) and emitting material layer(EML). We measured current density-voltage and luminance-voltage characteristics at room temperature.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.23
no.3
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pp.199-205
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2010
The crystallization speed (v) of amorphous (InTe)$_x$(GeTe) (x = 0.1, 0.3 and 0.5) films and their thermal, optical and electrical behaviors have been investigated using nano-pulse scanner (wavelength = 658 nm, laser beam diameter < 2 ${\mu}m$), X-ray diffraction (XRD), 4-point probe and UV-vis-IR spectrophotometer. These results were compared with those of $Ge_2Sb_2Te_5$ (GST) film, comprehensively utilized for phase-change random access memory (PRAM). Both v-value and thermal stability of (InTe)$_{0.1}$(GeTe) and (InTe)$_{0.3}$(GeTe) films could be enhanced in comparison with those of the GST. Contrarily, the v-value in the (InTe)$_{0.5}$(GeTe) film was so drastically deteriorated that we could not quantitatively evaluate it. This deterioration is thought because amorphous (InTe)$_{0.5}$(GeTe) film has relatively high reflectance, resulting in too low absorption to cause the crystallization. Conclusively, it could be thought that a proper compositional (InTe)$_x$(GeTe) films (e.g., x < 0.3) may be good candidates with both high crystallization speed and thermal stability for PRAM application.
ITO/$TiO_2$ films were deposited by RF magnetron sputtering on glass substrates and then the effect of vacuum annealing on the structural, optical and electrical properties of the films was investigated. The structural, optical and electrical properties are strongly related to annealing temperature. The films annealed at $300^{\circ}C$ showed a grain size of 40.9 nm, which was larger than as-deposited amorphous films. The optical transmittance in the visible wavelength region also increased, while the electrical resistivity decreased. The ITO/$TiO_2$ films annealed at $300^{\circ}C$ showed the highest optical transmittance of 81% and also showed the lowest electrical resistivity of $3.05{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, in this study.
SiO$_2$ and SiON thick films were deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) technique on silicon wafer (100) using SiH$_4$ and $N_2$O as precursor gases. In this work, the influence of rf power, and rf bias power on the optical and physical properties of SiO$_2$ and SiON thick films is presented. The refractive index decreases with increasing rf power, and rf bias power. The refractive index of the films varied from 1.4493 to 1.4952 at wavelength at 1552 nm, with increasing rf power, the nitrogen content decreases while the oxygen content increases, in a manner that the O/N ratio increases approximately linearly.
Kim, Gwan Hyeon;Kim, So Won;Lee, Seong Eui;Lee, Hee Chul
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.56
no.4
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pp.354-359
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2019
Information security films that can ensure personal privacy by reducing the viewing angle of display screens were fabricated by microlouver patterning and a ZnO nano-ink filling process. Optical simulation results demonstrated that all the microlouver films showed good security performances. Security performances were evaluated as calculated relative luminance ratios compared between the side and front. Based on the simulation results, microlouver films were fabricated by UV imprint lithography and nano-ink bar coating. However, distortion of the microlouver pattern occurred with the use of high-viscosity nano-inks such as ZrO2 and TiO2, and the CuO-filled microlouver film suffered from very low optical transmittance. Accordingly, the effects of ZnO filling height on security performance were intensively investigated through simulation and experimental measurements. The fabricated microlouver film with a 75-㎛-high ZnO filling exhibited a good relative luminance ratio of 0.75 at a 60° side angle and a transmittance of 44% at a wavelength of 550 nm.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.3
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pp.269-276
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2009
Antimony doped tin oxide ($SnO_2:Sb$) films, which are used as the front contact and back reflector of thin film solar cells, have been deposited by d,c, magnetron sputtering. The dependence of electrical and optical properties of the films on the preparation conditions, such as $O_2$ gas ratio, substrate temperature, annealing temperature was investigated. The sputter gas composition was found to affect the properties of the films. With incorporating $O_2$ gas, the electrical and optical properties of films significantly were improved. The minimum resistivity and optical transmittance over 80 % in visible region were obtained at the oxygen concentration of 30 %, When the substrate temperature was higher, the resistivity of $SnO_2:Sb$ films was decreased, while the absorption edge shifted to shorter wavelength, indicating higher optical band gap. Heat treatment over $600^{\circ}C$ resulted in poorer electrical and optical properties due to SnO phase (102) plane.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.425.2-425.2
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2014
$TiO_2$ possesses great photocatalytic properties but absorbs only UV light owing to high band gap energy (Eg = 3.2 eV). By narrowing the band gap through doping a metal ion, the photocatalytic activity can be enhanced in condition of the light of a higher than 365 nm wavelength. Main purpose for this study is to evaluate the activities of metal doped $TiO_2$ for degrading the volatile organic compounds (VOCs); p-xylene is chosen in the VOC removal test. Vanadium is selected in this study because an ionic radius of vanadium is almost the same as titanium ion and vanadium can be easily doped into $TiO_2$. V-doped $TiO_2$ was synthesized by sol-gel methods and compared with pure $TiO_2$. Pure TiO2 powder and V-doped $TiO_2$ powder were coated on glasses by spray coating method. UV-Visible spectrophotometer was used for the measurement of the band gap changes. VOC concentration degradation level was tested with using various UV light sources in an enclosed chamber. Catalytic activities of prepared samples were evaluated based on the experimental results and compared with coated pure $TiO_2$ sample.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.9
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pp.1001-1005
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2004
Rye-sensitized solar cell (DSSC) is a new class of solar cell, which consists of nanoporous TiO$_2$ electrode, dye-sensitizer, electrolyte, and counter electrode. Such cell is operated in sunlight via the principle of photosynthetic electrochemistry. In order to obtain the good dispersion of nano size TiO$_2$ particles In slurry, the pH of solvent, the sort and quantify of solvent additive and the quantity of surfactant were adjusted. As results, the lower the pH of solvent was the lower the viscosity of the slurry became. The addition of ethylene glycol and propylene glycol to dilute HNO$_3$ brought about the lowering of viscosity and the enhancement of stability in slurry. The addition of surfactant lowered the viscosity of slurry. It was possible to obtain the homogeneous and uniformly dispersed mesoporous TiO$_2$ film using the dilute HNO$_3$ solvent of pH 2 with the addition of ethylene glycol and neutral surfactant. DSSC was assembled with TiO$_2$ electrode and Pt electrode, and its photoelectric property was measured using the monochromatic wavelength in the rangee of 350∼700 nm.
$CsSrCl_{3}$ crystal was grown using Czochralski method from equimolar mixture of CsCl and $SrCl_{2}$. The spectrum range of the luminescence excited by 205 nm of wavelength was about $280{\sim}550$ nm, and its peak emission appeared at 343 nm. The luminescence decay curve of the $CsSrCl_{3}$ revealed two exponential components with time constants of 60 ns and 700 ns. The energy resolution for $^{137}Cs$ 662 keV ${\gamma}$-ray was 10.3 %. The pulse shape was linear at high energy, but some deviation existed in the low energy region.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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