Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.11a
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pp.200-200
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2003
Polycrystalline Si(polysilicon) TFTs have opened a way for the next generation of display devices, due to their higher mobility of charge carriers relative to a-Si TFTs. The polysilicon W applications extend from the current Liquid Crystal Displays to the next generation Organic Light Emitting Diodes (OLED) displays. In particular, the OLED devices require a stricter control of properties of gate oxide layer, polysilicon layer, and their interface. The polysilicon layer is generally obtained by annealing thin film a-Si layer using techniques such as solid phase crystallization and excimer laser annealing. Typically laser-crystallized Si films have grain sizes of less than 1 micron, and their electrical/dielectric properties are strongly affected by the presence of grain boundaries. Impedance spectroscopy allows the frequency-dependent measurement of impedance and can be applied to inteface-controlled materials, resolving the respective contributions of grain boundaries, interfaces, and/or surface. Impedance spectroscopy was applied to laser-annealed Si thin films, using the electrodes which are designed specially for thin films. In order to understand the effect of grain size on physical properties, the amorphous Si was exposed to different laser energy densities, thereby varying the grain size of the resulting films. The microstructural characterization was carried out to accompany the electrical/dielectric properties obtained using the impedance spectroscopy, The correlation will be made between Si grain size and the corresponding electrical/dielectric properties. The ramifications will be discussed in conjunction with active-matrix thin film transistors for Active Matrix OLED.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.24
no.7
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pp.525-531
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2011
In this paper, experimental analyses have been performed to compare the electrical characteristics of n channel LT(low temperature) and HT(high temperature) poly-Si TFTs(polycrystalline silicon thin film transistors) on quartz substrate according to activated step annealing. The size of the particles step annealed at low temperature are bigger than high temperature poly-Si TFTs and measurements show that the electric characteristics those are transconductance, threshold voltage, electric effective mobility, on and off current of step annealed at LT poly-Si TFTs are high more than HT poly-Si TFT's. Especially we can estimated the defect in the activated grade poly crystalline silicon and the grain boundary of LT poly-Si TFT have more high than HT poly-Si TFT's due to high off electric current. Even though the size of particles of step annealed at low temperature, the electrical characteristics of LT poly-Si TFTs were investigated deterioration phenomena that is decrease on/off current ratio depend on high off current due to defects in active silicon layer.
We hereby report novel driving scheme to eliminate effect of "residual" image sticking (RRI) problem which arises due to hysteresis problem in Thin Film Transistor (TFT) in AMOLED Displays. The driving scheme applies "black" voltage after every data voltage period in order to drive AMOLED in uni-direction. The system can be easily implemented with 120 Hz driving scheme which is well matured in AMLCD industries. Our analyses show systematic evaluation of the problem and thereby solving it by simple methods which will be significantly effective of driving OLED towards mass manufacturing stage.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.23
no.4
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pp.69-77
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2016
We propose nano-scale Cu direct bonding technology using ultra-high density Cu nano-pillar (CNP) with for high stacking yield exascale 2.5D/3D integration. We clarified the joining mechanism of nano-scale Cu direct bonding using CNP. Nano-scale Cu pillar easily bond with Cu electrode by re-crystallization of CNP due to the solid phase diffusion and by morphology change of CNP to minimize interfacial energy at relatively lower temperature and pressure compared to conventional micro-scale Cu direct bonding. We confirmed for the first time that 4.3 million electrodes per die are successfully connected in series with the joining yield of 100%. The joining resistance of CNP bundle with $80{\mu}m$ height is around 30 m for each pair of $10{\mu}m$ dia. electrode. Capacitance value of CNP bundle with $3{\mu}m$ length and $80{\mu}m$ height is around 0.6fF. Eye-diagram pattern shows no degradation even at 10Gbps data rate after the lamination of anisotropic conductive film.
Park Soochul;Yim Chaiseok;Lee Byung H.;Choe Soonja
Macromolecular Research
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v.13
no.3
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pp.243-252
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2005
The effect of the vinyl acetate (VA) content on the thermal, viscoelastic, rheological, morphological and mechanical behaviors in various blends of ethylene-vinyl acetate (EVA)/ethylene-$\alpha$-olefin copolymers was investigated using 28, 22 and $15 mol\%$ of VA in EVA. In the DSC melting and crystallization thermograms of all of the EVA systems blended with ethylene-$\alpha$-olefin copolymers, discrete peaks were observed which were related to the constituents. In the dynamic mechanical thermal analysis, the storage modulus increased with increasing content of ethylene-$\alpha$-olefin copolymers. In addition, the transition regions relating to the tan bpeaks varied with the VA content. The crossover point between G' and G" varied depending on the VA contents, and shear-thinning was more prominent in the EVA/EtBC system. In the SEM investigation, a discrete phase morphology was observed in both the EVA/EtBC and EVA/EtOC blends, but the contrast improved with decreasing VA content. However, the tensile strength and modulus improved, but the elongation at break reduced with decreasing VA content, implying that the ethylene-$\alpha$-olefin copolymers play the role of reinforcing materials. Thus, the EVA and ethylene-$\alpha$-olefin components in the copolymers are immiscible in the molten and solid states, but are nevertheless mechanically compatible.
Steam reforming of n-hexadecane, a major component of diesel over Ni-based hydrotalcite-like catalyst was carried out at $900^{\circ}C$ at atmospheric pressure with space velocity of $10,000h^{-1}$ and feed molar ratio of steam/carbon=3.0. Ni-based hydrotalcite catalyst was prepared by a solid phase crystallization (spc) method and characterized by $N_2$-physisorption, CO chemisorption, TPR., XRD, and TEM techniques. It was found that spc Ni/MgAl catalyst showed higher catalytic stability and inhibition of carbon formation than Ni/$\gamma-Al_2O_3$ catalyst under the tested conditions. The results suggest that the modified spc-Ni/MgAl catalyst after optimization may be applied for the SR reaction of diesel.
Li2O-Al2O3-SiO2 system glasses contained P2O5, TiO2 and ZrO2as the nucleating agents were melted and formed. The glass was subsequently heated first to nucleate and then to grow the crystals. At constant nucleating agent content the base glass compositions were varied and the influences of these variations on the crystallization behaviour were investigated. The study was made by measurement of thermal expansion coefficient, differential thermal analysis, X-ray diffraction analysis, scanning electron microscope observation and transmission measurement of crystallized glass specimen in visible region. It was shown that the content of crystalline phase decreased with increasing SiO2 content as well as decresing Li2O in the base glass compositions. As the result of X-ray diffrection analysis, the major crystal was $\beta$-quartz solid solution. The degree of crystallinity which was calculated using the noncrystalline scattering methods increased in S-shape with increasing heat treatment time. This change was similar to that in thermal expansion coefficient. The transmissions of 5mm thick samples were 80-90% in visible ray region.
The present study describes a new technique to extract the primary silicon from an Al-Si alloy melt using centrifugal force during its solidification. The primary silicon was separated from an Al-50 wt.%Si alloy by centrifugal force in the form of a foam, which facilitated subsequent acid leaching to extract the pure silicon due to its wide surface area. The foam recovery after centrifugal separation was decreased as centrifugal acceleration was increased. The final recovery after acid leaching became closer to the solid fraction of the alloy, which was calculated from the Al-Si binary phase diagram, with increasing centrifugal acceleration due to the effective removal of the attached Al on the foam. The purity of the primary silicon obtained by the centrifugal separation method was over 99.99%, with only aluminum being also present.
Two shapes of crystals have been isolated by the interdiffusion of $Co(NCS)_2$ dissolved in methanol with 1,2-bis(2,2'-bipyridyl-6-yl)ethane (bbpe) dissolved in chloroform. The two crystals have been elucidated as $trans-Co^{II}(NCS)_2(bbpe)$ and $trans-Co^{II}(NCS)_2(bbpe){\cdot}2CHCl_3$, by X-ray crystallography, elemental analysis, IR, and thermal analysis. The two molecular structures are very similar except for the absence or presence of chloroform solvate molecules. The bbpe ligand coordinates to the cobalt(II) ion in an open-ended tetradentate mode, resulting in discrete mononuclear cobalt(II) complex. The cobalt atom adopts a typical octahedral arrangement with six nitrogen donating atoms with two NCS groups in trans positions. A significant solid-to-solid phase transition occurs presumably due to the change of conformationally flexible bbpe ligand. The formation of both crystals oeeurs in a successive two-step process, the formation of $trans-Co^{II}(NCS)_2(bbpe)$ and its transformation into $trans-Co^{II}(NCS)_2(bbpe){\cdot}2CHCl_3$. The thermal stability and favorable formation of the solvate crystals may be ascribed to the interaction between S atom of NCS group and Cl of chloroform.
In this study, Microstructure and tensile properties in arc brazed joints of 1000MPa grade DP steel using Cu-Si insert metal were investigated. The fusion zone was composed of Cu phase which solidified a little Fe and Si. The former phase formed due to dilute the edge of base material by arc, although Fe was not solid solution in Cu at the room temperature. Cu3Si particles formed by crystallization at $1100^{\circ}C$ during faster cooling. After the tensile shear test, there are no differences between the brazed joint efficiencies. The maximum joint efficient was about 37% compared to strength of base metal. It is better than that of arc brazed joint of DP steel using Cu-Sn filler metal. Fracture position of all brazing conditions was in the fusion zone. Crack initiation occurred at three junction point which was a stress singularity point of upper sheet, lower sheet and the fusion zone. And then crack propagated across the fusion zone. The reason why the fracture occurred at fusion zone was that the hardness of fusion zone was lower than that of base material and heat affected zone. The correlation among maximum load and hardness of fusion zone and EST at fractured position was $R^2=0.9338$. Therefore, this means that hardness and EST can have great impact on maximum load.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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